专利名称：光学元件的制作方法
技术领域：
本发明涉及在DVD(注册商标)、蓝光光盘(注册商标)的记录(录音、录像)或重 放用装置中使用的光学元件。具体地，本发明涉及元件表面层叠有氧化隔断膜以防止与氧 反应的光学元件。
背景技术：
现有技术中，已知有，例如日本特开JP2004-197067号公报等所示，通过在制造诸 如波长板、偏振板、棱镜、反射镜、物镜等光学元件的过程中添加防氧化剂来制造防氧化的 光学元件。 对于用蓝光光盘录音、录像等记录用的特定的短波长的光例如390nm 420nm等 的光，波长板、偏振板、棱镜、反射镜、物镜等光学元件由于受到光的照射而白浊化并劣化。 因此，不能用于录音、录像等记录中。 在日本特开JP2004-197067号公报中，在元件内部添加了防氧化剂。但是，因为在 元件表面没有稠密配置防氧化剂的化合物，所以可能因例如390nm 420nm等短波长的光 的长时间照射而仍然劣化。
发明内容
本发明的目的在于提供一种即使受到上述那样的特定的短波长的光长时间照射 也难以发生白浊化和劣化的光学元件。 作为本发明的解决方案的例子，有如权利要求1 3记载的光学元件。
本发明者们发现，由如上所述的特定的短波长的光的照射而导致的光学元件的白 浊化及劣化，是由于光的照射而使元件与空气中的氧分子反应，发生化学变化而引起的。并 且还发现，通过防止光学元件表面与氧接触，可以大幅改善光学元件的白浊化及劣化。
因此，在本发明的一个实施形态中，对在DVD、蓝光光盘等中记录、重放用装置中使 用的光学元件进行改良，在元件的最外层层叠具有氧隔断性的膜。具体地，将具有氧隔断性 的膜层叠(或涂敷)在元件的表面、和/或背面、和/或侧面。 在本发明的另一个实施形态中，提供一种波长板、偏振板、棱镜、反射镜、物镜等的 光学元件，是在蓝光光盘装置中使用的光学元件中，在元件的最外层层叠有具有隔断氧的 性质的膜，即使在例如390nm 420nm等的短波长的蓝光的激光中也不会白浊化及劣化，能 够用于重放、录音、录像等的记录。 在本发明的另一个实施形态中，在用于蓝光光盘装置的光学元件的表面、背面、侧 面中的至少1个面(优选所有的面)上层叠(或涂敷)具有隔断氧的性质的膜。采用这种 方式，即使在例如390nm 420nm等的短波长的蓝光的激光中光学元件也不会白浊化及劣 化，能够在重放、录音、录像等的记录中使用。 如果说明具有隔断氧的性质的膜的优选例子，最佳的例子是，通过例如采用真空 蒸镀层叠Si02等的金属氧化物(氧阻止层)而形成的膜，或者通过以湿法(溶液涂敷)涂敷S叫+氟(氧阻止层)而形成的膜。此外，并不仅限于S叫，也可以层叠SiON、Si+DLC、氮化硅(SiF4)等的金属氧化物。 作为层叠方法，除了真空蒸镀、溶液涂敷法(浸渍法)之外，还可以采用溅射法、旋涂法等的方法。 本发明的光学元件优选为波长板、偏振板、棱镜、反射镜、物镜。
具体实施例方式
说明本发明的多个实施例的光学元件。 通过对例如波长板的包含透过蓝光激光的区域(有效直径约3mm左右)的整个表面及背面进行蒸镀，层叠Si(^等的金属氧化物(氧阻止层)。同样地，也可以在例如波长板的整个侧面上也蒸镀，层叠Si02等的金属氧化物(氧阻止层)。 或者，在波长板的透过蓝光激光的范围中以湿法(溶液涂敷)形成Si(^+氟的涂层(氧阻止层)。分析的结果确认了，通过这些处理，元件表面的氧透过率与未处理过时相比，能减少到0.4%左右。 当然，并不仅限于Si(^，层叠SiON、Si+DLC(类金刚石碳)、氮化硅(SiF4)等的金属氧化物，也可以得到同样的效果。 在采用溶液涂敷法时，作为涂敷膜种类，还可以采用氟树脂、氯乙烯、偏二氯乙烯
树脂、偏二氟乙烯树脂、丙烯树脂、聚酯树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂等。 波长板等的光学元件为有机化合物，可以使用环烯系聚合物的ARTON(注册商标，
7 -卜> JSR制造)、ZEONOR(注册商标，七才乂 7 、日本七才 >制造)、环烯聚合物(COC)即
7《A (注册商标，三井化学制造)等，另外，也可以采用其他的环烯系聚合物、聚碳酸酯、
聚乙烯醇、或三乙酰纤维素等。 对本发明的光学元件实施了表征其性能提高的耐光性试验。
该试验的光学特性(透射波面像差)数据如表1所示。
表1[数据l](入rms)
累积光量狄理样品处理才f 口
微l微2微3
辆射0馬0.0040.0040細
1Wh/mm20.0230.004丄丄
3 Wh/mm2t 劣化0.005丄
6Wh/mm20.005i
16Wh/mm20.005
判定ooo
4
未处理的样品在累积光量lWh/mm2的光照射下透射波面像差的值大幅变化，确认劣化。 处理过的样品虽然进行了多次试验，但即使直至照射累积光量l、3、6、16Wh/mm2时也无像差变化，没有确认到劣化。另外，照射的波长为蓝光光盘中使用的波长405nm。此外，也可以为390nm 420nm的范围中的任意波长。 由表1数据也可看出，未处理(累积光量lWh/mm2)的样品由于劣化而不可使用
(X)。处理过(直至累积光量16Wh/mm2)的样品没有劣化，可使用(〇)。 由这些比较结果可见，可以说光学元件的耐光性改善了 IO倍以上。 根据以上的实验结果可以确认，通过在蓝光光盘装置中使用的光学元件中，在光
学元件的表面、背面、侧面层叠(或涂敷)具有隔断氧的性质的膜，即使是在例如390nm
420nm等的短波长的蓝光的激光中，光学元件也不会白浊化及劣化，能够用于重放、录音、录
像等的记录中。 另外，现有技术中，从对于短波长激光的耐久性的问题考虑，使用水晶、玻璃等的无初材料作为蓝光用光学元件，但根据本发明，还可以采用树脂材料作为光学元件材料。即，能够将可适用于蓝光等的短波长激光的光学元件材料从无机材料转变成树脂材料，可以大幅降低记录、重放装置的制造成本。
权利要求
一种光学元件，是在记录或重放用装置中使用的光学元件，其特征在于，为防止元件表面与氧反应，在元件的最外层层叠有具有隔断氧的性质的膜。
2. 如权利要求1所述的光学元件，其特征在于，在元件的表面、背面、以及侧面的至少 一个面上层叠有具有隔断氧的性质的膜。
3. 如权利要求1或2所述光学元件，其特征在于，光学元件为波长板、偏振板、棱镜、反 射镜或物镜。
全文摘要
本发明提供一种在记录、重放用装置中使用的光学元件，为防止元件表面与氧反应，在元件的最外层层叠(或涂敷)具有隔断氧的性质的膜。具有隔断氧的性质的膜被层叠(或涂敷)在元件的表面、背面、侧面的至少一个面上。光学元件是波长板、偏振板、棱镜、反射镜或物镜。
文档编号G11B7/135GK101726766SQ20091021167
公开日2010年6月9日 申请日期2009年10月30日 优先权日2008年10月31日
发明者中田达也, 斋藤孝朗, 田中伸树, 高桥崇 申请人:拓普康株式会社