显示触控装置的制造方法

文档序号:8771067阅读:364来源:国知局
显示触控装置的制造方法
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及显示触控装置,特别是涉及降低其反射率的结构。
【背景技术】
[0002] 随着科技进步,各种信息设备不断地推陈出新,例如手机、平板计算机、超轻薄笔 电、及卫星导航等。除了一般以键盘或鼠标输入或操控之外,利用触控式技术来操控信息设 备是一种相当直觉且受欢迎的操控方式。其中,显示触控装置具有人性化及直觉化的输入 操作接口,使得任何年龄层的使用者都可直接以手指或触控笔选取或操控信息设备,因此 越来越受市场欢迎。
[0003] 现有显示触控装置大致可分为触控组件及显示组件。触控组件与显示组件可分别 独立形成,再进行贴合,触控组件与显示组件之间具有光学胶,且触控组件位于显示组件的 外侧。
[0004] 在完成上述显示触控装置后,往往在最外侧贴附一层光学膜如抗反射膜、抗污膜、 及/或抗眩光膜。然而现有装置经实际测量,其反射率都偏高(>2. 5%)。过高的反射率会 让使用者在强环境光的环境下无法清楚辨识显示组件所显示的内容。
[0005] 综上所述,如何在不大幅改变制作工艺的情况下,有效降低显示触控装置的反射 率为重要课题之一。 【实用新型内容】
[0006] 本实用新型的目的在于提供一显示触控装置,以解决上述问题。
[0007] 为达上述目的,本实用新型提供一显示触控装置,包括显示组件、显示组件上的触 控组件、以及位于显示组件上的抗眩光膜,且抗眩光膜位于显示组件与触控组件之间。抗眩 光膜与显示组件的总眩光值介于60至80之间。
[0008] 该抗眩光膜是雾化处理的聚对苯二甲酸乙二酯。
[0009] 该抗眩光膜的厚度介于100微米至300微米之间。
[0010] 该抗眩光膜具有粗糙的表面,且该表面的算术平均粗糙度小于〇.2微米。
[0011] 该显示触控装置还包括一光学胶贴合该抗眩光膜与该显示组件。
[0012] 该显示触控装置还包括:盖板,位于该触控组件上;以及光学膜,位于该盖板上。
[0013] 该显示触控装置还包括一光学胶贴合该抗眩光膜与该触控组件。
[0014] 该光学膜包括抗反射膜、抗污膜、另一抗眩光膜、或上述的组合。
[0015] 该光学膜的厚度介于400nm至600nm之间。
[0016] 该显示触控装置还包括:屏蔽层,位于该抗眩光膜上并位于该抗眩光膜与该触控 组件之间;基板,位于该屏蔽层上并位于该屏蔽层与该触控组件之间;盖板,位于该触控组 件上;以及光学膜,位于该盖板上。
[0017] 该显示触控装置还包括一第一光学胶贴合该抗眩光膜与该屏蔽层。
[0018] 该显示触控装置还包括一第二光学胶贴合该触控组件与该盖板。
[0019] 该光学膜包括抗反射膜、抗污膜、另一抗眩光膜、或上述的组合。
[0020] 该光学膜的厚度介于400nm至600nm之间。
[0021] 本实用新型的优点在于,上述显示触控装置不需大幅改变制作工艺,且可有效降 低显示触控装置的反射率。
【附图说明】
[0022] 图1为本实用新型一实施例中显示触控装置的示意图;
[0023] 图2为本实用新型一实施例中显示触控装置的示意图;
[0024] 图3为本实用新型一实施例中显示触控装置的示意图;
[0025] 图4为本实用新型一实施例中液晶显示器对不同波长的入射光的反射率曲线的 示意图。
[0026] 符号说明
[0027] 10 显示触控装置
[0028] 11 显示组件
[0029] 11A、33 基板
[0030] 11B 液晶层
[0031] 11C 对向基板
[0032] 13 抗眩光膜
[0033] 15 触控组件
[0034] 15A、15C触控电极结构
[0035] 15B 绝缘层
[0036] 21 光学胶
