专利名称：照射层上斑点的方法和装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种按权利要求1前序部分的照射一层的方法，及按权利要求7前序部分的照射层的装置。
此类方法和装置可从WO-A-02/13194中了解。按照此出版物所述的方法和装置被用来制造光学扫描信息载体。根据这个制造过程，首先制造一个主模，然后利用主模或用该主模制造的子模采用复制过程制造信息载体。为制造主模，利用一个光学透镜系统把一个已调制照射束引导和聚焦到一个被衬底携带的光敏层上的扫描斑点上，同时衬底和透镜系统彼此相对运动。光敏层和与之相对的透镜系统最近表面之间的间隙用一种液体填满。
为使衬底相对透镜系统运动，一个承载衬底的工件台可以绕一条旋转轴线旋转。利用一个移动装置，透镜系统可通过一个径向元件相对于工件台的旋转轴线移动。一个液体供应装置把液体送到光敏层和透镜系统一个最近光学表面之间的间隙内。
这种现有的方法和装置的一个问题是，要照射的层各相继部分的浸润很容易破坏，比如说，当层和透镜系统彼此相对运动太快时，由于液体被从引导向照射斑点的照射通过的那部分间隙区域带走时，就容易发生这种情况。这种浸润也可能由于透镜系统和层彼此相对运动方向的重大变化而破坏。通过把要照射的层和光学元件最近光学表面之间的距离做得很小，可以改善被照射层和光学元件最近光学表面间液体薄膜的稳定性。但是，这样有可能使该装置(特别是最靠近被照射层的透镜)很容易在透镜系统和层彼此相对运动中因接触而损坏。
另一种将照射束打到光敏层上的斑点的方法和装置在JP-A-10255319中有说明。根据这种方法，将一种光敏层加在由玻璃做的盘形衬底上。工件台和衬底绕垂直衬底延伸的旋转轴线旋转，而透镜系统以较低速度沿径向相对于旋转轴线移动，因此在光敏层上形成的照射束扫描斑点沿着一条螺旋形轨迹。照射束(在此装置中为激光束)经过调制，以在螺旋形轨迹上形成一系列照射和非照射元素，这个系列对应于被制造信息载体上所要求的信息元素系列。随后将光敏层显影，使得被照射元素消失，并在光敏层内形成一系列凹陷。接着，在光敏层上溅射比较薄的一层铝，然后用电镀法在此铝层上镀上比较厚的一层镍。随之将这样形成的镍层从衬底上除掉并形成将要制造的主模(按上面所述的制作方法)，它具有带一系列高出部分的盘形表面，与被制造的信息载体上所希望的信息元素系列相对应。这样制造的主模很适合用在所要求信息载体的制造上，但通常要采用复制过程由主模制成一系列所谓的子模。利用这些子模通过另一个复制过程(通常是注入模制过程)来制造所要求的信息载体。按照这种方法，所需比较昂贵的主模数量有限。对这种利用主模或利用由主模制造的子模制造具有凹窝形信息元素的光学扫描信息载体的方法，大家都很熟悉也经常采用。
光敏层和与之面对的透镜系统的透镜之间的间隙用水填满。为此目的，现有装置提供一个流出口，它位于工件台旋转轴线附近。在离心力作用下，通过流出口提供的水几乎在光敏层整个表面上散开，因此间隙也被水填满。由于水的光学折射率远大于空气，故间隙内有水后使得扫描斑点处从照射束发出的射线与透镜系统光轴所成的角度显著增大。其结果是照射束在光敏层上形成的斑点尺寸大为减小，因此在光敏层上可形成数量大得多的照射和非照射元素，故被制造的信息载体具有较高的信息密度。
在另一个应用实例中，透镜和被照射表面之间的间隙一直用液体元满，采用的是光学成象方法和装置(如光学投影光刻)，其中由投影到该表面的照射形成的斑点生成一个图象或一部分图象。国际专利申请书W099/49504对这种方法和装置作了说明。
