专利名称：用于涂膜层显影的表面活性剂水溶液的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种新的用于涂层显影的表面活性剂水溶液。更具体地讲，涉及一种新的用于涂层显影的表面活性剂水溶液，在制造半导体元件方面，它可用于形成抗蚀图案的方法。在该方法中，形成抗蚀图案，在所形成的抗蚀图案上形成涂层，然后加厚抗蚀图案，有效地制造出更为精细的沟图案(trench pattern)和孔图案(hole pattern)。还涉及使用该表面活性剂水溶液形成精细抗蚀图案的方法。
背景技术：
在制造半导体如LSI的广阔领域中，生产LCD仪表板的液晶显示面，制造用来测定热位差等类似用途的印刷图案板时，在基板上形成抗蚀图案，从而形成精细元件或进行精细加工。在形成抗蚀图案时，采用了所谓的光刻法，它包括采用光化性射线如紫外线、深(deep)紫外线、受激准分子激光、x-射线或电子束，对感光树脂组合物选择性照射以进行曝光；以及将树脂组合物显影。
在光刻方法中，使用负性或正性感光树脂组合物来形成抗蚀图案。随着新近的半导体器件的更高集成趋势，半导体器件制造加工过程中所需的线宽度和线间距变得更细，为了跟上这一趋势，在照射时，采用短波长光源如g-线、i-线或受激准分子激光或者相转变模(phase shift mask)曝光设备。但是，由于平版印刷技术采用常规曝光，难以突破波长产生的限制而形成更细的抗蚀图案。另一方面，短波长曝光设备和相转变模设备非常昂贵。因此，对那些能够使抗蚀图案更为精细的方法进行了研究，它们使用的是常规已知的正性或负性感光树脂组合物，以及常规已知的图案形成设备，而没有采用昂贵的设备。这些方法已经公开，例如，日本第241348/1993号、第250379/1994号、第73927/1998号和第204399/1999号发明专利公开公报。这些出版物中所述的方法包括以下步骤，即采用常规的感光组合物，通过常规的方法形成图案；在所形成的抗蚀图案上形成涂层；令加热抗蚀剂和/或使之曝光而产生的酸或者存在于抗蚀剂中的酸扩散到涂层，在扩散到涂层中的酸的作用下，使得涂层交联和固化；除去未交联的涂层，使得抗蚀图案变厚。其结果是，抗蚀图案之间的间距变窄，抗蚀图案的间距尺寸或缝隙尺寸缩小，从而使得抗蚀图案更为精细，并有效地形成低于分辨率限度的精细抗蚀图案。
在上述的形成精细图案的方法中，能够通过酸进行交联的、水溶性的感光或非感光树脂组合物被用作形成涂层的组合物，水或者水与有机溶剂的混合溶剂用来进行显影和除去未交联的涂层。如果水或者水与有机溶剂的混合溶剂用作显影剂，而涂层又是过度不溶的，就会产生一些问题，显影后抗蚀图案会形成桥接，还会产生显影残渣如浮渣；用作涂层的水溶性树脂组合物中的含有疏水基团的组份，作为不溶物，在显影过程中可以附着在干胶片表面，导致图案缺损(见
图1和2)。尽管在某些情况下，可以采用现有的方法防止桥接和浮渣，例如排出大量的显影剂，包括水或者水与有机溶剂的混合溶剂，或者增加划槽显影(paddledevelopment)的次数，但是难以控制其再现性，以及所得精细图案尺寸均匀性。因此，需要进行改进，以获得更高的产量、更简易的操作和更稳定的加工方法。
