专利名称：硬化并润滑的加载/卸载斜面及其制备方法
技术领域：
本申请一般与磁盘驱动器有关，尤其与用于磁盘驱动器中的加载/卸载斜面有关。
背景技术：
磁盘驱动器是用来以磁的形式在信息存储磁盘上的旋转的存储介质上存储数字数据的数据存储设备。现代的磁盘驱动器包含一个或多个刚性的信息存储磁盘，在磁盘外部涂有可磁化介质，且被安装在主轴电机的轴心上，使其可以以恒定的高速旋转。信息一般是通过安装在径向传动器上的传感器阵列(“磁头”)存储在磁盘上的多个同心圆磁道上，磁头可以沿着磁盘表面上的弧形运动。每个同心磁道被大致地分成了多个独立的可寻址的数据扇区。记录传感器，如磁致电阻读/写磁头，被用于在目标磁道和外部环境之间传输数据。在写操作期间，数据被写在磁道上，而在读操作期间，磁头读出以前写在碟片磁道上的数据，并将信息传输到主机系统。磁盘驱动器的总的存储信息的能力是依赖于磁盘驱动器的记录密度。
传感器是通过从传动器主体径向向外伸出的多个传动器臂的末端上的弯曲部分被安装在滑块或磁头上的。传动器主体围绕安装在磁盘驱动器上，所处位置紧靠磁盘外端的轴旋转。中枢轴和主轴电机以及磁盘的转动轴相平行，这样传感器就在和磁盘表面平行的平面上移动。
通常，这样的旋转传动器采用一种音圈电机来将传感器置于磁盘表面上。传动器音圈电机包括安装在传动器主体上与传感器臂相对一边的线圈，以使它被浸在磁回路的磁场中，这个磁回路包括一个或多个永磁体以及可导磁极片。当受控直流电(DC)经过线圈时，就建立起了电磁场，该电磁场和磁回路的磁场产生交互作用，致使线圈依据著名的洛伦兹关系来进行移动。当线圈移动时，传动器主体围绕中枢轴上旋转，并且传感器越过磁盘表面。这样传动器允许传感器以弧形的方式在磁盘的内圈和外圈之间来回移动。
当停止-启动接触式磁盘驱动器被断开电源时，传感器被自动地移至磁盘表面上的存储位置，或者说是“停放”位置。停放位置通常是靠近磁盘数据存储区域靠内的或靠外的外围，并处在其以外，这通常被称为停靠区域。该停靠区域一般不包含任何可用数据，因为传感器静止地物理接触到磁盘。结果，存储在该区域的任何数据都将可能被丢失或危及安全。此外，停靠区域一般都会比较粗糙，以最小化传感器对于磁盘表面的静摩擦力。
其他磁盘驱动器使用加载/卸载斜面以推进传感器从磁盘到邻近磁盘的放置位置的移动。在磁盘驱动器中的加载/卸载斜面通常是固定的并被置于信息存储磁盘的外围部分。通过传感器/悬臂组合移动到磁盘的外部边缘部分，然后穿过斜面的倾斜部分到达加载/卸载斜面的停放位置来完成传感器从磁盘介质的移动。就这样，传感器被物理地停靠到离开信息存储磁盘的表面。
使用加载/卸载斜面在断开电源的条件下存放传感器，对于传统的在磁盘表面上存放传感器的停靠区域设计的使用有几个优点。首先，使用加载/卸载斜面可以消除静摩擦力的影响和与传感器在磁盘的停靠区域被断开电源有关的摩擦失效。第二，信息存储磁盘有保护性的碳外涂层，它至少部分地被需要支持传感器停靠区域的相互作用。在缺少这个相互作用时，在磁盘表面上就可以使用较薄的碳外涂层。在信息存储磁盘上的较薄碳外涂层考虑到了传感器对磁盘介质间距的减少及记录密度相应增加的设计。最后，通过停放传感器头离开信息存储磁盘表面而进入加载/卸载斜面，大量磁盘空间就可用于数据存储，这也引起了记录密度的增加。