这些方法和装置的一个缺点是，在透镜和平行于该表面的表面之间的相对移动过程之中和之后，在间隙中形成的液体薄膜不总是能可靠地完全维持以及保持在均匀条件下。结果在光敏层中造成错误显影。另外，透镜和表面间相对运动引起的液体薄膜状况的变化使得作用于透镜系统的力改变。由于透镜系统支撑的刚性有限，被液体薄膜施加的可变力造成透镜系统不希望有的变化，这又进一步干扰图象投影到该表面上的精确性。此外，必须提供比较大量的液体以将照射通过的间隙部分中的液体体积保持固定。其结果是现有装置的尺寸必须很大，才能防止液体和装置其它部件间出现不希望有的接触。
本发明的一个目标是，在光学元件和层相对移动的较大相对速度和方向范围内，保持最接近要照射的层的光学表面和该照射通过的层之间的间隙部分充满液体。
本发明的另一个目标是降低由于光学元件和被照射的层之间的不经意接触造成损坏的风险。
按照本发明，这些目标是通过提供一种如权利要求1所述的方法来实现的。本发明还提供一种为执行权利要求1所述方法的装置(如权利要求7所述)。
一条沟槽把液体作为一个层供给，它将提供的液体沿着自身纵向配给，并将已配给的液体分散在层上。因而，完成光学功能的间隙部分可保持充满液体，而不太受透镜和层彼此间相对运动方向和速度的变化的影响。
由于这种方法和装置对于光学元件和层彼此间相对移动速度和方向及其变化不太敏感，这不仅对于制造层相对光学元件运动方向最多只有很小变化的光学信息载体或其模子有好处，而且在诸如光学成象等其它一些应用中也有益，尤其是在用来生产半导体器件的光学投影光刻的晶片步进机和晶片扫描机等应用中，这种情况下，当晶片相对于光学元件步进以把它带到晶片对面一个新的位置而将中间掩模版投影到晶片上一个新的斑点处、或把已投影的中间掩模版(掩模)在晶片下一区域上展开(扫描)时，光学元件相对于层的运动方向变化很大。那时斑点是由中间掩模版投影在晶片上的区域或者是由中间掩模版的一个连续的(一般为狭缝形)窗部分的活动投影区域形成的，这个窗部分好象是按照晶片相对于光学元件的运动沿着中间掩模版扫描而生成的。
本发明的一些具体实施例将在后面的权利要求书中讲到。
本发明的其它一些目标，特征和要旨及细节将通过对本发明的一个优选形式的详细描述而显现。
图1是用来把照射引导向层上一个斑点的装置的侧视图。
图2是如图1所示装置光学系统第一个实施例末端部分的剖视图，其中照射被引导向的层和液体流动处在工作状态。
图3是沿图2III-III线的底视图。
图4是如图1所示装置光学系统第二个实施例末端部分的剖视图，其中照射被引导向的层和液体流动处在工作状态。
图5是沿图4中V-V线的底视图。
图6是用于光学曝光的晶片步进机/扫描机的顶平面示意图。
在CD或DVD等光学扫描信息载体的制造中，用一个调制照射束7(如波长约260nm的DUV激光束)照射两面中的一面具有薄光敏层5的玻璃盘形衬底3(见图1)。为照射光敏层5，采用按本发明的一个装置实例25，下面将参照图1-3对该装置加以说明。利用一个光学系统(在本例中为包含一些透镜形式的光学元件的透镜系统9)将照射束7聚焦在光敏层5上的扫描斑点11处。透镜系统9包括一个物镜55(固定在透镜夹持器57上)。该透镜系统9还包括一个最末端透镜59，它是工作时处在最靠近层5的透镜系统9的光学元件之一。间隙53处在被照射层5和最接近层5的透镜系统9的一个光学元件之间。光学元件可能还包括透镜之外的其它东西，如滤光器、屏蔽罩、衍射光栅或镜子等。
