专利名称：具有高存储密度的光记录材料的制作方法
技术领域：
本发明涉及尤其在350～500nm波长范围记录和回放品质优异的新光记录材料。能够非常有利地在同一波长实现高灵敏度的记录和回放，并且可达到的存储密度显著高于已知材料所达到的。另外，本发明材料具有非常好的记录前和记录后的贮存性能，即便在特别严酷的条件下，例如，暴露于日光或荧光照明、热和/或高湿度。另外，它们的制造简单并且容易采用惯用涂布方法，例如，旋涂，达到重现。
背景技术：
WO 02/082438公开离子盐，包括具有金属络合阴离子的那些，作为光记录材料的应用。那些着色剂总是在氮原子上取代上烷基、链烯基、芳基或杂芳基。但是，它们的光学性能尚不充分满足提高的要求。具体地说，其固态折光指数及其吸收以及长波侧吸收带的陡度依然存在着某些有待改进之处。
JP-A-11/34500、JP-A-11/92479和EP-A-0 903 733公开下列通式着色剂的硼配合物 和 它们被用作520～690nm范围的光记录材料如CD-R或DVD-R。然而，同样，光学性能，特别是为达到可能的最高存储密度所需要的紫外和近紫外范围的光谱性能，以及单位表面面积的信息密度，不能满足所欲最高要求。单位表面面积的信息密度远不尽人意。
因此，传统光记录材料只能在一定程度上满足高要求，或者不能同时百分百满意程度地满足所有要求。
另一方面，J.Org Chem.67/16，5753-5772 描述了多种双(邻氮杂杂芳基)甲烷及其针对二价过渡金属的配位性能，其中杂芳基是1，3-吡咯-2-基、1，3-苯并吡咯-2-基和吖嗪基，而过渡金属是Zn、Cu、Co、Ni、Hg和Pd。特别是公开了双(苯并噻唑-2-基)甲烷和双(苯并噁唑-2-基)甲烷与氯化铜(II)和硫酸镍(II)，以及氯化钴(II)和硝酸钯(II)的2∶1盐配合物，而双(噻唑-2-基)甲烷则通过脱质子化生成与Zn(II)、Cu(II)、Ni(II)和Co(II)的中性2∶1螯合物。所有物质都强烈着色。
发明内容
本发明的目的是一种具有高信息密度、灵敏度和数据可靠性的光记录介质。此种记录介质应坚牢、耐久和容易使用。另外，它作为大量生产的产品应能低成本地制造并且所要求的设备尽可能小和便宜。
因此，本发明涉及一种光记录介质，它包含基材、记录层和任选地一个或多个反射层，其中记录层包含通式(I) 的化合物或其互变异构体，其中G1和G2彼此独立地是 或 A1和A2彼此独立地是N(R12)、O、S或Se，而A3是C(C1～C5烷基)2、C(C4～C5亚烷基)、N(R12)、O、S、Se、N＝C(R13)或未取代的或者R14-取代的CH＝CH；M1是族IX～XII的过渡金属，优选Co、Cu、Ni、Pd或Zn，尤其是Co、Cu或Ni；Q1和Q2彼此独立地是C(R15)、N或P；R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R14彼此独立地是氢、R18或C6～C12芳基、C4～C12杂芳基、C7～C12芳烷基或C5～C12杂芳烷基，各自是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R18；或R1和R2、R3和R4、R5和R6、R5和R13和/或R5和R14，一起成对地，是C3～C6亚烷基或C3～C6亚烯基，它们每一个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R17，并且可以是不间断的或者被O、S或N(R12)中断的，或者亚1，4-丁-1，3-二烯基、 或 它们每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R18，且其中1或2个碳原子已被氮原子置换；R9、R12和R13各自彼此独立地是C1-C24烷基、C3～C24环烷基、C2～C24链烯基、C3～C24环烯基、C1～C4烷基-[O-C1～C4亚烷基]m或C1～C4烷基-[NH-C1～C4亚烷基]m，它们每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R17；或C6～C12芳基、C4～C12杂芳基、C7～C12芳烷基或C5～C12杂芳烷基，它们每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R18；R10、R11和R18各自彼此独立地是卤素、硝基、氰基、氰硫基、羟基、O-R19，O-CO-R19，S-R19，CHO，COR20，CHOR19OR23，CR20OR19OR23，R16，N＝N-R16，N＝CR19R20，N＝CR21R22，C(R15)＝NR19，C(R15)＝NR21，C(R15)＝CR21R22，NH2，NH-R19，NR19R20，NH3+，NH2R19+，NHR19R20+，NR19R20R23+，CONH2，CONHR19，CONR19R20，SO2R19，SO2NH2，SO2NHR19，SO2NR19R20，COOH，COOR19，OCOOR19，NHCOR19，NR19COR23，NHCOOR19，NR19COOR23，脲基，NR19-CO-NHR23，B(OH)2，B(OH)(OR19)，B(OR19)OR23，磷酸根合，PR19R23，POR19OR23，P(＝O)OR19OR23，OPR19R23，OPR19OR23，OP(＝O)R19OR23，OP(＝O)OR19OR23，OPO3R19，硫酸根合、磺基，或C1～C12烷基、C3～C12环烷基、C1～C12烷硫基、C3～C12环烷硫基、C1～C12烷氧基或C3～C12环烷氧基，每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R17；R15是氢、氰基、羟基、C1～C12烷氧基、C3～C12环烷氧基、C1～C12烷硫基、C3～C12环烷硫基、氨基、NHR24、NR25R26、R27、卤素、硝基、甲酰基、N＝N-R27、C(R14)＝CR21R22、C(R14)＝NR19、COO-R25、羧基、氨基甲酰基、CONH-R25、CONR25R26、N＝CR19R20或C1～C12烷基、C3～C12环烷基、C2～C12链烯基或C3～C12环烯基，每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