然而，在磁盘驱动器中加载/卸载斜面的使用也由几点不足，其中之一就是在传感器/悬臂组合和加载/卸载斜面之间的许多互相作用会导致在加在/卸载斜面和传感器/悬臂组合两者的表面上的磨损和合成碎片的形成。在磁盘驱动器中碎片的形成是磁盘驱动器业中的主要影响，因为它可以导致磁盘错误和最终磁盘失效。这样，最小化在加载/卸载斜面和传感器/悬臂组合之间的磨损和摩擦是磁盘驱动器技术中的主要影响。
目前，通过在低摩擦低磨损塑性外形成斜面以及通过用TeflonTM基础润滑剂润滑传感器/悬臂组合或更适合地润滑加载/卸载斜面来最小化在加载/卸载斜面和传感器/悬臂组合之间的摩擦。然而，在加载斜面表面上润滑剂的适量管理以及制造成本低廉的有润滑膜的加载/卸载斜面的管理，在磁盘驱动器技术中仍是现存的不足。对于这个背景就产生了此项发明。
发明概述根据此项发明，通过用抵御磨损和碎片形成的硬化薄膜改变加载/卸载斜面就解决了以上问题和其他问题。在硬化薄膜上再附加润滑膜以减少摩擦。
本发明的一个实施例是具有旋转地安装在主轴电机上的信息存储磁盘的磁盘驱动器。磁盘驱动器进一步包括在信息存储磁盘表面上指示传感器的传动器和加载/卸载斜面。加载/卸载斜面被置于邻近信息存储磁盘的外围部分以在传感器离开信息存储磁盘的时候支承传感器。加载/卸载斜面外部涂有硬化薄膜。
本发明的另一个实施例是减少磁盘驱动器中碎片形成的方法，其中磁盘驱动器包括旋转地安装在主轴电机上的信息存储磁盘；邻近信息存储磁盘，在信息存储磁盘表面上引导传感器的传动器组件和邻近信息存储磁盘，支撑离开磁盘表面的传感器的加载/卸载斜面。该方法包括形成加载/卸载斜面、在加载/卸载膜上放置硬化薄膜和在硬化薄膜上放置润滑膜的步骤。
通过以下的详细描述以及参考相关附图的阅读，本发明所特有的这些特点和不同其他的特点以及优点将会变得明显。
附图简述
图1是结合本发明的较佳实施例显示加载/卸载斜面和其他主要内部组件的磁盘驱动器的平面图。
图2是根据本发明较佳实施例的加载/卸载斜面的分解透视图。
图3是根据本发明较佳实施例显示硬化层和润滑层的沿着图1中线3-3的截面图。
图4是根据本发明较佳实施例的传动器臂穿过加载/卸载斜面的分解透视图。
图5是根据本发明较佳实施例制作加载/卸载斜面方法的流程图。
详细描述图1中显示了根据本发明的较佳实施例构造的磁盘驱动器100。磁盘驱动器100包括安装磁盘驱动器100的不同组件的底座102。顶盖(没有显示)和底座102合形成在传统方式中磁盘的内部封闭的环境。组件包括以固定很高速率旋转一个或多个磁盘106的主轴电机104。在磁盘106上通过传动器组件108的使用在磁道105中写入以及读取信息，传动器组件在寻道操作期间围绕置于邻近磁盘106的承载轴组件110旋转。传动器组件108包括多个向磁盘106伸展的传动器臂112，从每个传动器臂112伸展出一个或多个弯曲部分114。安装在每个弯曲部分114末梢的是被插入能使传感器116非常接近地在相关磁盘106的相应表面117上飞行的空气轴承滑块(没有显示)。此外，从弯曲部分114的末端118侧面伸展的是以下将要更详细描述的与加载/卸载斜面结合的提升接头120。值得注意的是弯曲部分提升接头纯粹被用于说明性的作用，其他与加载/卸载斜面互相作用的结构也可被看作在本发明的范围内。
在寻道操作期间，传感器116的磁道105位置通过使用音圈电机(VCM)126控制，音圈电机一般包括连在传动器组件108上的线圈128，以及建立线圈108浸入磁场的一个或多个永磁体130。可控地施加电流到线圈128使得在永磁体130和线圈128之间引起磁的相互作用，以使线圈128依照著名的洛伦兹关系运动。当线圈128移动时，传动器组件108围绕承载轴组件110旋转，并且使得传感器116越过磁盘106表面移动。