层5和透镜系统9可彼此相对移动，使得光敏层5上的调制照射束7相继照射层5一系列隔开的照射部分，而不照射被照射部分之间的层部分。然后用显影液显影已照射的光敏层5，使衬底3上被照射的元素13消失而保留未被照射的元素15。也可以使未照射部分消失而留下被照射的部分。在两种情况下，都在光敏层5上形成一系列凹坑或突起，它们与要求的信息载体上凹陷形信息元素相对应。然后利用溅射过程在光敏层5上覆盖比较薄的一层镍等。接着在电镀过程中用一层较厚的镍将此层盖住。这个最终要从衬底3中除掉的镍层中，光敏层5内已形成的凹陷图形将在被制造的信息载体中留下一个相应的负图形，也即主模包含一系列突出的部分，对应于光敏层5内形成的凹陷形元素系列及所要求的信息载体上凹陷形信息元素系列。主模因此适于用作注入模制的模子，用于所需信息载体的注入模制。但是通常是用一个主模复制品代替主模作为注入模制的模子，此主模复制品一般叫做子模，是用大家熟知的惯用的复制过程由主模制成的。
带光敏层5的衬底3安置在工件台27上，此工件台可绕旋转轴线29旋转，旋转轴线垂直于工件台27和衬底3。工件台可用第一电动机31驱动。装置25还包含一个照射源33(在本例中为激光源)，它在一个固定位置与装置25的框架35相连接。可以看出，也可以从该装置外面获得照射。可以通过许多方式对引导向光敏层5的照射进行控制，例如通过控制照射源33和/或控制照射源33和光敏层5之间的光闸或照射转换器(未示出)。
光学透镜系统9固定在第一移动器37上，后者可用第一移动机构39相对于旋转轴线29径向移动(平行于图中的X方向)。为此，第一移动机构39包括一个第二电动机41，通过它可让第一移动器37在直线导轨43上移动，导轨平行于X方向且相对框架35固定不动。
与透镜系统9的光轴49在同一条线上的镜子45也固定在第一移动器37上。工作时由照射源33产生的照射束7跟随平行于X方向的照射束轨迹47，同时照射束7被镜子45沿平行于透镜系统9光轴49的方向偏转。通过注入模制51可让透镜系统9在其光轴方向49在相对第一移动器37而言在比较小的距离内移动，使得照射束7能聚焦在光敏层5上。利用第一电动机31可让带衬底5的工件台27以较高速度绕旋转轴线29旋转，而透镜系统9可利用第二电动机41以较低速度在平行于X方向移动，因此，照射束7打在层处的扫描斑点沿着光敏层5上的螺旋形轨迹，使得被照射或未被照射元素的踪迹沿着这条螺旋形轨迹。
装置25适合用来制造具有较高信息密度的主模，也就是说，利用装置25，每个单位面积光敏层5可以提供比较大量的照射元素。可达到的信息密度随着扫描斑点11变小而增加。扫描斑点11的尺寸决定于照射束7的波长和透镜系统9的数字孔径，后者取决于存在于透镜系统9和光敏层5之间的媒质的光学折射率。透镜系统9和光敏层5之间的媒质的光学折射率越大，扫描斑点11就越小。通常液体的光学折射率比空气大得多，因而束7通过的透镜系统9和光敏层5之间的间隙部分53保持用液体(此例中为水)填充。在本例中水还特别适用，因为它对所用的DUV照射束7是透明的，而且不会腐蚀光敏层5。
如图1所示，本例的装置25还包含一个液体清除机构77，它有一个抽取嘴79。此抽取嘴固定在装置25的第二移动器81上，它可以通过装置25的第二移动机构83相对于旋转轴线29在径向移动(根据本例是平行X方向)，而且可以提供另一个径向移动。为驱动第二移动器81，第二移动机构83包括一个与第二移动器相连的第三电动机85，用来使第二移动器沿直线导轨87移动，此导轨与框架35相连接并沿第二移动器81移动方向延伸。