的卤素、羟基、C1～C12烷氧基或C3～C12环烷氧基基团；R16是C6～C12芳基、C4～C12杂芳基、C7～C12芳烷基或C5～C12杂芳烷基，它们每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R28；R17是卤素、羟基、O-R25、O-CO-R25、S-R25、NH2、NH-R25、NR25R26、NH3+、NH2R25+、NHR25R26+、NR24R25R26+、NR25-CO-R24、NR25COOR24、氰基、甲酰基、COO-R25、羧基、氨基甲酰基、CONH-R25、CONR25R26、脲基、NH-CO-NHR24、NR25-CO-NHR24、磷酸根合、PR25R24、POR25OR24、P(＝O)OR25OR24、OPR25R24、OPR25OR24、OP(＝O)R25OR24、OPO3R25、OP(＝O)OR25OR24、SO2R25、硫酸根合、磺基、R27、N＝N-R27或C1～C12烷氧基或C1～C12环烷氧基，每个是未取代的或取代上一个或多个卤素；R19、R20和R23彼此独立地是R16或C1～C12烷基、C3～C12环烷基、C2～C12链烯基或C3～C12环烯基，每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的卤素、羟基、C1～C12烷氧基或C3～C12环烷氧基基团；或者R14和R19一起，R15和R19一起和/或R19和R23一起是C2～C12亚烷基、C3～C12亚环烷基、C2～C12亚烯基或C3～C12亚环烯基，它们每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的卤素、羟基、C1～C12烷氧基或C3～C12环烷氧基基团；或者R19和R20连同共同的氮一起是吡咯烷、哌啶、哌嗪或吗啉，它们每个是未取代的或取代上1～4个C1～C4烷基；或者咔唑、吩噁嗪或吩噻嗪，它们每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R28；R21和R22彼此独立地是NR25R26、CN、CONH2、CONHR19、CONR19R20或COOR20；R24、R25和R26彼此独立地是C1～C12烷基、C3～C12环烷基、C2～C12链烯基、C3～C12环烯基、C6～C12芳基、C4～C12杂芳基、C7～C12芳烷基或C5～C12杂芳烷基；或者R25和R26与共同氮一起是吡咯烷、哌啶、哌嗪或吗啉，它们每个是未取代的或取代上1～4个C1～C4烷基；R27是C6～C12芳基、C4～C12杂芳基、C7～C12芳烷基或C5～C12杂芳烷基，它们每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R18；R28是硝基、SO2NHR25、SO2NR25R26或C1～C12烷基、C3～C12环烷基、C1～C12烷硫基、C3～C12环烷硫基、C1～C12烷氧基或C3～C12环烷氧基，每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R17；并且m是1～10的数。
当R5与R6构成桥时，R5可能同时不与R13或R14构成桥。
要知道，酸性基团，例如，羧基、磺基、硫酸根合和磷酸根合也可呈盐的形式，例如，呈碱金属、碱土金属、铵或鏻盐，例如，Li+、Na+、K+、Mg2+、Ca2+、Cu2+、Ni2+、Fe2+、Co2+、Zn2+、Sn2+、La3+、铵、甲基铵、乙基铵、异丙基铵、TMPrimene 81-R、TMRosin Amine D、十五烷基铵、TMPrimene JM-T、二环己基铵、四甲基铵、四乙基铵、四丁基铵、苄基三甲基铵、苄基三乙基铵、甲基三辛基铵、三(十二烷基)甲基铵、四丁基鏻、四苯基鏻、丁基三苯基鏻或乙基三苯基鏻，或者在US-6 225 024中提到的阳离子B-1～B-169中任何一个，在此将该文献单独收作参考。
卤素是氯、溴、氟或碘，优选氟或氯，尤其是在烷基上的氟(例如，三氟甲基、α，α，α-三氟乙基或全氟化烷基基团，例如，七氟丙基)和在芳基、杂芳基上或在芳烷基的芳基部分上或者在杂芳烷基的杂芳基部分上的氯。
烷基、环烷基、链烯基或环烯基可以是直链或支化的，或者单环或多环的。烷基，例如是，甲基、直链C2～C24烷基或者优选地支化的C3～C24烷基。链烯基例如是直链C2～C20链烯基或者优选地支化的C3～C24链烯基。因此，本发明还尤其涉及包含支化C3～C24烷基或支化C3～C24链烯基的通式(I)的化合物，还涉及包含此类化合物的光记录材料。因此C1～C24烷基，例如是，甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、异丁基、叔丁基、正戊基、2-戊基、3-戊基、2，2-二甲基丙基、正己基、正辛基、1，1，3，3-四甲基丁基、2-乙基己基、壬基、癸基、十二烷基、十四烷基、十六烷基、十八烷基、二十烷基、二十一烷基、二十二烷基或二十四烷基。C3～C24环烷基是，例如，环丙基、环丁基、环戊基、环己基、三甲基环己基、_基、苧基、冰片基、1-金刚烷基或2-金刚烷基。
C2～C20链烯基和C3～C20环烯基是单或多不饱和的C2～C20烷基和C3～C20环烷基，其中2或更多个双键可以是孤立的或者是共轭的，例如，乙烯基、烯丙基、2-丙烯-2-基、2-丁烯-1-基、3-丁烯-1-基、1，3-丁二烯-2-基、2-环丁烯-1-基、2-戊烯-1-基、3-戊烯-2-基、2-甲基-1-丁烯-3-基、2-甲基-3-丁烯-2-基、3-甲基-2-丁烯-1-基、1，4-戊二烯-3-基、2-环戊烯-1-基、2-环己烯-1-基、3-环己烯-1-基、2，4-环己二烯-1-基、1-对_烯-8-基、4(10)-苧烯-10-基、2-降冰片烯-1-基、2，5-降冰片二烯-1-基、7，7-二甲基-2，4-降蒈二烯基或者下列基团的各种异构体己烯基、辛烯基、壬烯基、癸烯基、十二碳烯基、十四碳烯基、十六碳二烯基、十八碳烯基或二十碳烯基、二十一碳烯基、二十二碳烯基、二十四碳烯基、己二烯基、辛二烯基、壬二烯基、癸二烯基、十二碳二烯基、十四碳二烯基、十六碳二烯基、十八碳二烯基或二十碳二烯基。
