一种高硬度抗划伤易制作表面电容式触摸屏的制作方法

文档序号:9014899阅读:123来源:国知局
一种高硬度抗划伤易制作表面电容式触摸屏的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于触摸屏技术领域,具体涉及一种高硬度抗划伤易制作表面电容式触摸屏。
【背景技术】
[0002]相对于目前市场上常见的投射式电容触摸屏,表面电容式触摸屏可实现24英寸以上大尺寸电容屏制作,其表面电容屏Sensor层外通过磁控派射Si形成20nm S12保护层,表面硬度5H,易划伤导致外观受损、功能失效,且加工难度大,成本较高。
【实用新型内容】
[0003]为了解决目前表面电容式触摸屏表面易划伤、寿命短的问题,本实新型提供一种高硬度抗划伤易制作表面电容式触摸屏。
[0004]本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
[0005]一种高硬度抗划伤易制作表面电容式触摸屏,包括支撑框架,支撑框架内部设置有触摸屏,该触摸屏最底层设置有玻璃层,玻璃层上部设置有ITO导电层,ITO导电层上部设置有Sensor层,Sensor层中设置有多个分段式电极;Sensor层上部设置有硅复合树脂层O
[0006]进一步地,ITO导电层的方块电阻为400-500 Ω/ 口。
[0007]进一步地,硅复合树脂层的厚度为30nm,表面硬度莫氏为9H。
[0008]该实用新型触摸屏,在玻璃层上溅射形成一层ITO导电层,方块电阻为400-500Ω/ 口。ITO导电层边缘通过特有的分段式电极构建一个分时的均匀静电场平面,通过矩形区域的四角引入电流,为均匀ITO导电层平面进行充电放电,构成表面电容式触摸屏的Sensor层,低方块电阻降低溅射镀膜难度,增大四角电极充放电电流强度,提高触摸屏灵敏度。在Sensor层上通过超声波分散注射喷涂工艺形成一层厚度30nm的硅复合树脂层,烘烤处理后表面硬度莫氏9H。相对于普通表面电容式触摸屏5H表面硬度,大大提升抗划伤性能,提高产品寿命。采用喷涂工艺形成薄膜制作难度远远小于真空磁控溅射镀膜,提尚广品制作效率,良率。
[0009]该实用新型的有益效果在于:该实用新型中,利用低方块电阻降低溅射镀膜难度,增大四角电极充放电电流强度,提高触摸屏灵敏度。硅复合树脂层烘烤处理后表面硬度莫氏9H,相对于普通表面电容式触摸屏5H表面硬度,大大提升抗划伤性能,提高产品寿命。采用喷涂工艺形成薄膜制作难度远远小于真空磁控溅射镀膜,提高产品制作效率,良率。
【附图说明】
[0010]图1是本实用新型实施例中所使用装置俯视结构示意图。
[0011]图2是本实用新型实施例中所使用装置截面结构示意图。
[0012]图中标记说明:图中标记说明:1、支撑框架;2、触摸屏;3、硅复合树脂层;4、 Sensor层;5、玻璃层;6、分段式电极;7、ITO导电层。
【具体实施方式】
[0013]下面结合附图对本实用新型的【具体实施方式】进行描述,以便更好的理解本实用新型。
[0014]如图1所示的高硬度抗划伤易制作表面电容式触摸屏,包括支撑框架1,支撑框架I内部设置有触摸屏2,如图2所示,该触摸屏2最底层设置有玻璃层5,玻璃层5上部设置有ITO导电层7,ITO导电层7上部设置有Sensor层4,Sensor层4中设置有多个分段式电极6 ; Sensor层4上部设置有娃复合树脂层3。
[0015]该实用新型触摸屏2,在玻璃层5上溅射形成一层ITO导电层7,方块电阻为400-500 Ω / 口。ITO导电层2边缘通过特有的分段式电极6构建一个分时的均匀静电场平面,通过矩形区域的四角引入电流,为均匀ITO导电层7平面进行充电放电,构成表面电容式触摸屏的Sensor层4,低方块电阻降低溅射镀膜难度,增大四角电极充放电电流强度,提高触摸屏灵敏度。在Sensor层4上通过超声波分散注射喷涂工艺形成一层厚度30nm的硅复合树脂层3,烘烤处理后表面硬度莫氏9H。相对于普通表面电容式触摸屏5H表面硬度,大大提升抗划伤性能,提高产品寿命。采用喷涂工艺形成薄膜制作难度远远小于真空磁控溅射镀膜,提高产品制作效率,良率。
[0016]以上所述是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种高硬度抗划伤易制作表面电容式触摸屏,包括支撑框架,支撑框架内部设置有触摸屏,其特征在于:所述该触摸屏最底层设置有玻璃层,所述玻璃层上部设置有ITO导电层,所述ITO导电层上部设置有Sensor层,所述Sensor层中设置有多个分段式电极;所述Sensor层上部设置有娃复合树脂层。2.根据权利要求1所述的高硬度抗划伤易制作表面电容式触摸屏,其特征在于:所述ITO导电层的方块电阻为400-500 Ω / 口。3.根据权利要求1所述的高硬度抗划伤易制作表面电容式触摸屏,其特征在于:所述硅复合树脂层的厚度为30nm,表面硬度莫氏为9H。
【专利摘要】本实用新型涉及一种高硬度抗划伤易制作表面电容式触摸屏,包括支撑框架,支撑框架内部设置有触摸屏,该触摸屏最底层设置有玻璃层,玻璃层上部设置有ITO导电层,ITO导电层上部设置有Sensor层,Sensor层中设置有多个分段式电极;Sensor层上部设置有硅复合树脂层。ITO导电层的方块电阻为400-500Ω/□。硅复合树脂层的厚度为30nm,表面硬度莫氏为9H。该实用新型利用低方块电阻降低溅射镀膜难度,增大四角电极充放电电流强度,提高了触摸屏灵敏度;硅复合树脂层烘烤处理后表面硬度莫氏9H,大大提升抗划伤性能,提高了产品寿命;采用喷涂工艺形成薄膜制作难度远远小于真空磁控溅射镀膜,提高了产品制作效率,良率。
【IPC分类】G06F3/044
【公开号】CN204667373
【申请号】CN201520419751
【发明人】石涛, 黄建华
【申请人】成都众晟科技有限公司
【公开日】2015年9月23日
【申请日】2015年6月17日
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