专利名称：掩膜法制作高温超导滤波器接触电极的方法
技术领域：
本发明属于微波通信技术领域，特别涉及高温超导滤波器制作技术。
超导滤波器的主要制作步骤为首先在介质基片(一般为AlLaO3、MgO等)的正面镀上一层超导薄膜，背面镀上一层金属或超导薄膜作为接地平面；然后用光刻技术把基片正面的超导薄膜蚀刻成微带线滤波器图形。微带线滤波器图形、介质基片和基片背面的接地平面就构成了超导滤波器。一般来说，滤波器图形的中间部分为一组微带线谐振器，边缘为两根馈线，以与外电路连接来输入输出信号。由于外电路为普通金属材料，与超导材料的直接接触不够牢固，同时接触电阻比较大，直接导致滤波器性能恶化，所以实际制作中要先在馈线上沉积或溅射一层金或银膜作为接触电极，再通过接触电极与外电路进行连接。
以往文献中公开的制作超导滤波器接触电极方法一般有两种剥离法(liftoffprocess)或者用金属沉积然后蚀刻的方法。前一种方法是在高温超导电路上涂上一层光刻胶，然后用光刻的方法定出接点图形和接点位置，去掉光刻胶，再在上面沉积金或银，最后用一些溶剂去掉光刻胶涂层及它上面的金或银，就形成所需要的金属接触电极。后一种方法是金或银金属层直接沉积在高温超导膜的上面，然后蚀刻处理去掉多余的金属层。这两种方法都要进行蚀刻处理，步骤烦琐，难于控制，容易对超导膜或金属层造成损害。
本发明提出的一种高温超导滤波器接触电极的制作方法，其特征在于，包括以下步骤(1)在一块厚金属平板上挖出一个槽，该槽长度和宽度比滤波器至少各大0.1mm，深度比滤波器厚度至少高0.1mm；(2)将滤波器放置在所说的槽中；(3)在一块尺寸和滤波器完全相同，厚度为0.1mm到0.2mm的金属薄片上切割出两条窄缝，两条窄缝位置与滤波器上两条馈线的位置完全相同，尺寸与所需制作的接触电极的相一致；(4)将上述切有窄缝的皮青铜或磷铜放置在该槽内的滤波器上，使滤波器的馈线上需制作接触电极的部分暴露在窄缝中，用压片固定该金属薄片；(5)将上述装有滤波器和金属薄片的厚金属板放入真空室，镀上金属膜；(6)取出滤波器，放入通氧的石英管中退火，然后冷却至室温；得到制有金属接触电极的滤波器。
上述金属薄片可采用变形小的材料，如皮青铜或磷铜薄片等。
本发明的良好效果本方法简单可行，容易控制，不会损伤超导薄膜或金属膜表面，可为高温超导电路与外电路的连接提供清洁表面。
本发明还适用于在其它氧化物薄膜上制作电极的情况。
图2为本发明实施例中所用的皮青铜示意图。
图3为本发明实施例中所用的滤波器示意图。
权利要求
1.一种高温超导滤波器接触电极的制作方法，其特征在于，包括以下步骤(1)在一块厚金属平板上挖出一个槽，该槽长度和宽度比滤波器至少各大0.1mm，深度比滤波器厚度至少高0.1mm；(2)将滤波器放置在所说的槽中；(3)在一块尺寸和滤波器相同，厚度为0.1mm到0.2mm的金属薄片上切割出两条窄缝，两条窄缝位置与滤波器上两条馈线的位置相同，尺寸与所需制作的接触电极的相一致；(4)将所述切有窄缝的金属薄片放置在该槽内的滤波器上，使滤波器的馈线上需制作接触电极的部分暴露在窄缝中，用压片固定该金属薄片；(5)将所述装有滤波器和金属薄片的厚金属板放入真空室，镀上金属膜；(6)取出滤波器，放入通氧的装置中退火，然后冷却至室温；得到制有金属接触电极的滤波器。
全文摘要
本发明属于微波通信技术领域，涉及掩膜法制作高温超导滤波器接触电极的方法。包括在一块厚金属平板上挖出一个槽，将滤波器放置在所说的槽中；在一块滤波器相同的金属薄片上切割出两条窄缝，其位置与滤波器上两条馈线的位置相同，尺寸与所需制作的接触电极的相一致；将金属薄片放置在该槽内的滤波器上，使滤波器的馈线上需制作的接触电极的部分暴露在窄缝中，用压片固定该金属薄片；将所述装有滤波器和金属薄片的厚金属板放入真空室，镀上金属膜；取出滤波器，放入通氧的装置中退火，然后冷至室温；得到制有金属接触电极的滤波器。本发明可省去蚀刻的烦琐步骤，避免损害超导膜或金属层；制作过程简单易行，并为后续外引线的接入提供清洁表面。
文档编号H01P11/00GK1414657SQ0215689
公开日2003年4月30日 申请日期2002年12月20日 优先权日2002年12月20日
发明者张晓平, 赵永刚, 王玉梅, 姚克贤, 曹必松 申请人:清华大学