C7～C12芳烷基是，例如，苄基、2-苄基-2-丙基、β-苯基-乙基、9-芴基、α，α-二甲基苄基、ω-苄基-丁基或ω-苯基-己基。当C7～C12芳烷基被取代时，芳烷基基团的烷基部分和芳基部分都可以被取代，后一种替代方案是优选的。
C6～C12芳基是，例如，苯基、萘基、联苯基或2-芴基。
C4～C12杂芳基是未取代的或具有4n+2个共轭电子的芳基基团，例如，2-噻吩基、2-呋喃基、2-吡啶基、2-噻唑基、2-噁唑基、2-咪唑基、异噻唑基、三唑基或者任何其它由噻吩、呋喃、吡啶、三唑、噁唑、咪唑、异噻唑、三唑、吡啶和苯环组成的环体系以及未取代或取代上1～6个乙基、甲基、亚乙基和/或亚甲基取代基的，例如，苯并三唑，而在N-杂环的情况下，视情况而定，还包括其N-氧化物的形式。
C5～C12杂芳烷基是，例如，C1～C8烷基取代上C4～C11杂芳基(的产物)。
再有，芳基和芳烷基也可以是键合在金属上的芳基基团，例如，呈本身已知的过渡金属的金属茂的形式，更具体地说， 或 过渡金属M1优选呈带2个正电荷的阳离子形式，例如，Co2+、Cu2+、Ni2+、Pd2+或Zn2+，尤其是Co2+、Cu2+或Ni2+。
通式(I)的化合物也可以是被无机酸、有机酸或有机金属阴离子中和的阳离子，例如当存在一个或多个铵基团时，或者当该过渡金属具有一个或多个过剩正电荷，例如，Co3+。无机、有机或有机金属阴离子可以是，例如，无机酸的、有机酸的共轭碱阴离子(例如，醇盐、酚盐、羧酸根、磺酸根或膦酸根)或者有机金属配合物阴离子，例如，氟根、氯根、溴根、碘根、高氯酸根、高碘酸根、硝酸根、碳酸氢根、1/2碳酸根、1/2硫酸根、C1～C4烷基硫酸根、硫酸氢根、1/3磷酸根、1/2磷酸氢根、磷酸二氢根、1/2C1～C4链烷磷酸根、C1～C4链烷-C1～C12烷基磷酸根、二-C1～C4烷基次膦酸根、四氟硼酸根、六氟磷酸根、六氟锑酸根、乙酸根、三氟乙酸根、七氟丁酸根、1/2草酸根、甲磺酸根、三氟甲磺酸根、苯磺酸根、甲苯磺酸根、对氯苯磺酸根、对硝基苯磺酸根、酚盐、苯甲酸盐或带负电荷的金属配合物。
本领域技术人员很容易看出，也可采用其它他们熟悉的阴离子。对他们来说不言自明，具有x个负电荷的无机、有机或有机金属阴离子的1/x，例如，1/2·SO42-是带多电荷阴离子，能中和几个带一个电荷的阳离子或者一个具有x的电荷的阳离子的，具体视情况而定。
酚盐阴离子或羧酸根例如具有通式 或 (其中R29、R30和R31彼此独立地是氢，R18、或C6～C12芳基、C4～C12杂芳基、C7～C12芳烷基或C5～C12杂芳烷基，每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R18，例如，C1～C12醇盐的阴离子，尤其是叔-C4～C8醇、酚和苯甲酸的阴离子，例如， 或 优选这样的通式(I)的化合物，其中A1、A2和A3彼此独立地是O、S或N(R12)，和/或Q1和Q2是C(R15)或N；G1和G2彼此独立地是 或 尤其是 或
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R14彼此独立地是氢、R18或C6～C12芳基或C7～C12芳烷基，每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R18；R9、R12和R13各自彼此独立地是未取代的或R17-取代的C1～C8烷基；R10和R18各自彼此独立地是卤素、硝基、氰基、O-R19、甲酰基、CH＝C(CN)2，CH＝C(CN)CONH2，CH＝C(CN)CONHR19，CH＝C(CN)CONR19R20，CH＝C(CN)COOR19，CH＝C(COOR19)COOR20，CONH2，CONHR19，CONR19R20，SO2C1-C12烷基，SO2NH2，SO2NHR19，SO2NR19R20，COOH，COOR19，NHCOR19，NR19COR23，NHCOOR19，NR19COOR23，脲基，P(＝O)OR19OR23，磺基或C1～C12烷基、C1～C12烷硫基或C1～C12烷氧基，每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R17；R15是氢、氰基、卤素、硝基、甲酰基、N＝N-R27、C(R14)＝CR21R22、C(R14)\NR19、COO-R25、羧基、氨基甲酰基、CONH-R25、CONR25R26或C1～C12烷基，后者是未取代的或取代上一个或多个卤素取代基；R16是未取代或取代的C6～C12芳基或C7～C12芳烷基，尤其是金属茂基基团；R17是氢、羟基、O-R25、氨基、NH-R25、NR25R26、NR25-CO-R24、NR25COOR24、氰基、COO-R25、羧基、CONH-R25、CONR25R26、硫酸根合、磺基或C1～C12烷氧基，后者是未取代的或者取代上一个或多个卤素；R19、R20和R23彼此独立地是C1～C12烷基，它们是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的卤素、羟基或C1～C12烷氧基基团，或者是未取代的C6～C12芳基或C7～C12芳烷基；或R19和R20连同共同氮一起是被C1-C4烷基N-取代的吗啉或哌啶；R25、R26和R24彼此独立地是C1～C12烷基、C2～C12链烯基、C6～C12芳基或C7～C12芳烷基；或者R25和R26连同共同氮一起是被C1～C4烷基N-取代的吗啉或哌啶；和/或m是1～4的数。
尤其优选这样的通式(I)化合物，其中Q1和Q2是C(R15)；G1和G2是
并且A1、A2和A3是O、S或N(R12)；R12是C1～C24烷基、C1～C4烷基-[O-C1～C4亚烷基]m或C1～C4烷基-[NH-C1～C4亚烷基]m，它们每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R17，或C6～C12芳基，后者是未取代的或者取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R18；R15是氢、氰基、COO-R25或C1～C12烷基；R17是卤素、羟基、O-R25、氰基、COO-R25或羧基；以及R18是卤素、硝基、氰基、O-R19、CH＝C(CN)2、COOR19、脲基、CONR25R26、SO2R25、P(＝O)OR19OR23或未取代的或取代的C1～C12烷基。
