光敏电阻涂层沉淀工艺及设备的制作方法

文档序号:6866472阅读:483来源:国知局
专利名称:光敏电阻涂层沉淀工艺及设备的制作方法
技术领域
本发明属于化工喷涂技术领域,是一种光敏电阻涂层沉淀工艺,本发明还涉及适用于该工艺的沉淀设备。
光敏电阻生产线中,喷涂设备是最容易出现故障,由于该设备自动化程度高,维修起来非常困难。而且,喷涂机是生产线的独苗,出现故障后,整个生产线基本处于停滞状戊。严重制约生产的发展。而且现有的喷涂机是气动喷液,雾化的药液弥散在空气中,造成大气污染。喷涂法由于使用气体携带喷涂,大量的硫化镉混合液被抽风排掉而浪费了。由喷涂法而设计的喷涂机单机成本是30万元,成本太高。
本发明的目的是提供一种无污染、降低成本,节省原材料,工艺简单,维修设备方便的光敏电阻涂层生产工艺。
本发明的另一目的是提供一种适用于上述工艺的生产设备。
本发明所采取的涂层生产工艺是利用沉淀法。
沉淀工艺与喷涂工艺有着本质的不同,因为沉淀工艺是在水中进行的,所以,不但要找出硫化镉薄膜的沉淀方法,而且,也是更重要的是要将沉淀上硫化镉薄的基板从水溶液中取出。在以前的试验中对沉淀法的否定就是因为找不到这样的一种方法。
基板的表面沉淀上硫化镉并不难,关键的问题是如何拿出这些沉淀上硫化镉薄膜的基板,经过无数次的试验,终于找到了一种比较好且比较容易实施的方法,在沉淀溶器的底部开一小孔,基板沉淀上硫化镉后,打开容器底部的小孔,缓慢的将水引出,这样,只要水流控制得当,沉淀在基板表面的硫化镉就能保持不动,经多次的试验,将基板放在网格板上,沉淀好以后,将基板连同网板一起拿出,沉淀效果就更好了。沉淀到基板表面的硫化镉烘干后,非常光滑平整。
因此,本发明的光敏电阻涂层沉淀工艺如下1、将配制好的药液倒入浆料烧杯,然后将烧杯放在磁力搅拌器上。
2、依次打开沉淀台上的总电源开关和磁力搅拌器电源开关以及搅拌器旋钮开关。将旋钮调至中速,开始搅拌药液。
3、在沉淀槽里注入适量的沉淀液,水深4.0CM--6.5CM。
4、把基板整列在网板上,然后将网板均匀放置在沉淀槽里,并检查平整度。
5、开启步进电动机驱动器,带动喷淋泵及喷淋管往复运动。将药液均匀地喷洒在沉淀槽内。
6、用清洗烧杯中的水冲洗水泵和喷淋管。
7、复位。按相反顺序依次关掉各电源开关。
8、盖上沉淀槽盖子,让药液自然沉淀。
9、6小时后,打开放水阀门,把沉淀液缓速排入蓄水箱中。
10、沉淀液排放完后,让基板上沉积的一层硫化镉膜层自然凉干和固定后,轻轻搬动网板,清除吸附网板背面的液体,然后放入烘箱烘干。
由于本明采取了上述工艺方案,与现有喷涂法工艺相比,具有无污染、降低成本、节省原材料、工艺简单、维修设备方便等优点。


图1表示本发明沉淀工艺流程图。
如图1所示,将配制好的硫化镉混合液(日本称药液)倒入浆料烧杯,再加些纯水(电阻率要大于10MΩ),使烧杯液体总量达到8-9成,以防止搅拌时药液溢出。然后将烧杯放在磁力搅拌器上。
依次打出沉淀台上的总电源开关、磁力搅拌器电源开关和搅拌器电源开关和搅拌器旋钮开关,将旋钮开关由小到大调至中速,使烧杯中的药液搅拌为旋涡状即可。搅拌时间为2-3小时,且药液越匀越好。搅拌过程中,不得随意停止,要防止意外停电。
在沉淀槽内注入适量的沉淀液。沉淀液是由纯水配制而成。纯水电阻率必须大于10MΩ。沉淀槽严禁污染。沉淀液在槽内的深度为4.0CM-6.5CM。沉淀槽严禁震动和晃动。始终保持平和稳。槽内的液体不能有任何流动和抖动的迹象。
把陶瓷基板整列在网板上,网板要平整,陶瓷基板才能摆放平整,网板上的陶瓷基板要摆满,四周稍留有空隙,然后将整列好基板的网板慢慢地放入槽内沉淀液中,靠槽底一个网板挨一个网板摆整齐。然后仔细检查网板的平整度和陶瓷基板的平整度,发现有不平整的要及时摆平。
开启步进电动驱动器,打开电脑,检查丝杠和道轨确认正常后,给电脑输入程序。同时将喷淋泵移入正在搅拌的烧杯中,电机启动,喷淋管以均匀的速度向沉淀槽淋药液。原则是,由沉淀槽的始端,到沉淀槽的终端,喷淋管的行进速度要一致,不能忽快忽慢,还要将烧杯内的药液全部喷洒完,这样才能保证喷淋的药液均匀。
喷完药液后,将喷淋泵移入盛有纯水的烧杯中,开启泵电源,冲洗喷淋管,待用。
将步进电机复位,按照相反的顺序依次关掉各电源开关。
盖上沉淀槽盖子,防止槽内空气污染和落入微尘。沉淀液开始自然沉淀。这时,沉淀槽要绝对保持平稳,不能有丝毫的震动和抖动。沉淀进程大约需4-6小时。