如果采用水溶性树脂组合物作为形成涂层的材料，而且它是通过酸交联形成不溶性涂层的，那么在抗蚀图案基板中所产生的酸的浓度在下面的情况下会依赖于位置而不同，在抗蚀图案基板中存在几个具有不同图案尺寸的图案，或者图案布局是稀疏的和稠密的，或者存在一种特定的图案排列。这种不均匀在涂层产生不同的交联密度，降低了生成图案的尺寸可控性。另外，对涂层具有高溶解性的溶液，如水和有机溶剂的混合溶液，被用作显影剂时，对不同图案排列的溶解速度不同，这会导致生成图案的尺寸可控性的降低。为了根本上避免这一问题，需要在曝光图案的设计方面稍微进行变化，例如抗蚀基板的图案尺寸和图案排列，这种情况需要改进半导体器件生产的成本和易操作性。
上述的形成精细抗蚀图案的方法，其例子包括，如日本第73927/1998号发明专利公开公报所公开的采用水或TMAH(氢氧化四甲铵)水溶液，用于包含水溶性树脂组合物的涂层的显影；如日本第204399/1999号发明专利申请公开公报所述对含有水溶性树脂组合物的涂层，使用包含水和对该组合物具有高溶解性的有机溶剂的溶液进行显影，以及用对该组合物具有低溶解性的溶液，例如水对涂层进行漂洗。尽管后一个专利申请描述了具有高溶解性的溶液含有表面活性剂，但是既没有描述表面活性剂的例子，也没有描述表面活性剂的作用。这些常规的方法由于生成的精细抗蚀图案没有足够的尺寸可控性而导致显影缺陷和图案缺陷。在这种情况下，涂层的形成，不能不受基板抗蚀图案的尺寸和排列的影响，也不能不影响基板抗蚀图案和收缩抗蚀图案，生成的抗蚀图案的尺寸可控性不可能得到明显的改善。
此外，如日本第204399/1999号发明专利公开公报所公开描述，显影剂含有表面活性剂，但是存在一些问题，一种情况是，在显影时将显影剂冲到干胶片(wafer)上会形成气泡，所产生的所有气泡在显影剂中不会消失，这使得显影不均匀，产生的图案的尺寸可控性低。因此，在显影剂中使用的表面活性剂必须是低泡表面活性剂，或者是一种即使起泡也能高度消泡的表面活性剂。
本发明的一个目的是提供一种用于涂层显影的表面活性剂水溶液，它不存在上述问题，以及提供一种采用该表面活性剂水溶液形成精细抗蚀图案的方法。
因而，本发明的目的是提供一种用于涂层显影的表面活性剂水溶液，它可以防止因过度交联而导致形成桥接、产生显影残留物如浮渣以及不溶物的重新附着，并且它不影响基板抗蚀图案和精细(或收缩)抗蚀图案，它不影响基板抗蚀图案的尺寸和图案排列，并且它不会由于显影剂的起泡而产生不均匀的显影，能够改善图案的尺寸可控性；以及提供一种方法，在抗蚀图案上形成涂层并使得抗蚀图案变厚，有效地制造出比分辨率限度更低的精细的沟图案和孔图案；还提供使用该表面活性剂水溶液形成精细抗蚀图案的方法。
发明公开作为深入研究的结果，本发明人发现，如果在形成图案的方法中，采用含有特殊结构的表面活性剂的水溶液作为显影剂，那么就可以抑制产生显影缺陷和图案缺陷，如桥接和浮渣，并使得图案微型化的尺寸可控性得以改善。该方法是，在按照常规方法所形成的抗蚀图案上，形成涂层，然后加厚抗蚀图案，从而制造更精细的抗蚀图案。基于这一发现而完成了本发明。