那些优选的含义对单独的和对任意组合都适用。通式(I)的化合物在它们越是具有较优选的各别特性时通常表现出的性能就越是优越。
还优选这样的通式(I)化合物，其中 和/或 是
或 记录层有利地包含通式(I)的化合物或者此类化合物的混合物作为主要组分，例如，至少30wt％，优选至少60wt％，尤其是至少80wt％。其它惯用成分，可能是，例如，其它发色团(例如，WO 01/75873中描述的那些，或者最大吸收介于300～1000nm的其它化合物)、稳定剂、1O2-、三重态-或发光-猝灭剂、熔点降低剂、分解加速剂或任何其它在光记录介质中描述过的添加剂。优选地，加入稳定剂或发光猝灭剂，要求的话。
当记录层包含其它发色团时，则附加的分散体应优选地相对少量，以便使其在整个固体层吸收的最长波长一侧转化点波长处的吸收是整个固体层中纯通式(I)化合物在同一波长处吸收的某一分数，有利地最多1/3，优选最多1/5，尤其是最多1/10。吸收最大值优选地高于425nm，尤其是高于500nm。
稳定剂、1O2-、三重态-或发光-猝灭剂例如是含N-或S-的烯醇化物、酚盐、双酚盐、硫醇盐或双硫醇盐的金属配合物，或者偶氮、偶氮甲碱或甲_染料的金属配合物，例如，双(4-二甲基氨基二硫代苯偶酰)镍[CAS号38465-55-3]、_Irgalan Bordeaux EL、_CibafastN或类似化合物、位阻酚及其衍生物(任选地还有作为相反离子形式X)，例如，_Cibafast AO、邻羟苯基-三唑或-三嗪或其它紫外吸收剂，例如，_Cibafast W或_Cibafast P或位阻胺(TEMPO或HALS，也包括其氮氧化物形式或者NOR-HALS，任选地还有其相反离子形式X)，还有阳离子二铵，ParaquatTM或OrthoquatTM盐，例如，KayasorbIRG 022，_Kayasorb IRG 040，任选地还有自由基离子的形式，例如，N，N，N′，N′-四(4-二丁基氨基苯基)-对亚苯基胺-铵的六氟磷酸盐、六氟锑酸盐或高氯酸盐。后者可从Organica(wolfen/DE)获得；_Kayasorb牌可从Nippon Kayaku公司获得，以及_Irgalan和_Cibafast牌，可由汽巴特种化学品公司获得。
许多此类结构是公知的，它们当中某些也与光记录介质有关，例如，公开在US-5 219 707、JP-A-06/199045、JP-A-07/76169、JP-A-07/262604或JP-A-2000/272241。它们可以是，例如，上面公开的金属配合物阴离子与例如上面公开的任何要求的阳离子的盐，或者金属配合物，例如，下列通式的化合物 或 本领域技术人员将从其它光信息介质得知，或者很容易判断什么样的添加剂以什么样的浓度特别适合什么样的目的。合适的添加剂浓度例如是，0.001～1000wt％，优选1～50wt％，以通式(I)的记录介质为基准计。
本发明光记录材料表现出优异的固体无定形记录层光谱性能。折光指数不同寻常地高，某些情况下甚至高于2.5。由于此种化合物在固态时聚集倾向惊人地低，故其吸收带窄并且强烈，其中长波长侧吸收带尤其陡峭。出乎意料和非常有利的是，不形成或仅在不可察觉程度上形成结晶。该层在写入和读出波长范围的反射性当处于未写入状态时非常高。
由于这些优异的层性能，故可达到快速光记录，具有高灵敏度、高重现性和几何上非常精确的标记边界，具有能产生高度反差的折光指数和显著改变的反射性。标记长度和间距的差异(“抖动”)非常小，从而能够采用较薄记录沟道、较窄沟道间距(“节距”)获得高存储密度。另外，记录的数据能以惊人低的错误率回放，因此错误纠正只需要小量存储空间。
由于溶解度极佳，包括在非极性溶剂中，故溶液可配制成高浓度而不会引起沉淀的麻烦，例如，在存储期间，因此旋涂期间的问题大大减少。这尤其适用于含支化C3～C8烷基的化合物。
记录和回放可在同样波长进行，因此有利地要求简单光学系统，具有单一激光源，有利地介于350～500nm，优选370～450nm。尤其优选370～390nm的紫外范围，尤其约380nm，或者尤其在390～430nm的可见范围的边缘，更尤其约405±5nm。在紧凑光盘领域，蓝色或紫色激光二极管(例如，Nichia GaN 405nm)配合高数值孔径的光学系统，标记可以如此之小，沟道如此之窄，以致在120mm盘上可达到高达约20～25Gb每个记录层。在380nm，可采用铟-掺杂的UV-VCSEL(垂直空腔表面发射激光器)，该激光源已制成原型[Jung Han等人，参见MRS internet J.Nitride Semicond.Res.5S1，W6.2(2000)]。
因此，本发明还涉及一种记录和回放数据的方法，其中在本发明光记录介质上的数据被以350～500nm的波长记录或回放。
该记录介质基于公知的记录介质结构并且类似于，例如，上面提到的那些。它可由，例如，透明基材、包含至少一种通式(I)化合物的记录层、反射层和罩面层组成，写入和读出是透过基材实施的。
合适的基材例如是玻璃、矿物、陶瓷和热固性和热塑性塑料。优选的载体是玻璃和均-或共聚塑料。合适的塑料例如是热塑性聚碳酸酯、聚酰胺、聚酯、聚丙烯酸酯和聚甲基丙烯酸酯、聚氨酯、聚烯烃、聚氯乙烯、聚偏二氟乙烯、聚酰亚胺、热固性聚酯和环氧树脂。特别优选可通过，例如，注塑生产的聚碳酸酯基材。该基材可制成纯净形式或者可包含惯用添加剂，例如，紫外吸收剂或染料，正如，例如，JP-A-04/167239所建议，作为记录层的光稳定剂。在后一种情况下，可在载体基材中加入位于写入波长范围(激光器发射波长)的染料不被吸收或至多仅有非常低的吸收量，优选相当于聚焦到记录层上的激光的最高约20％。
基材有利地沿350～500nm范围的至少一部分区间呈透明，以便使它允许写入或读出波长的入射光的至少80％透过。基材有利地厚10μm～2mm，优选100～1200μm，尤其是600～1100μm，优选地在涂层侧配备螺旋形导沟(沟道)，沟深10～200nm，优选80～150nm，沟宽100～400nm，优选150～250nm，两圈之间的距离为200～600nm，优选350～450nm。不同断面形状的沟道是公知的，例如，矩形、梯形或V字型。类似于公知的CD-R和DVD-R介质，导沟可另外经历一种小的周期性或假周期性横向偏转(摆动)，以便使旋转速度与读取头(拾取)的绝对定位得以达到同步。替代该偏转或另外附加地，同样的功能可由在相邻沟道(预制麻点)之间做出标记来完成。