工作时抽取嘴79通过第三电动机85移动。第三电动机85受到控制，使得透镜系统9和抽取嘴79不断处在离衬底3的旋转轴线29基本相等的距离处。这样，抽取嘴79保持在层5受照射部分通过的透镜系统9的下游位置，使得供给透镜系统9处的液体被旋转层5带至抽取嘴79处，接着被抽取嘴79从光敏层5抽走。由于水被这样从透镜系统9下游从光敏层5清除掉，因而基本防止了已经用过的水回流到间隙53而干扰在间隙53内已精确配备的液体流量。工作中抽取嘴79总处在离旋转轴线29一个距离R处，这相当于透镜系统9离旋转轴线29的距离R，抽取嘴79的尺寸和容量都只要比较小就可把已用过的液体清除。
图2和图3更详细地显示透镜系统9，带光敏层5的衬底3，及光敏层5和透镜系统9之间的间隙53。最靠近层5的透镜59有一个光学表面63面对着衬底3并最靠近衬底3。透镜55、59悬挂在壳体61内，壳体包含一个平壁65，它面对层5并基本处在离层5最近的垂直于透镜59的光轴的假想平面内。在离层5最近的透镜系统表面内，提供了一个凹坑92，它正对着照射束7被引导向的斑点11。最靠近层5的透镜59的表面63构成凹坑92的内表面。此表面63还界定照射斑点11的照射束7通过的那部分间隙。按照本例，最靠近层5的透镜59的这个表面63是一个凹面，故凹坑92最深的点是在中间，不过此表面也可以是平面或凸面。
工作中照射层5上的斑点11的照射束7通过的那部分间隙53保持被液体91充满。在凹坑92内，液体91至少在一定程度上不会从间隙53内带走。由于液体不太容易被从照射斑点11的照射束通过的那部分间隙中带走，因此使得因照射束通过的那部分间隙53未完全被液体填充而引起的相关光学畸变的可能性减少了。
另外，这允许平行于透镜55、59光轴测量的间隙53的最小尺寸比较大。这又减少了损坏最靠近层5的透镜59的风险，同时透镜倾斜的允许误差可以较大而不增加透镜59接触层5的风险。
凹坑92的位置和尺寸可以设置成使只有一部分照射束通过它。但是，为了特别有效地对整个照射束保护液体91，建议让凹坑92有一个最靠近层5的边缘部分93，它围绕着照射斑点11的照射束7延伸。因而，在液体91不会被带走的凹坑92内的那部分间隙53在照射束的整个横截面内延伸。
层5和壁65(即最接近层5的那部分透镜组件)间的最佳工作距离取决于两个因素。一方面该距离应足够大，以保持衬底3和透镜55、59及壳体61组件之间的距离具有足够的允差。另一方面，这个距离又不应太大，因为这样将需要太多的液体才能维持照射斑点11的照射束通过的那部分间隙53的浸润状态。如果液体是水，目前优选的最小间隙53厚度范围为3-1500μm，最好是3-500μm。如果液体的粘滞度比水大，则此最小间隙厚度大一些更好。另外，流出口的总宽度也对此最小间隙最佳范围的上限有影响，此最小间隙厚度最好小于(100+1/20*W)μm，式中W为在平行于层5的平面内测得的流出口的总宽度。
最小间隙厚度可以大于10μm左右，例如大于15、30和100μm，以减少对公差的敏感性。
为避免液体内出现气泡及可靠地维持照射斑点11的照射束7通过的那部分间隙53的充满状态，液体外流最好能使壁65和层5之间的液体体积保持不变，这个体积包括照射斑点11的照射束7通过的那部分间隙53上游的一部分间隙53(在与斑点11区域内层相对运动方向相反的方向)。因此形成了一个液体上游的安全范围，它能保证液体在上游方向被推压距离的变化不会破坏照射斑点11的照射束7通过的那部分间隙53的充满状态。
从平行于透镜系统109光轴的方向看过去，液体91通过的透镜系统9内最下游的流出口90，最下游的流出口在平行于层5的平面内具有一个总的投影横截面通道区域，其中心处在照射斑点11的照射束7通过的那部分间隙53内。因而液体流出的平均通路至少在一定程度上相对于照射斑点11的照射束7通过的那部分间隙53是居中的。所以，层5和透镜系统9在斑点11区域内彼此相对运动的方向可以有显著变化，而不会破坏照射斑点11的照射束7通过的那部分间隙53的完全浸润状态。即使层5的运动方向变化很大，液体的踪迹95仍将复盖照射斑点11的照射束7通过的那部分间隙53。但是，围绕照射束7的流出口90区域处在与束接近的位置，因此限制了层5被过分弄湿。