[0037] 23 盖板
[0038] 25 光学膜
[0039] 31 屏蔽层
【具体实施方式】
[0040] 为降低显示触控装置的反射率,本案揭露一种显示触控装置10如图1所示。在图 1中,显示触控装置10包括显示组件11、抗眩光膜13、与触控组件15。显示触控装置10可 包括但不限于应用在互动广告系统、卖场优惠订购系统、门禁识别系统、信息查询系统、提 款系统、或可携式移动装置。
[0041] 在本实施例中,显不组件11可例如为液晶显不器(IXD),其包括基板11A、液晶层 11B、以及对向基板11C。举例来说,基板11A可为数组(阵列)基板,而对向基板11C可 为彩色滤光片基板。在其他实施例中,基板11A或对向基板11C之一者为数组上彩色滤光 片(COA)或彩色滤光片上数组(AOC)基板,而另一者为单纯的基板而无数组与彩色滤光 片设置其上。在另一实施例中,显示组件11也可为电子纸、电子阅读器、电致发光显示器 (ELD)、有机电致发光显示器(OELD)、真空荧光显示器(VFD)、发光二极管(LED)、阴极射线 管(CRT)、等离子体显示面板(PDP)、数字光学处理器(DLP)、硅基板上液晶显示器(LCoS)、 有机发光二极管(0LED)、表面传导电子发射显示器(SED)、场发射显示器(FED)、量子点激 光电视、液晶激光电视、铁电液晶显示器(FLD)、干涉测量调节显示器(iMOD)、厚膜介电电 致发光器(TDEL)、量子点发光二极管(QD-LED)、屈伸像素显示器(TTO)、有机发光敏晶体管 (0LET)、光致变色显示器、激光荧光体显示器(LTO)、或类似物。
[0042] 在本实施例中,上述触控组件15包含触控电极结构15A与15C,彼此之间隔有绝 缘层15B。触控电极结构15A具有第一轴向的电极图案,而触控电极结构15C具有第二轴 向的电极图案,其中第一轴向与第二轴向交错配置,比如相互垂直。在此实施例中,上述电 极结构包含承载基板。在其他实施例中,上述电极结构直接形成于盖板,而不包含承载基 板。触控电极结构15A与触控电极结构15C可为金属纳米导线、透明导电膜、或金属网格 (metalmesh)。上述金属纳米导线可为纳米银线(silvernanowire)或纳米碳管(carbon nanotube),而透明导电膜可为铟锡氧化物(IT0)、铟锌氧化物(IZ0)、掺氟氧化锡(FT0)、掺 错氧化锌(AZ0)、掺镓氧化锌(GZ0)、或石墨稀(graphene)等导电物。上述绝缘层15B其具 有透光的特性。举例来说,绝缘层可为光学胶,使触控电极结构15A全贴合于触控电极结构 15C上。在另一实施例中,绝缘层可为基板,而触控电极结构15A与触控电极结构15C分别 形成于基板的两侧上。在本实用新型其他实施例中,触控组件15可为其他结构,而不限于 上述的三层结构。举例来说,在一些实施例中,触控组件15仅包含单层触控电极结构,在此 情况下,单层触控电极结构具有多个电极图案,可同时侦测第一和第二轴向的触控信号。在 一些实施例中,单层触控电极结构具有第一和第二轴向的电极图案,其中第一轴向与第二 轴向交错配置,比如相互垂直。在此实施例中,同一行的第一轴向的电极图案彼此电连接, 而第二轴向的电极图案则与第一轴向的电极图案电性隔离。绝缘层位于第一和第二轴向的 电极图案上,而架桥层经由绝缘层的接触孔电连接同一列的第二轴向的电极图案。
[0043] 上述显示组件11的眩光值通常大于100,但搭配抗眩光膜13后,两者的总眩光值 可降低至60至80之间。上述眩光值的测量方法,以BYK-Gardner的微眩光计测量60度的 眩光值。在本实用新型一实施例中,以光学胶贴合抗眩光膜13与显示组件11,值得
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