记录介质的涂布，例如可采用旋涂来涂以溶液，目的是产生一个尽可能无定形的层，该层的厚度有利地介于0～40nm，优选1～20nm，尤其是2～10nm，在表面(“埂”)上；以及，视沟道的几何形状而定，有利地20～150nm，优选50～120nm，尤其是60～100nm，在沟道内。
适合用于反射体层的反射材料包括，尤其是金属，它提供对用于记录和回放的激光射线良好的反射，例如，元素周期表主族III、IV和V和副族的金属。
Al，In，Sn，Pb，Sb，Bi，Cu，Ag，Au，Zn，Cd，Hg，Sc，Y，La，Ti，Zr，Hf，V，Nb，Ta，Cr，Mo，W，Fe，Co，Ni，Ru，Rh，Pd，Os，Ir，Pt和镧系金属Ce，Pr，Nd，Pm，Sm，Eu，Gd，Tb，Dy，Ho，Er，Tm，Yb和Lu及其合金尤其合适。考虑到其高反射率和容易生产，尤其优选铝、银、金或其合金(例如，白金合金)的反射层，尤其是铝，基于经济和生态的考虑。反射体层有利地为5～200nm厚，优选10～100nm厚，尤其是40～60nm厚，但更厚的反射体层，例如，1mm厚或甚至更厚，也是可能的。
适合罩面层的材料包括，主要是能够直接或借助增粘剂在反射层上施涂薄层的塑料。有利的是，具有良好表面性能、机械和热稳定的塑料，它还可进一步改性，例如，达到便于在表面写字。塑料可以是热固性塑料和热塑性塑料。直接施涂的罩面层优选是射线固化(例如，利用紫外线)的涂层，这尤其便于制造并且成本低。多种多样辐射固化材料是公知的。辐射固化单体和低聚物的例子是二醇、三醇和四醇的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、芳族四羧酸与在氨基基团的至少两个邻位具有C1～C4烷基基团的芳族二胺的聚酰亚胺，以及具有二烷基马来酰亚胺基例如，二甲基马来酰亚胺基基团，的低聚物。替代采用增粘剂施涂的罩面层，在那位置也可采用一种包含记录和反射体层的第二基材，以便使记录介质两面可回放。优选对称结构，两部分在反射体那侧借助增粘剂直接或者通过中间层贴合在一起。
在此种结构中，罩面层，或者罩面材料的光学性能本身实质上无关紧要，只要，适用的话，其固化，例如，借助紫外线，可以实现。罩面层的功能是保证记录介质作为整体的机械强度以及，需要的话，薄反射体层的机械强度。如果记录介质足够坚牢，例如，当存在一个厚反射体层时，甚至可以根本不用罩面层。罩面层的厚度取决于记录介质作为整体的厚度，后者优选应最大约2mm厚。罩面层优选介于10μm～1mm厚。
本发明记录介质还可具有附加层，例如，干涉层或阻隔层。也可制造一种具有多个(例如2～10)记录层的记录介质。此种构造和此种材料的使用乃是本领域技术人员公知的。存在的话，干涉层优选安排在记录层和反射层之间和/或记录层和基材之间，并由电介质材料构成，例如，如EP-A-0 353 393所描述的，由TiO2、Si3N4、ZnS或硅树脂构成。
本发明记录介质可采用本身公知的方法生产，可采用各种不同的涂布方法，具体取决于所用材料及其功能。
合适的涂布方法例如是，浸涂、流涂、刷涂、刮刀涂布和旋涂，乃至在高真空下进行的蒸汽沉积方法。当，例如，采用流涂时，一般采用在有机溶剂中的溶液。当采用溶剂时，应注意所用基材应对那些溶剂不敏感。合适的涂布方法和溶剂描述在，例如，EP-A-0 401 791中。
记录层优选地由染料溶液通过旋涂施加，其中已证明满意的溶剂尤其是醇，例如，2-甲氧基乙醇、异丙醇或正丁醇、羟基酮，例如，双丙酮醇或3-羟基-3-甲基-2-丁酮，羟基酯如乳酸甲酯或异丁酸甲酯，或者优选地氟化醇，例如，2，2，2-三氟乙醇或2，2，3，3-四氟-1-丙醇，及其混合物。其它合适的溶剂公开在，例如，EP-A-0 483 387中。
金属反射体层的施涂优选地通过溅射或真空蒸汽沉积来实施。此种技术是公知的并且描述在专门文献(例如，J.L.Vossen和W.Kern，《薄膜方法》，学术出版社，1978)。该操作可有利地连续进行并达到金属反射体层的良好反射率和高度附着力。
记录按照公知的方法实施，包括沿记录层表面借助恒定或可变速度引导的调制、聚集的激光束写入固定或可变长度麻点(标记)。信息的读出是按照本身公知的方法实施的，包括采用激光射线记录反射的变化，按照例如，《CD-放音机和R-DAT记录器》所述(Claus Biaesch-Wiepke，Vogel Buchverlag，Wurzhurg 1992)。本领域技术人员熟悉有关要求。
本发明含信息的介质尤其是WORM型光信息材料。其应用，例如，类似于CD-R(CD盘-可记录)或电脑中的DVD-R(数字视频光盘-可记录)，还有用于身份识别和安全卡的或用于产生衍射光元素的，例如，全息图的存储材料。
然而，替代地，还有实质上不同于CD-R和DVD-R并且其中记录和回放不透过基材而透过罩面层实施的记录介质(“沟纹内记录)。相应地，罩面层和基材各自的作用，尤其是几何形状和光学性能，与上面所描述结构相比完全反过来。类似的概念多次描述在SPIE光学工程国际学会论文集，1999，3864中，涉及采用蓝色GaN激光二极管的数字视频记录。对于此种记录介质，尤其是适合高存储密度和具有相应小的标记(“麻点”)的介质来说，精确的聚焦很重要，因此制造方法，虽然基本类似但麻烦得多。
但是，本发明通式(I)的化合物也令人惊奇地满足对反向层结构增长的需要。因此，优选一种反向层结构，它具有层顺序——基材、反射体层、记录层和罩面层。因此，该记录层位于反射体层和罩面层之间。厚度约50～400μm的薄罩面层尤其有利(典型值100μm，在数值孔径等于0.85时)。
反向层结构中的记录及其反射体层原则上具有与上面指出的相同功能。因此，关于沟道几何参数，它们通常具有上面给出范围内的尺寸。
反向层结构尤其要求高标准，本发明采用的化合物竟然惊人好地满足此高要求，例如，当记录层施涂到金属反射体层上时，尤其是当罩面层施涂到记录层上时，要求罩面层给记录层提供充分耐摩擦、光氧化、指纹、潮湿和其它环境效应等充分保护作用，并有利地具有0.01～0.5mm的厚度，优选0.05～0.2mm，尤其是0.08～0.13mm。