当磁盘驱动器100不在扩展时间段使用时，主轴电机104通常是被断开电源的。把传感器116从磁盘106表面上移动到位于信息存储磁盘106外圈132的加载/卸载斜面122。传感器116在加载/卸载斜面122上穿过，通过使用在停放传感器116时防止传动器组件108无意旋转的传动器闭锁装置(没有显示)被固定在适当位置。
弯曲组件136在操作期间允许传动器组件108旋转运动时为传动器组件108提供必备的电子连接路径。弯曲组件136包括连接磁头电线(没有显示)的印刷电路板(没有显示)；磁头电线沿着传动器臂112和弯曲部分114布线到达传感器116。印刷电路板通常包括在写入操作期间控制应用于传感器116的写入电流的电路和在读取操作期间放大由传感器116产生读取信号的前置放大器。弯曲组合136终止于弯曲支架以通过底盘102与安装于磁盘驱动器100底边的磁盘驱动器印刷电路板(没有显示)通信。
如以上的简单讨论，根据本发明的较佳实施例磁盘驱动器100有加载/卸载斜面以在关机期间或在等待条件下抓住并固定离开磁盘106表面的传感器116。因为传动器组件108以弧形的方式在磁盘106的内圈和外圈之间来回移动，所以加载/卸载斜面122有大致弧形的形状，它在传动器臂摆向磁盘106外圈132时排列并放置于传动器组建108末梢顶端移动路径中。
图2是加载/卸载斜面122的透视图。加载/卸载斜面122通常被固定于在信息存储磁盘106外圈132的底盘102上以使加载/卸载斜面122不会妨碍传感器116的操作。加载/卸载斜面122的结构包括邻近信息存储磁盘106外圈132的采集部分142以及信息存储磁盘106伸展出来的存储部分144。采集部分142形成有倾斜表面146的大致弯曲类似楔形结构以滑动一般与在弯曲部分114末梢顶端的提升接头120的接合。
从加载/卸载斜面122的采集部分142伸展的是大致平坦的加载/卸载斜面122的存储部分144。大体上，加载/卸载斜面122的存储部分144是有弯曲侧面152的固体补偿传动器组件108的弧线运动。存储部分144在倾斜表面146的顶端148上并邻近它以纵向稍微伸展形成墙和或面150。在存储部分侧边152形成横向凹槽或狭缝154。凹槽154从墙150开始伸展，沿着存储部分144的长度，到达存储部分144的末梢顶端156。凹槽底面与传动器的旋转表面实际平行并与采集部分142倾斜表面146的顶端结合。凹槽154的深度和高度一般是均匀的并应该最好对于弯曲部分提升接头120的承受是足够的以使当传动器旋转从磁盘106离开时，弯曲部分提升接头120缩上倾斜表面146并直接进入且沿着凹槽154。凹槽功能支持提升接头120，并通过在震动情况或磁盘驱动器关闭或等待条件期间把提升接头120限制于凹槽中阻止提升接头120的纵向移动。
应该值得注意的是，本发明的实施例并不限于支持只在信息存储磁盘106一边上的传感器头的加载/卸载斜面122。虽然图中只显示了一个加载/卸载斜面122，但是当加载/卸载斜面122被配置为出现在信息存储磁盘106两边时本发明的实施例也是可行的。在图2-4中显示的一般配置同样应用于位于邻近所示信息存储磁盘106底面外圈的第二斜面结构。另外，以上加载/卸载斜面122结构的描述只是为了说明性的目的，任何与传动器组件108互相作用而从信息存储磁盘106移去传感器116的加载/卸载斜面122结构是在本发明的范围内的，因为加载斜面的创造性特点不特别依赖加载/卸载斜面的结构特点的问题。