根据本发明，照射斑点11的照射束7通过的那部分间隙53在一定程度上相对于流出口90也是处于中心位置，使得从流出口90供给到间隙53的液体91的踪迹95完全浸润照射斑点11的照射束通过的那部分间隙，不仅在层5和至少一个透镜系统9彼此相对按箭头52(它指示层5相对于透镜系统9的运动方向)指示的方向运动时的斑点11位置下是这样，而且在层5和透镜系统9彼此相对按相反方向运动时的斑点11位置下也是这样。
在不破坏照射束通过的区域153的部分194浸润的情况下，层5和透镜系统9平行于层5的运动方向改变越多，该装置就越适合于斑点11需要在多变方向在层表面上运动的应用场合，例如在斑点是一个投影到层5上的二维图象的成象过程中。在这类应用中，透镜系统及透镜系统和照射表面间媒质之间的折射率较大的一个优点是，图象可以以高分辨率投影，这样又可以进一步小型化并/或改善可靠性。
这类应用的例子是用来加工制造半导体器件的晶片的光学投影光刻。为此所用的装置和方法示于图6。晶片步进机和晶片扫描机可从市场买到。因此这里不对这种方法和装置作详细描述，而主要是说明这类光学成象应用中提出的液体浸润概念。
按图6的投影曝光装置包括一个晶片支座12和位于它上面的具有一个透镜组件14的投影器13。图6中晶片支座12承载着一块晶片15，晶片上有许多区域16，它们将被一个束照射，此束把掩模或中间掩模版17的图象或一部分图象投影到与投影器13操作连接的扫描器18内。支座工件台可沿轴19、20在X和Y方向运动，轴由驱动器21、22驱动。轴驱动器21、22和扫描器18都连到一个控制单元23内。
通常在光学曝光中采用两种工作原理中的一种。在所谓的晶片步进机模式中，投影器将中间掩模版的完整图象投影到晶片15上各区域16中的一个上。当达到所需的曝光时间，光束就被关断或变暗，同时晶片被轴驱动器21、22移动，直至晶片的下一个区域16处在透镜组件14前面所要求的位置。根据已曝光区域和下一个要曝光区域的相对位置的不同，这可能要让透镜组件14沿晶片表面在许多不同方向作较快的移动。在中间掩模版图像投影到的晶片表面上的照射斑点的尺寸典型为20*20mm，但也可以大一些或小一些。
特别是在希望制造较大的半导体单元时，按另一种模式(通常叫做晶片扫描器模式)将图象投影较为有利。在那种模式中，只有中间掩模版的一个狭缝形部分被作为一个狭缝形斑点投影，此斑点的长度比它在晶片15表面上一个区域16内的宽度要大好几倍(如4倍或更多倍)。例如该斑点的典型尺寸为30*5mm。然后，被扫描的中间掩模版17沿着扫描窗运动，而晶片支座12在控制单元23的控制下相对于透镜组件14同步运动，其速度调节成使只有投影斑点，而不是被扫描的各局部中间掩模版图象部分投影到晶片上，相对于晶片15运动。因此，随着斑点在晶片上的推进，中间掩模版17的图象就作为相继各部分的“展现”而被转移到晶片的区域16上。当中间掩模版的移动窗部分被投影到晶片15上时，晶片15相对于透镜组件14的运动通常进行得较慢，而且一般每次只在相同的方向进行。在中间掩模版17的整个图形被投影到晶片15上之后，晶片15一般以快得多的速度相对于透镜组件14运动，以将中间掩模版17的下一个图形要投影到的下一个晶片15区域带到透镜组件14前面。根据晶片15已曝光区域16和将要曝光的晶片15下一个区域的相对位置不同，这个运动将在多变的方向上进行。在晶片15相对于透镜14移动之后(也即透镜或者透镜和晶片可能移动过)，为了重新开始照射晶片15的表面，最好让透镜14和晶片15的表面之间的照射束通过的间隙内的液体体积在那个运动完成后立即被填充，使得此空间在照射重新开始前被可靠地浸润。