罩面层优选地由在激光写入和读出波长表现出透光率等于或大于80％的材料构成。适合罩面层的材料例如包括上面提到的那些材料，但尤其是聚碳酸酯(例如，Pure Ace_，Teijin公司)、纤维素三醋酸酯(例如，Fujitac_，Fuji Photo Film)或者聚对苯二甲酸乙二醇酯(例如，Lumirror_，Toray工业公司)，尤其优选聚碳酸酯。尤其在直接施涂罩面层的情况下，辐射固化涂层如上面已描述过的那些，是有利的，例如，SD 347TM(Dainippon Ink)。
罩面层可借助适当增粘剂直接施涂到固体记录层上。在另一种实施方案中，在固体记录层上施涂了一个附加、薄隔离层，由金属、交联有机金属或优选地，电介质无机材料构成，例如，厚0.001～10μm，优选0.005～1μm，尤其是0.01～0.1μm，例如，0.05～0.08μm在电介质隔离层的情况下；以及0.01～0.03μm在金属隔离层的情况下。隔离层和对应方法公开在WO 02/082438中，在此明确收作参考。要求的话，此种涂层也可按照同样的厚度施涂到载体材料与金属反射体层之间或者金属反射体层与光记录层之间。这在某些情况下是有利的，例如当银反射体与含硫添加剂组合用于记录层中时。
在一种特殊实施方案中，在固体记录层上施涂了一种附加、薄隔离层，由金属、交联有机金属或电介质无机材料构成，例如，厚0.001～10μm，优选0.005～1μm，尤其是0.01～0.1μm。考虑到其高反射率，金属隔离层应有利地为约最大0.03μm厚。
隔离层和对应方法公开在WO 02/082438中，在此将其收作参考。
某些本发明使用的化合物是公知的，尤其从J.Org.Chem.67/16，5753-5772 。
然而，也可以按照类似于公知化合物的方式制备可用于本发明光记录介质中的新化合物。
因此，本发明还涉及通式(I)的化合物，但已知的通式M2(Z1)2的化合物除外，其中·M2是Co(II)，Cu(II)，Hg(II)，Ni(II)，Pd(II)或Zn(II)和Z1是
·M2是Co(II)，Cu(II)，Ni(II)，Pd(II)或Zn(II)和Z1是 或 ·M2是Co(II)，Cu(II)，Ni(II)或Zn(II)和Z1是 ·M2是Cu(II)，Pd(II)或Zn(II)和Z1是 ·M2是Co(II)，Cu(II)或Zn(II)和Z1是 或 ·M2是Cu(II)或Zn(II)和Z1是 或
·M2是Co(II)或Cu(II)和Z1是 ·M2是Pd(II)或Zn(II)和Z1是 或 ·M2是Cu(II)和Z1是 或 或·M2是Zn(II)和Z1是 或 尤其优选下列通式的化合物
和
并涉及这样的化合物，其中M2是Cu、Co、Ni或Pd和Z1是下列化合物的基团
下列通式的优选化合物表现出尤其有趣的性能
和 以及还有通式(II)和/或(III)化合物的混合物，其中尤其是G1和G2是上面公开的优选杂环并且同时或与之独立地，M1是优选的过渡金属。G1和G2中的A3尤其可以是N(R12)、O、S或尤其在通式(III)中，C(C1～C5烷基)2。
尤其优选下列通式的化合物 及其混合物，其中A4独立于A3地具有与A3相同的含义和相同优选含义。
非常特别优选下列通式的化合物 在通式(IV)和在通式(V)中，R32、R33、R34、R35、R36、R37、R38和R39优选是H、C1～C4烷基、COO-C1～C4烷基、CN、NO2、CHO、COC1～C4烷基、苯基、CH[-O-C2～C3亚烷基-O-]、C(C1～C4烷基)[-O-C2～C3亚烷基-O-]、CH＝C(CN)2、C(CN)＝C(CN)2或C(C1～C4烷基)＝C(CN)2，尤其是H、CH3、C2H5、COOCH3、COOC2H5、CN、NO2或CHO。
通式(IV)的化合物例如是这样的
通式(V)的化合物例如是这样的
替代纯化合物，也可采用其混合物，例如，下列混合物
替代通过将诸组分混合来制备混合物，可能有利的是采用混合的合成方法来制备混合物，其中诸金属以任何要求的顺序先后或优选地同时加入到预先混合的配体混合物中，或者反过来，将配体以任何要求的顺序先后或优选地同时加入到预先准备的金属混合物中。由混合的合成制备的混合物的溶解性要比物理混合物的好一些，可能由于其组分不对称的缘故。
除了包含一种或多种通式(I)的化合物并任选地包含惯用添加剂之外，本发明光记录介质还可包含其它发色团，优选无金属发色团。其它发色团，要求的话，可以1～200wt％，以通式(I)混合物的总和为基准计，的数量加入。其它发色团的数量优选介于5～100wt％，尤其是10～50wt％，以通式(I)混合物的总和为基准计。发色团可以是染料或紫外吸收剂，优选地具有350～400nm或600～700nm，例如约380或630nm的吸收最大值。
尤其优选的附加无金属发色团是花青、吖菁、部花青和氧杂菁，还有若丹明，例如，公开在WO 04/006878、WO 02/082438或EP-A-1 083 555中的那些，还有 其中R40是C1～C24烷基或C2～C24链烯基，它们每一个可以是未取代的或取代的，并且R41是任何取代基。R40可以是，例如，甲基、乙基、乙烯基、烯丙基、异丙基、正丁基、2-异丙基氧基-乙基、正戊基、3-甲基-丁基、3，3-二甲基丁基、2-乙基己基、2-氰基-乙基、呋喃-2-基-甲基或2-羟基-甲基；R41是，例如，C6～C10芳基、C1～C24烷基或C2～C24链烯基。
此类发色团的纯粹说明性的例子是
和具体实施方式
下面的实例说明本发明但不限制其范围(除非另行指出，“％”总是指wt％)实例11.0g通式
的化合物以二氯甲烷溶液的形式施涂到玻璃上。固体层用氙光按照ISO-105-B02(Atlas Ci-35 Weather-O-meter，15kJ/cm2)辐照90h。光稳定性极佳(参见实例7)。
实例2在实例1的固体层上，采用脉冲染料激光器(15ns脉冲长度)在405nm波长以0.8kJ/m2的能量密度在记录层中写入标记。写入部位表现出相应反射率的改变。
实例30.5g实例1的化合物溶解在99.5g二噁烷中并采用旋涂施涂到硅晶片上。对该无色固体层用椭圆光度计(Sopra)进行测定。在405nm波长，测得2.52的折光指数。
实例41.0g通式 的化合物溶解在99g甲基环己烷中并通过0.2μm四氟乙烯滤材进行过滤。随后，该染料溶液通过以250转/分的转速施涂到1.2mm厚、扁平聚碳酸酯碟(直径120mm)上。随后，转速提高到1200rpm，以便将多余溶液甩掉，形成均一固体层。干燥后，固体层具有，在382nm，0.61的吸收。采用光测定系统(ETA-RT、STEAG ETA-Optik)，测定其层厚和复数折光指数。在405nm，该染料层具有56nm的层厚，1.95的折光指数和0.090的消光系数k。