加载/卸载斜面122更好地包括任何磁盘驱动器100相容的聚合物。一般在本发明实施例中使用的聚合体是低摩擦低磨损的塑料。低摩擦低磨损的塑料包括，但不仅限于，液晶聚合物家族成员，比如由Ticona生产的Vectra A430等等。
如图3中所示，硬膜160至少涂于倾斜表面146以及位于沿着加载/卸载斜面存储部分144的横向凹槽154的底面。硬薄膜比用于形成加载/卸载斜面的低摩擦低磨损塑料要硬。就这样，硬化薄膜160最小化了由弯曲部分提升接头120-加载/卸载斜面122互相作用引起的在加载/卸载斜面122上的磨损以及来自斜面的碎片形成。应用于加载/卸载斜面122的合适硬化薄膜160必须是很硬的，也就是在70GPQ到以上的范围内，并且在正常磁盘驱动器操作条件下是热稳定的。典型的涂复材料包括，但不仅限于，碳膜比如类碳宝石(DLC)、硅的氮化物膜、钛的氮化物膜、钛的碳化物膜等等。关于碳膜，薄膜可以是氢化的、氮化的或既氢化又氮化的。另外，在比如氩纯惰性气体下沉积的正常无定形碳也被看作为在本发明的实施例范围内。更适宜地，加载/卸载斜面122被涂有氢化碳膜，比如氢化DLC。
通常，在加载/卸载斜面122上硬化涂层的厚度至少大约100埃，而最大厚度通过减少成本效益来确定。适合地，硬化涂层160在大约100埃到大约500埃之间，更适合地，硬化涂层160在大约100埃到大约250埃之间并且最适合地，硬化涂层160在大约100埃到大约150埃之间。
通常，在把硬化涂层160应用于加载/卸载斜面122之前，加载/卸载斜面122要用丙酮进行清洗和漂洗并用ID水进行漂洗。清洗过程不仅帮助了有机润滑脂的清除而且增加了加载/卸载斜面和沉积硬化薄膜160之间的附着力。更好地，用在25到50KHz范围内的超声振动完成清洗步骤，这也帮助了来自加载/卸载斜面122表面的污物、油脂、油污等等的清除。根据清除过程的效果可以改变超声波的频率到25至50KHz范围以上或以下。就这样，加载/卸载斜面122被浸入丙酮槽中并接收超声波，从槽中拿去并最好用丙酮或酒精漂洗。清洗后的加载/卸载斜面然后被浸入ID水槽中并最好在ID水槽中再接受第二轮的超声振动，范围还在25到50KHz。
硬化表面160通常使用任何几种不同的喷涂方法沉积在加载/卸载斜面上。典型的方法包括，但不仅限于，直流(DC)以及交流(AC)磁电管喷涂、射频(RF)二极管喷涂、DC二极管喷涂、RF磁电管喷涂、DC磁电管喷涂、AC磁电管喷涂、高能源喷涂和离子束喷涂。通常，在流水线喷涂系统中实现喷涂技术虽然是静态喷涂系统也被看作在本发明的实施例范围内。更适合地，在流水线喷涂系统中用双重直流(DC)及交流(AC)磁电管喷涂应用硬化表面160。
通过例子中的方法，加载/卸载斜面122涂有氢化碳膜。DLC膜在18mTorr压力下在15％氢/85％氩的混合气体中被沉积。沉积作用的功率密度是83Watts/in2并且在加载/卸载斜面上的沉积率大约是3.5埃每秒。碳膜在50摄氏度的底层温度下被沉积以避免塑料的脱气。