因而，本发明是用于涂层显影的表面活性剂水溶液以及形成图案的方法，包括下述构成内容(1)一种用于涂层显影的表面活性剂水溶液，包括表面活性剂和水或水与有机溶剂的混合物，其中的表面活性剂包括至少一种选自下面的物质N-酰基肌氨酸盐、N-酰基-N-甲基丙氨酸盐、N-酰基牛磺酸盐、N-酰基-N-甲基牛磺酸盐，脂肪酸烷基醇酰胺和脂肪酸烷基醇酰胺聚氧化乙烯加成物。
(2)按照上述(1)的用于涂层显影的表面活性剂水溶液，其中表面活性剂的酰基的碳原子数目是10-14。
(3)按照上述(1)或(2)的用于涂层显影的表面活性剂水溶液，其中表面活性剂的至少一种选自N-月桂酰基肌氨酸盐、N-月桂酰基-N-甲基丙氨酸盐、N-月桂酰基牛磺酸盐、和N-月桂酰基-N-甲基牛磺酸盐。
(4)按照上述(1)的用于涂层显影的表面活性剂水溶液，其中N-酰基肌氨酸盐、N-酰基-N-甲基丙氨酸盐、N-酰基牛磺酸盐和N-酰基-N-甲基牛磺酸盐的抗衡离子是有机胺或有机胺盐。
(5)按照上述(1)或(2)的用于涂层显影的表面活性剂水溶液，其中脂肪酸烷基醇酰胺或脂肪酸烷基醇酰胺聚氧化乙烯加成物的脂肪酸碳原子数目是6-22，其烷基醇基团的碳原子数目是1-3，脂肪酸烷基醇酰胺聚氧化乙烯加成物的聚氧化乙烯链重复单元的数目是10或更小。
(6)按照上述(1)-(5)任一项的用于涂层显影的表面活性剂水溶液，其中表面活性剂的浓度是0.01-10.0重量％。
(7)按照上述(1)-(6)任一项的用于涂层显影的表面活性剂水溶液，其中有机溶剂至少包括选自下面的一种具有1-8个碳原子的饱和或不饱和的醇、具有2或3个羟基的饱和多元醇、具有1-3个碳原子的饱和或不饱和的烷基胺和具有1-3个碳原子的饱和或不饱和的烷基醇胺。
(8)按照上述(1)-(7)任一项的用于涂层显影的表面活性剂水溶液，其中水和有机溶剂以80∶20-99∶1的水对有机溶剂的比例混合。
(9)一种形成图案的方法，包括在抗蚀图案上形成涂层，通过涂层的交联将抗蚀图案变厚，用显影剂除去未交联的涂层，有效地使图案更为精细，其中上述(1)-(8)任一项的用于涂层显影的表面活性剂水溶液被用作显影剂。
以下将对本发明予以描述。
在本发明的表面活性剂水溶液中，N-酰基肌氨酸盐、N-酰基-N-甲基丙氨酸盐、N-酰基牛磺酸盐、N-酰基-N-甲基牛磺酸盐，脂肪酸烷基醇酰胺或脂肪酸烷基醇酰胺聚氧化乙烯加成物用作表面活性剂，表面活性剂的酰基优选具有10-14个碳原子。
在本发明的表面活性剂水溶液中优选使用的表面活性剂，其具体例子包括N-酰基肌氨酸盐，例如，椰子油脂肪酸肌氨酸盐、月桂酰肌氨酸盐、肉豆蔻酰肌氨酸盐和油酰肌氨酸盐；N-酰基-N-甲基丙氨酸盐，例如椰子油脂肪酸甲基丙氨酸盐、月桂酰甲基丙氨酸盐、肉豆蔻酰甲基丙氨酸盐和油酰甲基丙氨酸盐；N-酰基牛磺酸盐，例如N-月桂酰基牛磺酸盐、N-肉豆蔻酰基牛磺酸盐和N-油酰基牛磺酸盐；N-酰基-N-甲基牛磺酸盐，例如N-月桂酰基-N-甲基牛磺酸盐、N-肉豆蔻酰基-N-甲基牛磺酸盐和N-油酰基-N-甲基牛磺酸盐；脂肪酸烷基醇酰胺和脂肪酸烷基醇酰胺聚氧化乙烯加成物，例如椰子油脂肪酸一乙醇酰胺、椰子油脂肪酸二乙醇酰胺、月桂酸一乙醇酰胺、月桂酸二乙醇酰胺、肉豆蔻酸一乙醇酰胺、肉豆蔻酸二乙醇酰胺、硬脂酸一乙醇酰胺、硬脂酸二乙醇酰胺、棕榈酸一乙醇酰胺、棕榈酸二乙醇酰胺、油酸一乙醇酰胺、油酸二乙醇酰胺、棕榈仁油一乙醇酰胺、棕榈仁油脂肪酸二乙醇酰胺、月桂酸一异丙醇酰胺、肉豆蔻酸一异丙醇酰胺、硬脂酸一异丙醇酰胺、棕榈酸一异丙醇酰胺、油酸一异丙醇酰胺、棕榈仁油脂肪酸一异丙醇酰胺，以及它们的聚氧化乙烯加成物。
