一种触摸屏及其制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种触摸屏及其制作方法。
【背景技术】
[0002]触摸屏作为一种全新的人机交互设备，有着生动直观的操作接口且符合人体的使用习惯，能让娱乐办公变得更加生动和放松，并且基于电容触摸屏的高透明度、耐用性、多点触摸等优势，在消费电子领域得到广泛的应用。OGS作为触摸屏的一种，因其简单的解决方案以及非常高的灵敏度，一直在顾客体验中占据优势地位。
[0003]但现有的OGS触摸屏工艺一般为5mask(金属桥)工艺或6mask(IT0桥)工艺，但ITO镀膜后会造成衬底基板翘曲变形，衬底基板表面的受力状态遭到ITO的冲击和破坏，基板表面强度变低。Griffith微裂纹理论:Griffith认为实际材料中总存在许多细小的裂纹或缺陷，在外力作用下，这些裂纹和缺陷附近就会产生应力集中现象，当应力达到一定程度时，裂纹就开始扩展而导致断裂，根据Griffith微裂纹理论可知，断裂并不是两部分晶体同时沿整个界面拉断，而是裂纹扩展的结果。衬底基板表面存在许多特别细小的纹理，当受力状态遭到ITO的冲击和破坏，基板表面强度变低，使得触摸屏的良率大大降低。
【发明内容】
[0004]本发明实施例的目的是提供一种触摸屏及其制作方法，该触摸屏通过在衬底基板上设置一层增强层，可以有效提高衬底基板的强度，从而提高整个触摸屏的强度，提高产品的良率。
[0005]本发明的实施例提供了一种触摸屏，包括衬底基板，还包括:设置于衬底基板表面的增强层，所述的增强层用于提高衬底基板的强度。减小了 ITO镀膜后造成衬底基板翘曲变形的几率，使得衬底基板表面的受力状态遭到ITO的冲击和破坏时，增强基板表面强度，从而降低了表面微小裂纹扩展而导致断裂的可能性。
[0006]例如，所述的增强层为透明光阻材料层，所述的透明光阻材料层上设置驱动电极和感应电极，以及位于驱动电极和感应电极之间的绝缘层。
[0007]在衬底基板上设置透明光阻材料层，使得衬底基板的表面的受力状态在受到电极层的冲击和破坏时，可以有效的保护衬底基板的压缩应力层的分布状态不受变化，从而增加产品表面的强度。
[0008]例如，透明光阻材料层的厚度范围为0.4?5um。
[0009]例如，透明光阻材料层的折射率大于1.67为高折射透明光阻材料层，具有消影的作用，可以充当消影层的功能，在减少制程的同时达到客户对消影效果的需求，有效的简化了工艺流程。
[0010]例如，所述的透明光阻材料层的折射率等于1.5为普通折射率的透明光阻材料，需要在透明光阻材料层制成后增加消影层，以达到消影的效果。
[0011]例如，在所述的透明光阻材料层和驱动电极间设置消影层，所述的消影层的材料为S12和Nb2O5,S12和Nb2O5的膜厚比例为1:4，所述的消影层的厚度为450A?500A，可以使得消影效果达到3级。
[0012]例如，在所述的感应电极上设置消影层，所述的消影层的材料为SiNxOy,所述的消影层的厚度为700A?900A，折射率为1.6?1.65，这种方法可以使得消影效果达到I级。
[0013]另外需要在所述的衬底基板周边设置一圈黑矩阵，以达到遮盖边缘走线，防止边缘走线可视，同时防止边缘漏光的作用。
[0014]本发明的实施例还提供了一种触摸屏制造方法，在衬底基板表面形成一层增强层，所述的增强层用于提高衬底基板的强度，所形成的增强层为透明光阻材料层。
[00?5]例如，所形成的透明光阻材料层的厚度为0.4um?Ium。在所形成的透明光阻材料层上采用高温镀膜工艺，温度范围为230°C?250°C，形成由氧化铟锡制成的驱动电极和感应电极，在驱动电极和感应电极之间形成一层绝缘层。
[0016]例如，所形成的透明光阻材料层的厚度为Ium?5um。在所形成的透明光阻材料层上采用低温镀膜工艺，温度范围为30°C?80°C，退火工艺参数为230?250°C/30mins，形成由氧化铟锡制成的驱动电极和感应电极，在驱动电极和感应电极之间形成一层绝缘层。
[0017]例如，所形成的透明光阻材料层的折射率大于1.67。
[0018]例如，所形成的透明光阻材料层的折射率等于1.5，在所形成的透明光阻材料层和驱动电极层间形成一层消影层。所述的消影层的材料为Si02和Nb205，Si02和M32O5的膜厚比例为1:4。所形成的消影层的厚度为450A?500A。