在硬化涂抹地加载/卸载斜面附加润滑层162以最小化加载/卸载斜面122上提升接头120和硬化涂层160间的摩擦系数。对于最佳的提升接头120与加载/卸载斜面122的互相作用需要0.2以下最好0.15以下的摩擦系数。本发明实施例所使用的润滑剂必须和磁盘驱动器100相容并可以包括，但不仅限于，全氟聚醚等等。润滑层162的厚度在大约200埃到大约500埃之间，更适合地在大约200埃到350埃之间并且最适合地在大约200埃到250埃之间。大于550埃的润滑层162厚度将导致会污染磁盘100内部的润滑剂微滴的形成。可选择地，小于大约150埃的润滑层162厚度将会对涂在加载/卸载斜面122上的硬化表面160不提供足够的润滑特性。
润滑层162的厚度由应用于加载/卸载斜面的润滑剂浓度控制。就这样，润滑剂通常以在溶剂中润滑剂的百分比合剂的形式应用于加载/卸载斜面122。典型的制造商名称的润滑剂包括Z-Tetraol、Z-DOL和X1P。典型制造的在以上提及的润滑剂中使用的溶剂包括，但不仅限于HFE、AK225和PF5060。
通过把硬化涂抹加载/卸载斜面放进与超声振动结合的包含润滑剂的槽中更好地实现把润滑层应用于硬化涂抹地加载/卸载斜面。如以上，超声频率一般在25到50KHz范围内，虽然也可以使用其它频率。超声振动帮助去除窝留气泡和降低来自加载/卸载斜面表面的表面张力，这样就为在硬化涂层160上的均匀润滑层做准备。通常，在一段短时间后超声振动不再继续以使加载/卸载斜面能在润滑剂槽中经历短暂的静态浸泡。
以下提供了把润滑层162应用于加载/卸载斜面122的例子碳涂抹的加载/卸载斜面被浸泡在含有1％克/克的Z-Tetraol/Vertrel。加载/卸载斜面被浸泡在这个槽中30秒并经受25kHz到50kHz范围内的超声振动，接着在同样的润滑剂合剂中静态浸泡15秒。就以上提到的，在加载/卸载斜面上润滑剂的厚度是由润滑剂槽中润滑剂的浓度控制的。例如在Vertrel溶剂中润滑剂的工作浓度通常是在以重量的0.3％克/克到10％克/克范围内的。
参照图4，当传感器116要被移开信息存储磁盘106时，就把传动器组件旋转到磁盘106的外圈132直到提升接头120接合并沿着加载/卸载斜面122采集部分142的倾斜表面146行进。提升接头继续到倾斜表面的顶端并继续沿着凹槽直到它通过传动器闭锁组件的传动器的停止。
在图5中显示了一个制备有硬化涂层和润滑层的加载/卸载斜面的方法。在操作500中，提供或形成加载/卸载斜面。处理控制然后传送到操作502。在操作502中加载/卸载斜面被浸入通常包含丙酮或其他类似材料的清洗槽中。处理控制然后传送到操作504。在操作504中当被浸入于丙酮槽的同时加载/卸载斜面受到25到50kHz范围内的超声振动。处理控制然后传送到操作505。在操作505中，加载/卸载斜面用丙酮进行漂洗。处理控制然后传送到操作506。在操作506中用DI水从加载/卸载斜面漂洗丙酮和其他相关材料，并且可选择地经受超声振动。处理控制然后传送到操作508。在操作508中加载/卸载斜面通常通过碳膜的喷涂被涂上硬化表面，这个表面在清洗后的加载/卸载斜面表面上有100到500埃的厚度。处理控制然后传送到操作510，接着是512。在操作510和512中在被浸入润滑剂槽的同时硬化涂复的加载/卸载斜面受到超声振动以分解或释放任何在加载/卸载斜面表面上的窝留气泡。处理控制然后传送到操作514。在操作514中，没有继续超声振动并且加载/卸载斜面保持被浸入在静态的润滑剂槽中。最后，进程控制传送到操作516，其中从静态润滑剂槽中拿出加载/卸载斜面并允许晾干。