如果照射束是波长为193nm的光，对于光学曝光也可以采用水。不过在某些场合下，其它的液体可能更合适。
回到图2和图3，由于凹坑92是被最靠近层5上斑点11(照射束7就照射在它上面)的透镜59表面63的凹部所界定，有一个凹坑92的好处是在照射到斑点11上的照射束7通过的整个间隙53部分94上与具有比较均匀的流动模式相融合。具体而言，在间隙53内可得到均匀流动模式的速度梯度。反过来，比较均匀的流动模式又有利于避免引起变动并得到连续而均匀的新鲜液体供应，从而获得均匀稳定的液体温度。这些效果对于避免对照射束7的光学干扰都有好处。
图3中用参考数字94标明的虚线圆周表示透镜59和层5之间照射束7通过的那部分间隙的周边。
为把液体91提供给透镜59和层5之间的间隙53，液体供应管道67经过壳体61并通向流出口90。根据本例，流出口90在表面54内具有沟槽形状，这种沟槽结构90对层5是敞开的，以将提供的液体91沿沟槽90纵向分配并把分配的液体分散到层5上。工作中，液体91是由沟槽结构90沿该沟槽结构90纵向分配的，而且液体91是从沟槽结构90分散到层5上。这样可产生一个比较宽的液体踪迹95，并使照射束7通过的间隙53部分94完全浸润，即使是透镜系统9和层5在平行层5平面的彼此相对运动方向变化很大。
沟槽90可以有各种形状。在图2和图3的实施例中，沟槽的形式使得流出口90处在照射束7的外面并围绕照射斑点11的照射束7通过的那部分间隙53的部分94延伸。从平行于透镜系统9光轴的方向来看，十字线96表示流出口90整个横截面通道区域的中心。
液体91最好在沟槽结构90和环境之间具有压差的情况下提供，这个压差正好足以保持照射束通过的那部分间隙53可靠地浸润。这样进入该表面的水量可维持最小。
另外，当液体91通过沟槽形流出口90散开时，间隙53(在本例中为层5和壁部65的表面54之间的距离)可能会大一些，这对破坏照射束通过的间隙部分94浸润不会造成很大的风险。因此，当液体从沟槽形流出口90散开时，移动机构27、31和透镜系统9的位置和尺寸最好能保持间隙53的最小厚度在3至500μm的范围内。
提供液体91的流速最好是这样它能可靠地保证在间隙53内具有基本上为线性速度分布的层流，且最好是均匀的Couette流。这种流将一个基本上不变的力施加到开有沟槽90的壁65及最靠近层5的透镜59的侧面63上。因此间隙53内的液体对透镜系统9施加基本上不变的液力。变动的液力可引起透镜系统9不希望有的变化，并因此造成照射束7在光敏层5上的聚焦误差和定位误差。这种流内最好不合空气，使照射束7不会被扰动。
图4和图5是用于图1和6所示装置的透镜系统109的第二个例子。按照此例，在液体供应沟槽167下游的流出口190也装有一个对层5敞开(也即在照射束107行进的方向上)的沟槽结构，但有一个不同的矩形形状(从透镜系统109的轴线方向看过去)。基本上为矩形的形状，对于可靠地浸润一个被照射束贯穿的矩形间隙区194是特别有利的，与此同时特别有利于在整个被贯穿的间隙153区域194维持一个均匀的液体流动模式，特别是当透镜系统109和层5的彼此相对运动是在垂直于矩形沟槽结构190的一条边的方向时。这种情况对于光学投影光刻是很典型的。