沉淀4-6小时后,沉淀槽内的沉淀液明显变清,陶瓷基板上均匀地沉积了一层薄薄的硫化镉药液膜层。这时打开放水阀,把沉淀液缓慢地通过导管排放在蓄水箱中,排放水的时间6-8小时。
沉淀槽内的沉淀液排放完后,让陶瓷基板上沉积的硫化镉膜层自然凉干后,轻轻搬动网板,依次取出,吸附网板背面的残留液体,然后将产品放入烘箱内烘干。
整个工艺的重点是,利用沉淀液为载体,均匀地在沉淀槽内喷淋硫化镉药液。经过自然沉淀,使陶瓷基板上均匀地沉积一层硫化镉膜层,在沉淀过程中,绝对不可以有震动和抖动。
本发明的第二目的是这样实现的,一种光阻电阻涂层沉淀装置,它的主要特点是具有支架,支架上设置有沉淀池,沉淀池位于支架上部,四周设置有排水槽,底部设置有排水管道,与其下部循环水箱连通;沉淀地的侧面设置有喷淋泵,喷淋泵分别与药液杯和喷淋管连接,喷淋管头设置有均匀的小孔,药液杯座落在喷料车上,其下部设置有磁力搅拌器;喷料车座落在导轨上并与丝杆连动,丝杆与步进电动机连动;循环水箱通过喷淋管与喷淋泵连通。
由于本发明采取了上述技术方案,具有适用于沉淀法生产光阻电阻涂层工艺的特点。
图2表示本发明沉淀装置结构示意图。
如图2所示,本发明具有支架10,支架10上设置有沉淀池15,沉淀池15四周设置有排水槽,底部设置有排水管道,与其下部循环水箱5连通;沉淀池15的侧面设置有喷淋泵13,喷淋泵13分别与药液杯11和喷淋管14连接,药液杯11座落在喷料车6上,药液杯11的下部设置有磁力搅拌器7,喷料车6上还设置有清洗杯12,喷料车6座落在导轨8上并与丝杆9连动,丝杆9与步进电动机连动,步进电动机4受驱动器3驱动,并受操作控制台1和计算机2控制步进动作。循环水箱5通过喷淋管14与喷淋泵13连通,支架1的侧面还设置有与沉淀池15连通的清洗槽16。
沉淀工艺产品各项参数测试结果汇总NO 测度项目及要求测试结果结论1沉淀产品的合格率统计 83.1% 合格2亮电阻、暗电阻、γ值 合格3经时测试 90天变化率小于±20%11.25% 合格360天变化率 4.13% 合格4、 温度特性 低温特性小于±20% 9.85% 合格高温特性小于±20% 6.48% 合格5前列效应误差小于±0.3 0.260 合格6温度冲击试验变化率小于±20% 2.14% 合格7潮湿试验变化率小于±20% 5.90% 合格测试结论合格
权利要求
1.一种光敏电阻涂层沉淀工艺,其特征在于采用以下工艺过程(1)、将配制好的药液倒入浆料烧杯,然后将烧杯放在磁力搅拌器上;(2)、依次打开沉淀台上的总电源开关和磁力搅拌器电源开关以及搅拌器旋钮开关。将旋钮调至中速,开始搅拌药液;(3)、在沉淀槽里注入适量的沉淀液,水深4.0CM--6.5CM;(4)、把基板整列在网板上,然后将网板均匀放置在沉淀槽里,并检查平整度;(5)、开启步进电动机驱动器,带动喷淋泵及喷淋管往复运动。将药液均匀地喷洒在沉淀槽内;(6)、用清洗烧杯中的水冲洗水泵和喷淋管;(7)、复位。按相反顺序依次关掉各电源开关;(8)、盖上沉淀槽盖子,让药液自然沉淀;(9)、6小时后,打开放水阀门,把沉淀液缓速排入蓄水箱中;(10)、沉淀液排放完后,让基板上沉积的一层硫化镉膜层自然凉干和固定后,轻轻搬动网板,清除吸附网板背面的液体,然后放入烘箱烘干;
2.一种光敏电阻涂层沉淀装置,其特征在于具有支架,支架上设置有沉淀池,沉淀池位于支架上部,四周设置有排水槽,底部设置有排水管道,与其下部循环水箱连通;沉淀地的侧面设置有喷淋泵,喷淋泵分别与药液杯和喷淋管连接,喷淋管头设置有均匀的小孔,药液杯座落在喷料车上,其下部设置有磁力搅拌器;喷料车座落在导轨上并与丝杆连动,丝杆与步进电动机连动;循环水箱通过喷淋管与喷淋泵连通。
全文摘要
本发明为化工喷涂技术领域提供一种光敏电阻涂层沉淀工艺,涂层生产工艺是利用沉淀法,将基板放在网格板上,沉淀好以后,将基板连同网板一起拿出,在沉淀溶器的底部开一小孔,基板沉淀上硫化镉后,打开容器底部的小孔,缓慢的将水引出,本发明还提供了一种适用于该工艺的沉淀装置,与现有喷涂法工艺相比,具有无污染、降低成本、节省原材料、工艺简单、维修设备方便等优点。
文档编号H01L31/08GK1383216SQ01121339
公开日2002年12月4日 申请日期2001年5月31日 优先权日2001年5月31日
发明者李宗樵, 胡旭东, 杨育兴, 王伍庆, 路玉梅, 刘素英, 张红军 申请人:南阳利达光电有限公司电子公司
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