总之，在这里描述的发明的较佳实施例是针对有旋转地安装在转轴电机(比如104)上的信息存储磁盘(比如106)的磁盘驱动器(比如100)的。磁盘驱动器包括在信息存储磁盘(比如106)表面(比如117)上引导传感器(比如116)的传动器组件(比如108)和位于邻近信息存储磁盘(比如106)外围部分(比如132)以当传感器离开信息存储磁盘的时候支撑传感器(比如116)的加载/卸载斜面(比如122)。加载/卸载斜面(比如122)被涂上硬化薄膜(比如160)。
在另一个发明的较佳实施例中硬化薄膜的材料是基于碳的、硅的氮化物或钛的碳化物。
在另一个发明的较佳实施例中硬化薄膜(比如160)有100埃到500埃之间的厚度。
在另一个发明的较佳实施例中硬化薄膜(比如160)有100埃到250埃之间的厚度。
在另一个发明的较佳实施例中硬化薄膜(比如160)有100埃到150埃之间的厚度。
在另一个发明的较佳实施例中硬化薄膜(比如160)用磁盘驱动器相容的润滑层(比如162)覆盖。
在另一个发明的较佳实施例中润滑层(比如162)由全氟聚醚组成。
在另一个发明的较佳实施例中润滑层(比如162)是200埃到500埃厚。
在另一个发明的较佳实施例中润滑层(比如162)是200埃到350埃厚。
在这里描述的发明的另一个较佳实施例是针对减少磁盘驱动器中碎片形成的方法，其中磁盘驱动器包括旋转地安装在主轴机(比如104)上的信息存储磁盘(比如106)、邻近信息存储磁盘(比如106)的传动器组件(比如108)和邻近信息存储磁盘(比如106)以支撑传感器离开磁盘(比如106)时的加载/卸载斜面(比如122)。该方法包括准备或形成加载/卸载斜面(比如在步骤500中)，在加载/卸载斜面上沉积硬化薄膜(比如在步骤508中)，以及在硬化薄膜上沉积润滑膜(比如步骤510或514中)的步骤。
在发明另一个较佳实施例中方法进一步包括在斜面被浸入丙酮槽中的同时对加载/卸载斜面进行超声振动(比如在步骤502中)以及在加载/卸载斜面上沉积硬化薄膜之前用DI水漂洗加载/卸载斜面(比如在步骤506中)的步骤。可以使用喷涂技术在加载/卸载斜面上沉积硬化薄膜。
在发明另一个较佳实施例中方法进一步包括在斜面被浸入润滑剂槽中的同时对加载/卸载斜面进行超声振动(比如在步骤510或512中)以及从润滑剂槽中移去斜面(比如在步骤516中)的步骤。
在发明另一个较佳实施例中方法进一步包括在首先对润滑剂槽中的加载/卸载斜面进行超声振动之后把加载/卸载斜面浸泡在润滑剂槽中(比如在步骤514中)的步骤。
清楚的是使本发明充分适应达到所提到的目标和好处以及其中那些内在固有的特点。虽然公开描述了目前较佳实施例时，还可进行各种变化和修改，这些都充分地在本发明的范围内的。可以进行许多其他的变化能使其很容易地就浮现在本领域技术人员的脑海中并且被包含在公开的发明精神中和所说明的附加要求中。
权利要求
1.一种具有旋转地安装在主轴电机上的信息存储磁盘的磁盘驱动器，磁盘驱动器包含在信息存储磁盘表面上引导传感器的传动器组件；以及加载/卸载斜面，靠近信息存储磁盘的外围部分，以在传感器离开信息存储磁盘时支撑传感器，其中，加载/卸载斜面被涂上硬化薄膜。
2.按权利要求1所述的磁盘驱动器，其特征在于从包括基于碳的膜、基于硅的氮化物的膜、钛的氮化物膜和基于钛的碳化物的膜的组中选择硬化薄膜材料。