实例5配体的合成19.4mL55％氯乙醛水溶液加入到10.2g二硫代缩二脲在45mL乙醇中的悬浮体中。反应混合物在75℃加热2h，随后倒入到150mL水中。加入200mL乙酸钠水溶液(4.6N)之后，过滤出沉淀，用水洗涤并在50℃/1.5·103Pa下干燥，从而获得8.8g粗产物，从乙醇中再结晶以后，得到6.7g通式 的纯产物(熔点212℃)。
配合物的合成0.5N乙酸铜(II)的水溶液加入到458mg所制备的配体在30mL乙醇中的溶液中直至立即开始的沉淀完成。过滤后，产物以乙醇和二乙醚洗涤，随后在70/1.5·103Pa下干燥，从而获得390mg通式 的纯产物(分解温度264℃)。
实例61.0g实例5的配合物溶解在99g2，2，3，3-四氟-1-丙醇中并通过0.2μm四氟乙烯滤材进行过滤。随后，该染料溶液通过以250转/分的转速施涂到1.2mm厚、扁平聚碳酸酯碟(直径120mm)上；随后，转速提高到1500rpm，以便将多余溶液甩掉，形成均一固体层。干燥后，固体层具有，在356nm，0.35的吸收。采用光测定系统(ETA-RT、STEAG ETA-Optik)，测定其层厚和复数折光指数。在405nm，该染料层具有18nm的层厚，2.25的折光指数和0.031的消光系数k。
实例7～38程序类似于实例6，但替代实例5的配合物，采用下列配体和金属阳离子。
实例39～62程序类似于实例6，但替代实例5的配合物，采用混合物M1～M24。
实例63～86程序类似于实例6，但替代实例5的配合物，采用与混合物M1～M24相同比例金属和配体的混合物，并且配合物是采用混合的合成(向配体混合物中同时加入诸金属混合物的变换方案)制备的。结果类似于实例39～62但具有惊人好的溶解性和溶液稳定性。
实例87～94程序类似于实例6，但替代实例5的配合物采用下列通式(I)化合物的混合物与花青和部花青
应当理解，将那些花青和部花青和/或含有其它发色团的混合物与通式(I)配合物或与通式(I)配合物的混合物的组合也是可能的，所获得到结果一般将非常好。
权利要求
1.一种光记录介质，它包含基材、记录层和任选地一个或多个反射层，其中记录层包含通式(I) 的化合物或其互变异构体，其中G1和G2彼此独立地是 或 A1和A2彼此独立地是N(R12)、O、S或Se，而A3是C(C1～C5烷基)2、C(C4～C5亚烷基)、N(R12)、O、S、Se、N＝C(R13)或未取代的或者R14-取代的CH＝CH；M1是族IX～XII的过渡金属，优选Co、Cu、Ni、Pd或Zn，尤其是Co、Cu或Ni；Q1和Q2彼此独立地是C(R15)、N或P；R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8和R14彼此独立地是氢、R18或C6～C12芳基、C4～C12杂芳基、C7～C12芳烷基或C5～C12杂芳烷基，各自是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R18；或R1和R2、R3和R4、R5和R6、R5和R13和/或R5和R14，一起成对地，是C3～C6亚烷基或C3～C6亚烯基，它们每一个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R17，并且可以是不间断的或者被O、S或N(R12)中断的，或者亚1，4-丁-1，3-二烯基、 或 它们每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R18，且其中1或2个碳原子已被氮原子置换；R9、R12和R13各自彼此独立地是C1～C24烷基、C3～C24环烷基、C2～C24链烯基、C3～C24环烯基、C1～C4烷基-[O-C1～C4亚烷基]m或C1～C4烷基-[NH-C1～C4亚烷基]m，它们每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R17；或C6～C12芳基、C4～C12杂芳基、C7～C12芳烷基或C5～C12杂芳烷基，它们每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R18；R10、R11和R18各自彼此独立地是卤素、硝基、氰基、氰硫基、羟基、O-R19，O-CO-R19，S-R19，CHO，COR20，CHOR19OR23，CR20OR19OR23，R16，N＝N-R16，N＝CR19R20，N＝CR21R22，C(R15)＝NR19，C(R15)＝NR21，C(R15)＝CR21R22，NH2，NH-R19，NR19R20，NH3+，NH2R19+，NHR19R20+，NR19R20R23+，CONH2，CONHR19，CONR19R20，SO2R19，SO2NH2，SO2NHR19，SO2NR19R20，COOH，COOR19，OCOOR19，NHCOR19，NR19COR23，NHCOOR19，NR19COOR23，脲基，NR19-CO-NHR23，B(OH)2，B(OH)(OR19)，B(OR19)OR23，磷酸根合，PR19R23，POR19OR23，P(＝O)OR19OR23，OPR19R23，OPR19OR23，OP(＝O)R19OR23，OP(＝O)OR19OR23，OPO3R19，硫酸根合、磺基，或C1～C12烷基、C3～C12环烷基、C1～C12烷硫基、C3～C12环烷硫基、C1～C12烷氧基或C3～C12环烷氧基，每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R17；R15是氢、氰基、羟基、C1～C12烷氧基、C3～C12环烷氧基、C1～C12烷硫基、C3～C12环烷硫基、氨基、NHR24、NR25R26、R27、卤素、硝基、甲酰基、N＝N-R27、C(R14)＝CR21R22、C(R14)＝NR19、COO-R25、羧基、氨基甲酰基、CONH-R25、CONR25R26、N＝CR19R20或C1～C12烷基、C3～C12环烷基、C2～C12链烯基或C3～C12环烯基，