一种负离子电脑机箱的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种负离子电脑机箱。
【背景技术】
[0002]随着社会的发展，电脑已成为人们办公的常用工具，然而，现有的办公环境一般都是多个人处在一个小房间内，或者自己封闭在一个工位上，这样会严重影响一整天面对电脑上班的工作人员的身体健康。
[0003]现有技术中公开了一种“具有空气处理功能的电脑机箱”，见公开号为:102184000A，公开日为:2011-09-14的中国专利，包括箱体、能够对空气进行清新处理的空气处理器，空气处理器设于箱体上。该发明电脑机箱具有空气处理器，可以对空气进行清新处理，不同的空气处理具有不同的清新功能；通过选择不同的空气处理器，可具有除臭、抗污、杀菌等功能，对空气起净化清新的作用。但是该实用新型的结构与本专利申请的并不相同，本专利申请能充分的将负离子发生器产生的负离子，充分的扩散到空间，且是利用电脑机箱的电源进行供电，无需外接电源线，降低制作成本。
【发明内容】
[0004]本实用新型要解决的技术问题，在于提供一种负离子电脑机箱，将负离子发生器产生的负离子，充分的扩散到空间中，而且利用了电脑的电源，能改善工作人员的办公环境，结构简单，具有较好的实用价值。
[0005]本实用新型是这样实现的:一种负离子电脑机箱，所述电脑机箱的盖板内侧设置有一喇叭状导风管；所述的喇叭状导风管内设置有一负离子发生装置，所述负离子发生装置的电源线由所述喇叭状导风管侧壁的一通孔引出；所述喇叭状导风管的一端口与所述电脑机箱主板上的散热风扇的出风口连接；且该散热风扇的出风口与负离子发生装置相对应；所述喇叭状导风管的另一端口与所述盖板连接，且该盖板上与所述喇叭状导风管的另一端口对应的区域开设有若干个通风孔。
[0006]进一步地，所述相邻两通风孔之间的距离为10~15mm。
[0007]本实用新型的优点在于:本实用新型充分利用电脑主板的散热风扇，将负离子发生器产生的负离子，充分的扩散到空间中，而且利用了电脑的电源，能改善工作人员的办公环境，结构简单，具有较好的实用价值。利用电脑主板的散热风扇，无需增加其他器件，因此制作成本低。
【附图说明】
[0008]图1为本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】
[0009]请参阅图1所示，本实用新型的一种负离子电脑机箱，所述电脑机箱的盖板I内侧设置有一喇叭状导风管2 ;所述的喇叭状导风管2内设置有一负离子发生装置3，所述负离子发生装置3的电源线4由所述喇叭状导风管2侧壁的一通孔(未图示)引出；所述喇叭状导风管2的一端口与所述电脑机箱主板(未图示)上的散热风扇5的出风口 6连接；且该散热风扇5的出风口 6与负离子发生装置3相对应；这样利用电脑主板的散热风扇，无需增加其他器件，因此，设备制作成本低。所述喇叭状导风管2的另一端口与所述盖板I连接，且该盖板I上与所述喇叭状导风管2的另一端口对应的区域开设有若干个通风孔7。
[0010]其中，本实用新型的所述相邻两通风孔7之间的距离为10~15mm。这样能更有利于负离子扩散到空间中。
[0011]总之，本实用新型充分利用电脑主板的散热风扇，将负离子发生器产生的负离子，充分的扩散到空间中，而且利用了电脑的电源，能改善工作人员的办公环境，结构简单，具有较好的实用价值。
[0012]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，凡依本实用新型申请专利范围所做的均等变化与修饰，皆应属本实用新型的涵盖范围。
【主权项】
1.一种负离子电脑机箱，其特征在于:所述电脑机箱的盖板内侧设置有一喇叭状导风管；所述的喇叭状导风管内设置有一负离子发生装置，所述负离子发生装置的电源线由所述喇叭状导风管侧壁的一通孔引出；所述喇叭状导风管的一端口与所述电脑机箱主板上的散热风扇的出风口连接；且该散热风扇的出风口与负离子发生装置相对应；所述喇叭状导风管的另一端口与所述盖板连接，且该盖板上与所述喇叭状导风管的另一端口对应的区域开设有若干个通风孔。
2.根据权利要求1所述的一种负离子电脑机箱，其特征在于:所述相邻两通风孔之间的距离为10~15_。
【专利摘要】本实用新型提供了一种负离子电脑机箱，所述电脑机箱的盖板内侧设置有一喇叭状导风管；所述的喇叭状导风管内设置有一负离子发生装置，所述负离子发生装置的电源线由所述喇叭状导风管侧壁的一通孔引出；所述喇叭状导风管的一端口与所述电脑机箱主板上的散热风扇的出风口连接；所述喇叭状导风管的另一端口与所述盖板连接，且该盖板上与所述喇叭状导风管的另一端口对应的区域开设有若干个通风孔。本实用新型充分利用电脑主板的散热风扇，将负离子发生器产生的负离子，充分的扩散到空间中，而且利用了电脑的电源，能改善工作人员的办公环境，结构简单，具有较好的实用价值。
【IPC分类】G06F1-20, G06F1-18
【公开号】CN204557334
【申请号】CN201520254760
【发明人】揭凯琳
【申请人】揭凯琳
【公开日】2015年8月12日
【申请日】2015年4月25日