在这些表面活性剂中，酰基为月桂酰基的N-酰基肌氨酸盐、N-酰基-N-甲基丙氨酸盐、N-酰基牛磺酸盐或N-酰基-N-甲基牛磺酸盐是优选的。脂肪酸的酰基是月桂酰基的脂肪酸烷基醇酰胺或脂肪酸烷基醇酰胺聚氧化乙烯加成物是优选的。具体而言，N-月桂酰基肌氨酸盐、N-月桂酰基-N-甲基丙氨酸盐、N-月桂酰基牛磺酸盐或N-月桂酰基-N-甲基牛磺酸盐、月桂酸一乙醇酰胺或月桂酸二乙醇酰胺是更优选的。
在这些表面活性剂中，对于N-酰基肌氨酸盐、N-酰基-N-甲基丙氨酸盐、N-酰基牛磺酸盐或N-酰基-N-甲基牛磺酸盐，可以使用任何抗衡离子，只要它是碱性离子；但是有机胺或有机胺盐是优选的。在本发明中，用作表面活性剂抗衡离子的有机胺，其具体离子包括烷醇胺，如单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-甲基乙醇胺或N-乙基乙醇胺；以及烷基胺，如一乙胺、二乙胺或三乙胺。有机胺盐包括氢氧化四甲铵和氢氧化四乙铵。
这些表面活性剂可以单独使用，或与一种或多种联合使用，并且可按任意量掺入，只要能够形成均一的水溶液。考虑到效果，基于本发明表面活性剂水溶液的总量，掺入0.01-10.0重量％的表面活性剂，优选0.1-5.0重量％。
本发明使用的表面活性剂优选通过以下方法除去有机杂质、金属离子、氯离子等蒸馏、盐析、重结晶、离子交换处理、超滤脱盐、过滤和各种吸附处理，但是，可以使用防腐剂如paraben，以提高防腐性能。
尽管本发明表面活性剂水溶液的溶剂最好是水，但是，如果表面活性剂的溶解性差，或者表面活性剂水溶液强烈起泡，或者抗蚀剂涂布越过图案，则可以和水溶性有机溶剂混合。尽管任何水溶性有机溶剂都可以使用，但考虑到效果，使用具有1-8个碳原子的饱和或不饱和醇，如甲醇、乙醇、丙醇或异丙醇，具有2或3个羟基的饱和多元醇，如乙二醇、二甘醇或丙三醇，具有1-3个碳原子的饱和或不饱和烷基胺，如甲胺、二甲胺、三甲胺、乙胺、乙醇胺或二乙醇胺，烷基胺盐如四甲基铵盐，以及它们中的两种或多种的混合物。有机溶剂可以按任意浓度掺入，只要与水是混溶的，但是，基于本发明表面活性剂水溶液的总量，掺入1.0-20.0重量％有机溶剂是优选的，更优选1.0-5.0重量％。
对于本发明中用来溶解表面活性剂和有机溶剂的水的质量，没有特别的限制，但优选水通过以下方法除去有机杂质、金属离子、氯离子等蒸馏、离子交换处理、过滤和各种吸附处理等。另外，本发明的表面活性剂水溶液优选按照上述方法进行处理，除去杂质，最好不含有四分之一微米大小或更大的固体物质。
用本发明表面活性剂水溶液对涂层显影，可以采用常规已知的抗蚀剂显影的相同方法，并且可以使用抗蚀剂显影的常用的显影设备。一般情况下，进行显影可以采用显影喷嘴，如使用软冲式喷嘴(soft impact nozzle)，进行划桨式(paddle)或喷淋式显影，随后用纯水将残留在抗蚀图案表面和内部的表面活性剂漂洗掉。可以用水和醇(如乙醇和异丙醇)、有机胺(如三乙胺)或有机胺盐(如四甲基胺盐)的混合物代替纯水进行漂洗。另外，显影步骤之后，可烘烤抗蚀剂以除去图案中的水。