3.按权利要求1所述的磁盘驱动器，其特征在于硬化薄膜是在100埃到500埃厚之间的。
4.按权利要求1所述的磁盘驱动器，其特征在于硬化薄膜是在100埃到250埃厚之间的。
5.按权利要求1所述的磁盘驱动器，其特征在于硬化薄膜是在100埃到150埃厚之间的。
6.按权利要求1所述的磁盘驱动器，其特征在于硬化薄膜用磁盘驱动器相容的润滑剂覆盖。
7.按权利要求6所述的磁盘驱动器，其特征在于润滑剂膜材料是全氟聚醚。
8.按权利要求6所述的磁盘驱动器，其特征在于润滑剂膜是200埃到500埃厚之间的。
9.按权利要求6所述的磁盘驱动器，其特征在于润滑剂膜是200埃到350埃厚之间的。
10.一种减少磁盘驱动器中碎片形成的方法，其特征在于磁盘驱动器有旋转地安装在主轴电机上的信息存储磁盘；靠近信息存储磁盘并在信息存储磁盘表面上引导传感器的传动器组件和靠近信息存储磁盘以支撑离开磁盘的传感器的加载/卸载斜面，方法包括的步骤有(a)形成加载/卸载斜面；(b)在加载/卸载斜面上沉积硬化薄膜；以及(c)在加载/卸载斜面的硬化薄膜上沉积润滑膜。
11.如权利要求10所述的方法，其特征在于硬化薄膜沉积步骤(b)进一步包含的步骤有(b)(i)在加载/卸载斜面被浸入丙酮槽中的同时对加载/卸载斜面进行超声振动；(b)(ii)用DI水漂洗加载/卸载斜面；以及(b)(iii)在加载/卸载斜面上沉积硬化薄膜。
12.如权利要求10所述的方法，其特征在于润滑膜沉积步骤(b)进一步包含的步骤有(c)(i)在加载/卸载斜面被浸入润滑剂槽中的同时对加载/卸载斜面进行超声振动；以及(c)(ii)从润滑剂槽中移去加载/卸载斜面。
13.如权利要求10所述的方法，其特征在于润滑膜沉积步骤(b)进一步包含的步骤有(c)(i)在加载/卸载斜面被浸入润滑剂槽中的同时对加载/卸载斜面进行超声振动；(c)(ii)把加载/卸载斜面浸泡在润滑剂槽中；以及(c)(iii)从润滑剂槽中移去加载/卸载斜面。
14.如权利要求10所述的方法，其特征在于硬化薄膜沉积步骤(b)进一步包含的步骤有(b)(i)在加载/卸载斜面被浸入丙酮槽中的同时对加载/卸载斜面进行超声振动；(b)(ii)用DI水漂洗加载/卸载斜面；以及(b)(iii)使用从包括直流(DC)以及交流(AC)磁电管喷涂、RF二极管喷涂、DC二极管喷涂、RF磁电管喷涂、DC磁电管喷涂、AC磁电管喷涂、高能源喷涂和离子束喷涂的组中选择的喷涂方法把硬化薄膜喷涂在加载/卸载斜面上。
15.一种减少磁盘驱动器中碎片形成的磁盘驱动器加载/卸载斜面，加载/卸载斜面包含由低摩擦低磨损的聚合物形成的加载/卸载斜面；以及聚合物上用于减少磁盘驱动器中碎片形成的装置。
全文摘要
磁盘驱动器加载/卸载斜面结合了硬化薄膜的涂层，硬化薄膜涂层提供了一个表面，它更耐磨损并且更不可能在正常硬盘驱动器使用期间导致碎片形成。硬化薄膜材料通过喷涂技术被沉积，它包括，但不仅限于DLC、硅的氮化物和钛的碳化物。磁盘驱动器相容的润滑剂层被加在硬化薄膜上以减小摩擦。在有加载/卸载斜面的磁盘驱动器中较少碎片形成的方法包括首先在加载/卸载斜面上沉积硬化薄膜，接着在硬化薄膜上沉积润滑剂层。
文档编号G11B5/54GK1421032SQ01804690
公开日2003年5月28日 申请日期2001年2月5日 优先权日2000年2月9日
发明者S·J·费于勒, 陈其旭, 辛成, N·C·麦克劳德, 刘友民 申请人:西加特技术有限责任公司