每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的卤素、羟基、C1～C12烷氧基或C3～C12环烷氧基基团；R16是C6～C12芳基、C4～C12杂芳基、C7～C12芳烷基或C5～C12杂芳烷基，它们每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R28；R17是卤素、羟基、O-R25、O-CO-R25、S-R25、NH2、NH-R25、NR25R26、NH3+、NH2R25+、NHR25R26+、NR24R25R26+、NR25-CO-R24、NR25COOR24、氰基、甲酰基、COO-R25、羧基、氨基甲酰基、CONH-R25、CONR25R26、脲基、NH-CO-NHR24、NR25-CO-NHR24、磷酸根合、PR25R24、POR25OR24、P(＝O)OR25OR24、OPR25R24、OPR25OR24、OP(＝O)R25OR24、OPO3R25、OP(＝O)OR25OR24、SO2R25、硫酸根合、磺基、R27、N＝N-R27或C1～C12烷氧基或C1～C12环烷氧基，每个是未取代的或取代上一个或多个卤素；R19、R20和R23彼此独立地是R16或C1～C12烷基、C3～C12环烷基、C2～C12链烯基或C3～C12环烯基，每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的卤素、羟基、C1～C12烷氧基或C3～C12环烷氧基基团；或者R14和R19一起，R15和R19一起和/或R19和R23一起是C2～C12亚烷基、C3～C12亚环烷基、C2～C12亚烯基或C3～C12亚环烯基，它们每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的卤素、羟基、C1～C12烷氧基或C3～C12环烷氧基基团；或者R19和R20连同共同的氮一起是吡咯烷、哌啶、哌嗪或吗啉，它们每个是未取代的或取代上1～4个C1～C4烷基；或者咔唑、吩噁嗪或吩噻嗪，它们每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R28；R21和R22彼此独立地是NR25R26、CN、CONH2、CONHR19、CONR19R20或COOR20；R24、R25和R26彼此独立地是C1～C12烷基、C3～C12环烷基、C2～C12链烯基、C3～C12环烯基、C6～C12芳基、C4～C12杂芳基、C7～C12芳烷基或C5～C12杂芳烷基；或者R25和R26与共同氮一起是吡咯烷、哌啶、哌嗪或吗啉，它们每个是未取代的或取代上1～4个C1～C4烷基；R27是C6～C12芳基、C4～C12杂芳基、C7～C12芳烷基或C5～C12杂芳烷基，它们每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R18；R28是硝基、SO2NHR25、SO2NR25R26或C1～C12烷基、C3～C12环烷基、C1～C12烷硫基、C3～C12环烷硫基、C1～C12烷氧基或C3～C12环烷氧基，每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R17；并且m是1～10的数。
2.权利要求1的光记录介质，其中Q1和Q2是C(R15)；G1和G2是 并且A1、A2和A3是O、S或N(R12)；R12是C1～C24烷基、C1～C4烷基-[O-C1～C4亚烷基]m或C1～C4烷基-[NH-C1～C4亚烷基]m，它们每个是未取代的或取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R17，或C6～C12芳基，后者是未取代的或者取代上一个或多个，视情况而定，相同或不同的基团R18；R15是氢、氰基、COO-R25或C1～C12烷基；R17是卤素、羟基、O-R25、氰基、COO-R25或羧基；以及R18是卤素、硝基、氰基、O-R19、CH＝C(CN)2、COOR19、脲基、CONR25R26、SO2R25、P(＝O)OR19OR23或未取代的或取代的C1～C12烷基。
3.权利要求1或2的光记录介质，其中记录层包含通式(I)的化合物，其中 和/或 是 或
4.权利要求1、2或3的光记录介质，其中该通式(I)的化合物包含支化的C3～C24烷基或支化的C3～C24链烯基。
5.权利要求1、2、3或4的光记录介质，其中记录层为基本无定形。
6.权利要求1、2、3、4或5的光记录介质，另外还包含一个罩面层，其中基材、反射体层、记录层和罩面层以此顺序依次排列。
7.权利要求1、2、3、4、5或6的光记录介质，它除了包含通式(I)的化合物以外还包含无金属发色团。
8.一种记录或回放数据的方法，其中在权利要求1、3、3、4、5、6或7的光记录介质上的数据以350～500nm的波长记录或回放。
9.权利要求1的通式(I)的化合物，条件是该化合物不是通式M2(Z1)2的化合物，其中·M2是Co(II)，Cu(II)，Hg(II)，Ni(II)，Pd(II)或Zn(II)和Z1是 ·M2是Co(II)，Cu(II)，Ni(II)，Pd(II)或Zn(II)和Z1是 或 ·M2是Co(II)，Cu(II)，Ni(II)或Zn(II)和Z1是 ·M2是Cu(II)，Pd(II)或Zn(II)和Z1是 ·M2是Co(II)，Cu(II)或Zn(II)和Z1是 或 ·M2是Cu(II)或Zn(II)和Z1是 或 ·M2是Co(II)或Cu(II)和Z1是 ·M2是Pd(II)或Zn(II)和Z1是 或 ·M2是Cu(II)和Z1是 或 或·M2是Zn(II)和Z1是 或
10.权利要求9的化合物，包含支化的C3～C24烷基或支化的C3～C24链烯基。
11.权利要求9或10的通式(I)的化合物，其中 和/或 是 或
全文摘要
本发明涉及一种光记录介质，它包含基材、反射层和基于通式(I)化合物的记录层，其中G
文档编号G11B7/246GK1757066SQ200480005575
公开日2006年4月5日 申请日期2004年2月23日 优先权日2003年3月3日
发明者U·莱曼, P·萨特, B·施密德哈尔特, J·-L·布德里 申请人:西巴特殊化学品控股有限公司