此外，为了更有效地利用本发明的表面活性剂水溶液，最好在适当范围内，控制溶液的温度、喷嘴冲排压力和时间，以及显影容器的湿度和温度。
对用来涂层的树脂组合物没有特别的限制，只要涂层树脂组合物是文献上已经报道的或可以买得到的，本发明的用于涂层显影的表面活性剂水溶液均能有效应用，其例子包括AZ R200(｀AZ′为注册商标，且适用于以下部分)，由克拉瑞特(日本)株式会社(Clariant(Japan)K.K.)制造，易于获得。
附图的简要说明图1为在显微镜下看到的接触孔图案(contact hole pattern)，上面存在显影残留物。
图2为在显微镜下看到的线和间隔图案(1ine and spacepattern)，上面存在显影残留物。
发明的最佳实施方式参照下文的实施例和对比实施例，本发明将得到更为详细的描述，但是本发明的实施方案并不限于这些实施例。
表面活性剂水溶液的制备按照下面的比例(重量比)将各组份混合、充分搅拌至溶解，所得溶液用0.1μm过滤器进行过滤，制得表面活性剂水溶液A和B。
N-月桂酰基肌氨酸三乙醇胺 5.0水95.0 N-月桂酰基-N-甲基丙氨酸三乙醇胺 5.0水95.0对比显影剂作为对比显影剂，与上述表面活性剂水溶液A和B进行比较，使用的是从克拉瑞特(日本)株式会社商购的AZ R2显影剂(不含表面活性剂的有机溶剂水溶液)。另外的对比显影剂，使用的是由克拉瑞特(日本)株式会社制造的AZ 600MIF和AZAQUATAR，它们是水溶液，所含的表面活性剂不同于本发明采用的表面活性剂。
线和间隔图案与接触孔图案的形成使用克拉瑞特(日本)株式会社制造的正性感光树脂组合物AZDX5400P，采用东京电子有限公司(Tokyo Electron Ltd.)制造的自旋式涂料器(MK-V)，对HMDS处理过的6英寸硅胶片进行涂覆，并在90℃的加热盘上预烤60秒，形成约0.54μm厚的树脂层，然后通过一个具有不同间隔宽度的线和间隔图案，采用具有KrF激光(248nm)照射波长的曝光设备(FPA-3000EX5，佳能股份有限公司(Canon Inc.)制造，NA＝0.63)，对胶片进行曝光，在110℃的加热盘上进行曝光后烘烤(PEB)90秒，然后在23℃，用克拉瑞特(日本)株式会社制造的碱性显影剂(AZ 300MIF显影剂，一种含有2.38重量％的氢氧化四甲铵的水溶液)进行喷雾划浆式显影(spray paddledevelopment)一分钟，得到正抗蚀图案。
接触孔图案的形成使用克拉瑞特(日本)株式会社制造的正性感光树脂组合物AZDX3200SC，采用东京电子有限公司制造的自旋式涂料器(MK-V)，对HMDS处理过的6英寸硅胶片进行涂覆，并在80℃的加热盘上预烤90秒，形成约0.76μm厚的树脂层，然后通过一个具有不同孔直径的孔图案，采用具有KrF激光(248nm)照射波长的曝光设备(FPA-3000EX5，佳能股份有限公司制造，NA＝0.63)，对胶片进行曝光，在110℃的加热盘上进行曝光后烘烤(PEB)60秒，然后在23℃，用克拉瑞特(日本)株式会社制造的碱性显影剂(AZ 300MIF显影剂，一种含有2.38重量％的氢氧化四甲铵的水溶液)进行喷雾划浆式显影一分钟，得到正抗蚀图案。
实施例1和2，对比实施例1使用克拉瑞特(日本)株式会社制造的AZ R200，采用东京电子有限公司制造的自旋式涂料器(MK-V)，对线和间隔图案与接触孔图案进行涂覆，并在85℃的加热盘上烘烤70秒，形成约0.4μm厚的水溶性树脂膜。然后将图案在115℃的加热盘上进行混炼式烘烤(mixing bake)70秒，以促使水溶性树脂膜的交联反应，然后在23℃，用上述表面活性剂水溶液A或B以及AZ R2显影剂进行划浆式显影一分钟，以除去未交联层，在线和间隔图案与接触孔图案上形成一个交联的不溶层(insolubilized layer)。这些图案在110℃的加热盘上烘烤70秒，将其干燥，计算出所得的收缩图案的尺寸收缩率和显影残留物的生成。结果如表1所示。
在形成层之前和之后，采用日立有限公司(Hitachi Ltd.)制造的S-9200高级CD-测量SEM仪，测量线和间隔图案的间隔宽度与接触孔图案的孔直径，按照下面的公式计收缩率，用于尺寸收缩率的评价。
收缩率(％)＝[{(形成不溶层之前的尺寸)-(形成不溶层之后的尺寸)}/(形成不溶层之前的尺寸)]×100[显影残留物生成的评价]在形成层之前和之后，采用日立有限公司制造的S-9200高级CD-测量SEM仪，在硅胶片的整个表面上观测100个点，对存在显影残留物如桥接和浮渣的点进行计数，用于显影残留物生成的评价。
图1和2表示的是存在显影残留物的线和间隔图案与接触孔图案的例子。评定上述显影残留物的生成，即使仅仅发现轻微的残留物，也被算作一个点，而不论生成的程度大小。
表1
上述表1显示，本发明的用于涂层显影的表面活性剂水溶液能够防止生成图案缺陷，并具有良好的尺寸收缩可控性。
实施例3和4，对比实施例2、3和4(起泡性能1的评价)采用东京电子有限公司制造的自旋式涂料器(MK-V)，将按照上述方法得到的线和间隔图案与接触孔图案，用水溶性树脂进行涂覆，并在85℃的加热盘上烘烤70秒，形成约0.4μm厚的水溶性树脂膜。然后将图案在115℃的加热盘上进行混炼式烘烤70秒，以促使水溶性树脂膜的交联反应，然后在23℃，将上述表面活性剂水溶液A或B、R2显影剂、AZ 600MIF和AZ AQUATAR涂到图案上，用肉眼检查这一步骤中所形成的气泡，结果如表2的“胶片上的起泡性能”一栏所示。
按照下面的标准，对起泡性能作出评价。
如果在整个胶片上看到小气泡，则起泡性能的等级为“高”；如果仅在胶片的边缘存在小气泡(即起泡的覆盖面小于整个胶片面积的10％)，则定为“中”；如果几乎没有气泡存在，则为“低”。
实施例5和6，对比实施例5、6和7(起泡性能2的评价)按照不同于上述起泡性能1的评价方法，对表面活性剂水溶液的起泡性能进行评价。
将大约12g上述表面活性剂水溶液A或B、R2显影剂、AZ600MIF和AZ AQUATAR分别置于一个50ml的透明玻璃容器，用接触式搅拌器搅拌容器30秒，用肉眼观察气泡，测量气泡全部消失所用去的时间。结果如表2的“振荡后的消泡性能”一栏所示。
表2
表2表明，本发明的表面活性剂水溶液所显示的起泡性能和消泡性能，与常规的显影剂相等或更低。
本发明的效果正如上面所详述的那样，采用本发明的表面活性剂水溶液作为显影剂，能够防止显影残留物的形成和显影缺陷，并且在图案微型化步骤，能够以良好的尺寸可控性形成涂层，所采用的图案形成方法中，在通过常规方法形成的抗蚀图案上，形成涂层并加厚抗蚀图案，能够有效地使沟图案和孔图案更为精细。此外，在高度集成的半导体元件生产过程中，能够以高产量实施精细加工，而不需要更大的设备。
权利要求
1.一种用于涂层显影的表面活性剂水溶液，包括表面活性剂和水或水与有机溶剂的混合物，其特征在于所述表面活性剂包括至少一种选自下面的物质N-酰基肌氨酸盐、N-酰基-N-甲基丙氨酸盐、N-酰基牛磺酸盐、N-酰基-N-甲基牛磺酸盐、脂肪酸烷基醇酰胺和脂肪酸烷基醇酰胺聚氧化乙烯加成物。
2.如权利要求1所述的用于涂层显影的表面活性剂水溶液，其特征在于所述表面活性剂的酰基的碳原子数目是10-14。
3.如权利要求1或2所述的用于涂层显影的表面活性剂水溶液，其特征在于所述表面活性剂的至少一种选自N-月桂酰基肌氨酸盐、N-月桂酰基-N-甲基丙氨酸盐、N-月桂酰基牛磺酸盐和N-月桂酰基-N-甲基牛磺酸盐。
4.如权利要求1所述的用于涂层显影的表面活性剂水溶液，其特征在于所述N-酰基肌氨酸盐、N-酰基-N-甲基丙氨酸盐、N-酰基牛磺酸盐和N-酰基-N-甲基牛磺酸盐的抗衡离子是有机胺或有机胺盐。
5.如权利要求1或2所述的用于涂层显影的表面活性剂水溶液，其特征在于所述脂肪酸烷基醇酰胺或脂肪酸烷基醇酰胺聚氧化乙烯加成物的脂肪酸碳原子数目是6-22，其烷基醇基团的碳原子数目是1-3，脂肪酸烷基醇酰胺聚氧化乙烯加成物的聚氧化乙烯链重复单元的数目是10或更小。
6.如权利要求1～5中任一项所述的用于涂层显影的表面活性剂水溶液，其特征在于所述表面活性剂的浓度是0.01-10.0重量％。
7.如权利要求1～6中任一项所述的用于涂层显影的表面活性剂水溶液，其特征在于所述有机溶剂至少包括选自下面的一种具有1-8个碳原子的饱和或不饱和的醇、具有2或3个羟基的饱和多元醇、具有1-3个碳原子的饱和或不饱和的烷基胺和具有1-3个碳原子的饱和或不饱和的烷基醇胺。
8.如权利要求1～7中任一项所述的用于涂层显影的表面活性剂水溶液，其特征在于所述水和有机溶剂以80∶20-99∶1的水对有机溶剂的比例混合。
9.一种形成图案的方法，包括在抗蚀图案上形成涂层，通过涂层的交联将抗蚀图案变厚，用显影剂除去未交联的涂层，有效地使图案更为精细，其特征在于如权利要求1～8中任一项所述的用于涂层显影的表面活性剂水溶液被用作显影剂。
全文摘要
本发明描述了用于涂膜层显影的表面活性剂水溶液,它至少含有一种选自以下的表面活性剂:N－酰基肌氨酸盐、N－酰基－N－甲基丙氨酸盐、N－酰基牛磺酸盐、N－酰基－N－甲基牛磺酸盐、脂肪酸烷基醇酰胺以及脂肪酸烷基醇酰胺同聚氧化乙烯的加成物。这种水性表面活性剂溶液作为显影溶液,用于缩小抗蚀图案间距宽度的方法,该方法包括:在按照常规方法形成的抗蚀图案上形成水溶性树脂涂膜层,在抗蚀图案所释放的酸的作用下将涂膜层进行交联,然后使用显影溶液溶解并除去涂膜的未交联部分,从而将抗蚀图案加厚。
文档编号H01L21/02GK1386214SQ01802203
公开日2002年12月18日 申请日期2001年7月19日 优先权日2000年8月4日
发明者神田崇 申请人:克拉瑞特国际有限公司