凹坑192由垂直于透镜系统9的轴线一个壁165内的一个通道195和最靠近斑点11的下一个透镜159表面界定，而最靠近斑点11的一个透镜159还界定照射斑点11的照射束107通过的那部分间隙153部分194。因而能有效地防止透镜159由于透镜系统109和衬底3上层5之间的偶尔接触而损坏。
权利要求
1.一种照射一层的方法，包括通过至少一个光学元件把照射束引导和聚焦到该层的斑点上；让该层相对于所述至少一个光学元件作相对运动，使该层各不同部分相继被照射，并且维持最接近该层的该至少一个光学元件的表面与该层之间的间隙；保持照射该层上的斑点的照射束通过的一部分间隙充满液体，该液体由一供应管道提供并从流出口流出；该方法的特征在于所述至少一个让液体流出的流出口以对该层敞开的至少一个沟槽的形式设置，所述沟槽沿它纵向分配所提供的液体并将分配的液体散开到该层上。
2.如权利要求1所述的方法，其中沟槽或多个沟槽所处位置从垂直于层方向看限定一总的横截面区，横截面区中心在照射该斑点的照射束通过的那部分间隙内。
3.如权利要求1或2所述的方法，其中间隙的最小厚度维持在3-1500μm。
4.如上述任一项权利要求所述的方法，其中至少一部分液体充满一凹坑，照射束通过该凹坑照射该斑点。
5.如权利要求4所述的方法，其中凹坑有一最接近所述层的周边部分，该周边部分围绕着照射所述斑点的照射束延伸。
6.如权利要求4或5所述的方法，其中凹坑包含最接近该层的至少一个光学元件的表面的凹面部分。
7.一种将照射引导向一层的装置，包括至少一个光学元件，用来将从照射源发出的照射束聚焦到该层上的斑点；用来使该层相对于所述至少一个光学元件作相对运动的移动机构，以相继照射该层各不同部分，并保持该层和最接近所述斑点的所述至少一个光学元件的表面之间的间隙；流出口，它将液体提供给工作时照射该层上的斑点的照射束通过的至少一部分间隙，该流出口在垂直于照射束轴线的平面内具有总的投影横截面通道区域；所述装置的特征在于所述至少一个流出口是由向所述层敞开的至少一个沟槽形成的，用来沿沟槽纵向分配所供应的液体，并将分配的液体散开在该层上。
8.如权利要求7所述的装置，其中该流出口或多个流出口位置是这样确定的，使得从平行于照射束轴线方向看过去，所述总的横截面区域处在照射所述斑点的照射束通过的那部分间隙内。
9.如权利要求7或8所述的装置，其中移动机构和沟槽的位置和尺寸做成能保持该间隙的最小厚度在3-1500μm。
10.如权利要求7-9中任一项所述的装置，其中在面对所述斑点的表面内设有凹坑，该凹坑的内表面界定照射该斑点的照射束通过的那部分间隙。
11.如权利要求10所述的装置，其中凹坑有一最接近该层的周边部分，所述周边部分围绕在工作时照射该斑点的照射束通过的那部分间隙延伸。
12.如权利要求10或11所述的装置，其中凹坑包含最靠近该斑点的所述至少一个光学元件表面的凹面部分。
全文摘要
为照射一个层，照射束引导并聚焦到该层上的斑点，使该层相对于光学元件作相对运动，使得层各不同部分相继被照射，并保持该层和最接近该层的光学元件的表面之间的间隙。另外，照射束通过并照射该层上斑点的至少一部分间隙被液体充满，液体由一供应管道提供，并经过平行于该层的平面内一总的投影横截面通道区从流出口流出。该流出口或许多流出口的位置选成使当从垂直该层的方向看过去时，总的横截面区域的中心处在照射束通过并照射该斑点的那部分间隙内。
文档编号G11B7/135GK1729522SQ200380107122
公开日2006年2月1日 申请日期2003年11月20日 优先权日2002年12月19日
发明者H·范桑坦, J·H·M·奈泽恩 申请人:皇家飞利浦电子股份有限公司