[0019]例如，当所形成的透明光阻材料层的折射率等于1.5，在所形成的感应电极层上形成一层消影层，所形成的消影层的材料为SiNxOy,所形成的消影层的厚度为700A?900A，所形成的消影层的折射率为1.6?1.65。
[0020]例如，在衬底基板与所述增强层之间采用黄光工艺制备形成的黑矩阵，所形成的黑矩阵位于所述衬底基板的周边。
[0021]本发明制作工艺简单，可实施性强，同时可以有效提高衬底基板以及贴合后触摸屏的表面强度，大大提高了产品的良率，同时很大程度上改善消影效果。
【附图说明】
[0022]图1为本发明一个实施例的触摸屏不意图；
[0023]图2为本发明黑矩阵设置于玻璃基板的俯视图；
[0024]图3为本发明另一个实施例的触摸屏不意图；
[0025]图4为本发明又一个实施例的触摸屏不意图；
[0026]图5为本发明一个实施例的触摸屏制作方法流程示意图；
[0027]图6为本发明另一个实施例的触摸屏制作方法流程示意图；
[0028]图7为本发明又一个实施例的触摸屏制作方法流程示意图；
[0029]图8为本发明又一个实施例的触摸屏制作方法流程示意图。
[0030]附图标记:
[0031]1-衬底基板；
[0032]2-透明光组材料层；
[0033]3-驱动电极；
[0034]4-绝缘层；
[0035]5-感应电极；
[0036]6-黑矩阵；
[0037]7-消影层。
【具体实施方式】
[0038]为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和【具体实施方式】对本发明作进一步详细描述。
[0039]本实施例提供一种触摸屏，如图1所示，包括衬底基板I，设置于衬底基板表面的增强层，所述的增强层用于提高衬底基板的强度。减小了 ITO镀膜后造成衬底基板翘曲变形的几率，使得衬底基板表面的受力状态遭到ITO的冲击和破坏时，增强基板表面强度，从而降低了表面微小裂纹扩展而导致断裂的可能性。
[0040]例如，所述的增强层为透明光阻材料层2，所述的透明光阻材料层2上设置驱动电极3和感应电极5，以及位于驱动电极和感应电极之间的绝缘层4。
[0041]在衬底基板I上设置透明光阻材料层2，使得衬底基板I的表面的受力状态在受到电极层的冲击和破坏时，可以有效的保护衬底基板I的压缩应力层的分布状态不受变化，从而增加产品表面的强度。
[0042 ] 例如，透明光阻材料层2的厚度范围为0.4?5um。
[0043]例如，透明光阻材料层2的折射率大于1.67为高折射透明光阻材料层2，该高折射透明光祖材料层具有消影的作用，可以充当消影层的功能，在减少制程的同时达到客户对消影效果的需求，有效的简化了工艺流程。
[0044]例如，如图2所示在所述的衬底基板I周边设置一圈黑矩阵6，以达到遮盖边缘走线，防止边缘走线可视，同时防止边缘漏光的作用。
[0045]本发明提供的另一个实施例，如图3所示，包括衬底基板1，设置于衬底基板表面的增强层，所述的增强层用于提高衬底基板的强度，所述的增强层为透明光阻材料层2，所述的透明光阻材料层2上设置驱动电极3和感应电极5，以及位于驱动电极和感应电极之间的绝缘层4。具体的，透明光阻材料层2的厚度范围为0.4?5um。所述的透明光阻材料层2的折射率等于1.5为普通折射率的透明光阻材料，需要在透明光阻材料层2制成后增加消影层，以达到消影的效果。
[0046]例如，在所述的透明光阻材料层和驱动电极间设置消影层7，所述的消影层7的材料为S12和Nb2O5, S12和Nb2O5的膜厚比例为1:4，所述的消影层7的厚度为450A?500A，可以使得消影效果达到3级。
[0047]例如，也可以在透明光阻材料层2制成后增加消影层7，以达到消影的效果，如图4所示。所述的消影层7的材料为SiNx0y，所述的消影层的厚度为700A?900A，折射率为1.6?1.65，这种方法可以使得消影效果达到I级。
[0048]在所述的衬底基板I周边设置一圈黑矩阵6，以达到遮盖边缘走线，防止边缘走线可视，同时防止边缘漏光的作用。
[0049]本发明提供了一种触摸屏制作方法的实施例，如图5所示为该方法的流程示意图，具体的: