专利名称：吸附垫的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种吸附垫，它包括垫部和支撑部，该垫部具有由产生比支撑上述对象物产生的负荷的支撑力大的吸附力的真空、对被支撑的面为平面的对象物的上述被支撑面进行吸附的支撑面以及被支撑的被支撑部，该支撑部，支撑上述被支撑部，尤其涉及在液晶玻璃基板的热处理的移送时防止真空吸附面脱落的技术。
背景技术：
对液晶显示器用玻璃基板(以下，简称为“玻璃基板”)等具有平面状的被支撑部的对象物、在热处理或其前后的工序进行移送时，通常使用安装在机械手上的多个吸附垫。即，为了以某种程度的高速且安全地移动·移送玻璃基板，不但将它简单地放在机械手上，而且通过吸附垫牢固地真空吸附玻璃基板。
这种基板移送部分的结构，通常，如图5所示，由玻璃基板W、承载该基板W的4个吸附垫1’的垫2’、被配置于机械手10上并安装着该垫2’的支撑体3’、与形成在垫2’中并与支撑体3’一侧相导通的真空吸引用的通路25、形成在垫2’的下部与支撑体3’之间的球面状支撑面24’及33’等构成。而且，通过球面状支撑面的垫的旋转，可与玻璃基板的弯曲或4个垫的支撑面的倾斜角的误差相对应。(例如参照专利文献1。)专利文献1特开平07-237765号公报(图1、2及相关说明)但是，在由上述的现行的吸附垫将1m左右的方形的大型的玻璃基板放入280℃左右的热处理室进行热处理后取出进行移送时，产生玻璃基板W与吸附垫1’的吸附支撑面22之间的真空度降低的问题。
这个问题被认为是由于玻璃基板的大型化而使作为多个吸附垫之间的最大间隔的图示的Cm变长，并在取出高温的玻璃基板时，其温度急剧地下降而使热收缩的量变大，又因玻璃基板与机械手之间的相对变位使它们双方均向处在其中间的吸附垫施加外力，而在现行的结构中不能与之相对应，是产生破坏真空的动作。另外，由于玻璃基板的大型化而产生重量增加，故也关系到在移送时在玻璃基板上产生的前进方向的惯性力的影响等。
即，如图6所示，在现行的球面支撑结构的吸附垫中，若玻璃基板沿箭头所示方向收缩、吸附垫的接触面沿其方向被力F拉引，则在吸附垫的球面状支撑面上产生的以整体阻止其拉引的力-F、作用在力的作用面的重心位置，对应于拉力F与阻力-F和它们的间隔h，使为M＝Fh的力矩作用于吸附垫上，而使其如箭头方向所示在图中沿顺时针方向旋转。
在这种情况下，由于垫2’被支撑体3’所支撑、不能直接沿F的作用方向运动，故F、-F是具有要大到改变与它们相关部分的支撑状态的性质的力。而且，会产生使一侧的吸附支撑面22a以另一侧的支撑面22b为支点、从玻璃基板W的下面W1要离开的脱离力，如图6(a)所示那样，有与玻璃基板的接触面离开而吸入大气、破坏其中的真空状态的可能性。
另外，如图6(b)所示，由F与-F的平行力偶使垫2与玻璃基板一起沿玻璃基板W的收缩方向被拉引而浮起，使球面状支撑面24’与33’之间离开，并使外部气体从该部分进入处于真空状态的通路25，而会对真空产生破坏。
发明内容
而且，实际上由上述原因会产生破坏真空的不良现象。因此，本发明解决了现行技术的上述问题，其目的在于提供一种即使在对象物的热变位等大的情况下也能可靠地防止真空破坏的吸附垫。
本发明为了上述目的，第1项发明的吸附垫，包括垫部和支撑部，该垫部具有由产生比支撑上述对象物产生的负荷的支撑力大的吸附力的真空、对被支撑的面为平面的对象物的上述被支撑面进行吸附的支撑面以及被支撑的被支撑部，该支撑部，支撑上述被支撑部，其特征在于上述被支撑部与上述支撑部，为上述垫部可沿与上述平面相平行的方向移动、并且上述支撑面可倾斜的支撑关系，并具有限制上述移动的量在小移动范围内的移动限制结构部与限制上述倾斜的量在小倾斜范围内的倾斜限制结构部。
在第2项发明中，除上述以外，其特征在于上述支撑部具有放入上述被支撑部的空间部；上述垫部具有与上述支撑面相导通、形成在上述被支撑部中并在上述空间部具有开口的通路，以形成上述真空；并且还具有密封部件，该密封部件，在上述空间部的从上述开口位置到上述支撑面一侧分隔上述空间部，遮断被分隔的两侧的透气性，并且对应上述移动与上述倾斜可变形。
图1(a)是表示应用本发明的吸附垫的截面状态的一例的说明图、(b)是表示将该吸附垫安装在机械手上的状态的俯视图。
图2(a)及(b)是表示应用本发明的吸附垫的另一例的截面状态的说明图。
图3是图1的吸附垫的原理的说明图。
图4是表示应用本发明的吸附垫的再一例的说明图，(a)及(b)分别是(b)及(a)的a-a线及b-b线的箭头示意图。
图5(a)是表示现行的吸附垫的截面状态的一例的说明图、(b)是表示将该吸附垫安装在机械手上的状态的俯视图。
图6(a)及(b)是上述现行的吸附垫的原理的说明图。
图中1-吸附垫，2-垫(垫部)，3-支撑箱(支撑部)，4-衬片(密封部件)，22-支撑面，23-筒状部(被支撑部)，23a-下端部(被支撑部)，23b-圆筒外面(移动限制结构部)，24-环面(倾斜限制结构部)，25-通路，25a-开口，31-平面部(支撑部)，32-内圈部(移动限制结构部)，33-上端面部(倾斜限制结构部)，34-空间部，34a、34b-外气侧、真空侧(被隔开的两侧)，c1-窄间隔(移动限制结构部)，c2-窄间隔(倾斜限制结构部)，Ft-平面，g-基板的自重分担部分(支撑对象物的负荷的支撑力)，V-吸附力，W-玻璃基板、基板(对象物)，W1-下面(被支撑的面)。
具体实施例方式
图1(a)是表示应用本发明的吸附垫的整体构成的一例的说明图。
吸附垫1，包括具有支撑面22和作为被支撑的被支撑部的筒状部23的垫部的垫2、作为可支撑筒状部23的支撑部的支撑箱3、及作为密封部件的衬片4等，其中，上述支撑面22，为形成在上端的中央部分21的周围的边缘部分、由真空可吸附作为被支撑的面的截面状态为图示的平面Ft的对象物的玻璃基板W(以下简称为“基板W”)的被支撑的下面W1。
上述的本实施例的吸附垫1，如图1(b)所示，被安装在机械手10上。即，将支撑箱3固定安装在机械手10的具有如图示的尺寸的位置。尺寸Cm是在本实施例中安装4个的垫1的最大间隔。此外，基板W的实际的支撑体是机械手，支撑箱3也可直接形成在机械手10上。另外，在(b)中以2个机械手10相分离的状态进行表示，但它们在未图示的位置为一体化。
垫2的筒状部23与支撑箱23，具有垫2可沿与平面Ft相平行的方向、即图示的截面状态的横X方向移动、且支撑面22可倾斜的支撑关系。可移动及倾斜的支撑关系，是以使支撑箱3不限制筒状部23的X方向的运动、并且在垫2以支撑筒状部23的状态旋转时使不会妨碍其旋转的方式实现的。例如，在如现行的吸附垫那样的球面支撑关系中，因为阻止垫向平面方向移动，所以即使可旋转也并不是可移动的支撑关系。
由此，在本实施例中，如图示那样，将筒状部23的下端部23a形成为曲面状，并将承受其的支撑箱3的与下端部23a相接触的面设置成截面朝向横X方向的平面部31。而且，除此之外没有设置妨碍移动与旋转的结构部分。此外，下端部23a与平面部31的曲面和平面的关系也可相反。另外，虽然只要一侧为小面积则、即使是平面之间的关系也可以，但是为了使旋转圆滑，最好是将任一个面设为曲面。另外，下端部23a通常只在相当于支撑面22的中心的位置设置1处，但也可形成多个曲面。
下端部23a与平面部31之间的关系，理想是使垫2容易移动与旋转的支撑关系。由此，在下端部23a与平面部31之间不产生大的摩擦力。这样，不把这些部分设为例如橡胶那样的材料，而设成具有一定程度的硬度、原本摩擦系数不大的材料，并且相互的接触面加工成为一定程度圆滑的面，以使相互间的摩擦系数不太大。在这种情况下，因为吸附垫也被使用在向热处理装置移入、移出基板W，所以作为其材料要求要具有耐热性，应优选考虑这方面。基于这样的条件，在本实施例中，在垫2及支撑箱3上分别使用耐热性树脂材料及不锈钢。而且，以一般的加工精度对它们进行加工，使两者之间的摩擦系数在0.3～0.4左右。
作为限制移动的量在小移动的范围内的移动限制结构部，在本实施例中，设有将被支撑部作为筒状部23的其圆筒外面23b、和与圆筒外面空出窄间隔c1并作为从支撑箱3凸出的凸出部而形成的内圈部32。如图1(b)所示的被安装的吸附垫1，虽然为了对其进行定位或保持姿势而原本最好不沿平面方向运动，但在本发明中，由于在吸附支撑时容易与基板W上产生的热膨胀及热收缩的热变位相对应，故作为小移动的范围，设定为能够确实允许上述热变位的范围。
此外，作为这种移动限制结构部，能够采用其他适当的结构。例如，也可取代内圈部32而在筒状部23上安装环，并在其与支撑箱3的内面之间设置上述间隔c1，或将内圈部32设成具有一定长度的长的筒状的结构。如果将内圈部设成筒状，则也可兼用在接着叙述的倾斜限制结构部上。
作为限制倾斜量在小倾斜范围内的倾斜限制结构部，在本实施例中，设有垫2的上端的中央部分21及支撑面22的下环面24、和与其相对向空出窄间隔c2的支撑箱3的上端面部33。如图1(b)那样安装的吸附垫1，虽然原本只要成为与机械手10的面相平行的基准面即可，但必须可与前述的基板W的弯曲或各自的垫的支撑面之间的倾斜角的误差等相对应。因为间隔c2是为此而设置的，所以例如支撑面22可定为倾斜到5°左右的范围。
此外，作为这种倾斜限制结构部，与移动限制结构部相同地也可采用其他适当的结构。例如，如上所述，如果将内圈部32设为具有一定的长度的筒状，则在吸附垫1倾斜时，由内圈部32的上下端阻挡其倾斜的圆筒外面23b，因此能够将其作为倾斜限制结构部。
另外，在本实施例的吸附垫1中，如图所示，支撑箱3具有放入筒状部23的空间部34，垫2具有与支撑面22相导通、形成在筒状部23中并在空间部34中具有开口25a的通路25，以形成用于吸附基板W的真空。而且，设有上述衬片4，该衬片4，在空间部34内的从开口25a的位置到支撑面22一侧分隔空间部34，并遮断由被分隔开的外气侧34a及真空侧34b形成的两侧的透气性，并且作为对应垫2的移动与支撑面22的倾斜可变形地形成的密封部件。符号35是与真空侧空间部34b相导通并与未图示的真空配管相连接、在真空吸引时通空气的中间通路。
衬片4作为分隔空间部34的结构，本实施例中，在筒状部23的开口25a上方的位置，在圆筒外面23b对衬片4的内径侧41进行密封粘接，同时，将支撑箱3分割成上下箱3a、3b两部分，并将衬片4的外径侧42夹在它们之间的槽部3c中。这样的衬片4，被形成截面为曲线状的曲面状，并且在本实施例中利用硅酮橡胶作为具有柔软性的材料，以便容易与如上所述的垫2的移动与支撑面22的倾斜相对应而产生变形。
这种衬片4，因为只要能够允许垫2向平面方向及旋转方向的运动、并且可对外气侧34a与真空侧34b之间进行密封即可，所以可设为除图1的形状以外的其他的适当的形状，图2表示其另一例。
其中(a)的结构，是将衬片4的内径侧41设成比圆筒外面23b稍小径的环端41a。符号23c是限位件。本实施例的结构是延伸环端41a并嵌在圆筒外面23b上进行安装的。从而，安装容易。另一方面，在圆筒外面23b与环端41a之间可由其收缩力得到密封性。
(b)示出的是将衬片4设为截面U字形的环状的例子。内外径侧41、42分别嵌入垫2的筒状部23及支撑箱3的槽部3c中，并与它们相接续的部分分别与圆筒外面23b及下箱3b的内面3b1相接触。
本实施例的衬片4，由于截面为U字形，所以，当在其中的作为外部压力的大气压Pa、和与通路25内为真空相同地形成真空的U字形外的真空压力Pv之间产生压力差时，由于利用垫2及支撑箱3支撑衬片4的侧面及底面，故对于真空的耐压性好。另一方面，由于U字形的宽度容易扩大缩小，故垫2容易沿横X方向运动。并且，本实施例的衬片4，因为具有既允许垫2移动又若其移动力消失则能够可靠地使垫2回复到原来的中心位置的作用，所以垫2的位置保持性好。其结果，能够使本实施例的衬片4设为移动及倾斜限制结构部。
以上所述的本发明的吸附垫1，通常如图1(b)所示被安装在机械手10上，用于基板W的向热处理装置的移入及移出的制造工序中的移动，发挥以下的作用效果。
在热处理装置内，叠放多张基板W，例如加热到280℃，若经过一定的加热时间，则在1个生产工序内逐张取出热处理完毕的基板并移入新的基板，依次进行热处理。此时使用装备了本实施例的吸附垫的机械手来进行基板W板的取出放入。
若将机械手10插入未图示的热处理装置内、设定其位置在应取出的基板W的下方，则上升并使基板W承载在图1例中的4个吸附垫1的支撑面22上。此时，形成有支撑面22的垫2，处于其筒状部23在内圈部32中的大致基准位置，并由支撑箱3的上端面部33维持支撑面22的下方的环面24在小倾斜角的范围内，以使其容易移动及旋转，因此若在垫的支撑面22上承载基板W，则支撑面22在大致基准位置沿基板W的下面W1相接触，以支撑基板W。
另外，此时，安装在自动机械上并驱动机械手10的未图示的真空装置动作，通过在机械手内或其外部、沿其导引设置的未图示的真空配管，依次经过形成在支撑箱3内的中间通路35、真空侧空间部34b、开口25a及形成在筒状部23内的通路25，从上端的中央部分21与基板的下面W1之间的间隙部分吸引空气。其结果，4个吸附垫1的所有支撑面22完全与基板的下面W1相接触而对其进行吸附支撑。该吸附力，如后所述，被设定为比1个吸附垫1所分担的基板W的重量部分的负荷支撑力大。
此时，基板W因热处理而成为280℃的温度。另一方面，因为只是机械手10插入热处理室内，所以温度并不怎么上升。在该状态从热处理室移出支撑基板W的机械手，再将基板W移到下面的处理生产线。而且在这之间，基板可在慢冷却室或外面的外气温度环境下急剧地降低温度。
其结果，在机械手10上的一定位置被支撑的基板W产生收缩。其收缩量，假如基板温度从280℃下降到常温，则在1m左右的方形基板W的图1的垫之间的最大距离Cm之间约为1mm。此时，垫2承受来自基板W及支撑箱3的外力，其关系表示在图3中。
在机械手10上，处在图1(b)的最大间隔Cm的位置关系的吸附垫1，为了使基板W收缩1mm左右而通过吸附支撑面22由基板W的下面W1沿平行其面的方向承受拉力，与此相对，克服垫2的下端部23a与支撑箱3的平面部31之间的摩擦力R。从而，若将拉力设为F，则在垫2到运动之前为F＝-R的关系，即作用有与摩擦力大小相同、方向相反的拉力F。
另一方面，在垫2上，作为产生上述摩擦力R的朝向下方的垂直力，作用有基板W的自重G的这些吸附垫1的分担部分g，和在由真空产生的力作用在衬片4上时、因其产生的向下施加在筒状部23上的真空分担力v。从而，若在上述摩擦力作用的面之间的摩擦系数设为μ，则R＝μ(g+v)。
另外，若这样因摩擦而作用由R与-R构成的力偶，则据此，产生M1＝Rh的力矩。h是图示的R的作用面之间的距离。该力矩M1，在垫的支撑面22的图中，成为产生要使右端部分22a从基板的下面W1向图中的下方脱离的力的脱离力矩。从而，该力成为要产生真空破坏的力。
与此相对，因为在基板的下面W1与支撑面22之间作用有由真空产生的吸附力V，所以若产生上述脱离力矩M1，则在图中以支撑面22的左端部分22b为中心产生M2＝VD/2的粘接力矩，以与其相对抗。
从而，只要M1小于M2，则垫的支撑面22就不会从基板下面W1脱离，因此不产生真空破坏。在此，比较M1与M2，如下所示。
如果将由真空产生大气压Pa与真空压力Pv的压力差设为ΔP，将对支撑面22及衬片4的压力部分的直径分别设为D及d，则v＜ΔP(πd2/4)(1/2)，假设v＝Δ P(πd2/4)(1/2)、V＝ΔPπD2/4)，则M1及M2分别为M1＝μ(g+v)h＝μgh+μvh＝μgh(自重部分)+μΔ p(πd2/4)(1/2)h(真空部分)---(1)M2＝VD/2＝ΔP(πD2/4)(D/2)---(2)。
在此，机械手10尽量制作得较薄，以减轻其重量，另一方面，支撑面22的直径，为要获得保持基板所必需的吸附力的大小、被设为D3h左右。另外，如前所述的真空吸附力V，比分担负荷的支撑力g大。另外，在M1中存在例如0.3左右的μ。并且，因为衬片4被放入支撑箱3的空间部34内，所以其直径d比支撑面22的直径D充分小，例如被设为D＝2d左右。其结果，假使V为g的2倍左右，M2也是M1中的自重部分的10倍、真空部分的40倍，从而成为M1的8倍。
其结果，粘接力矩M2为大值、与脱离力矩M1相比具有充分的余量，能可靠地防止支撑面22相对基板W的脱离、及由其产生的真空破坏。
另一方面，作为与实际使用的吸附垫相关的各条件的一例，若按ΔP＝0.05Mpa、1m左右大小的方形基板时的g＝2N、d＝14mm、h＝10mm、D＝30mm、μ＝0.3计算v、V、M1、M2，则v3.8N、V35N、M10.0174Nm、M20.525Nm30M1。从而，能够以大到不产生问题的安全系数防止由支撑面的脱离产生的真空破坏。
此外，在这种关系中，因为垫2被设成可在与支撑箱3之间移动的支撑关系，所以对于基板W的热收缩，实际上以稍超过-R的拉力F使垫2沿热收缩方向运动1mm左右。
对于这点，在现行的球面支撑型的吸附垫中，由于不允许垫沿基板支撑面方向移动，故具有吸附面的脱离力矩变大、使吸附面相脱离、破坏真空状态的缺点，实际上也确实产生如上所述的不良现象。根据应用本发明的吸附垫，能够确实解决如上所述的这类问题。此外，若吸附面相脱离，则在基板W的移出时，由其加速度或振动等施加在基板W上的外力，不用说有基板W从支撑面上脱落的危险性等。
图4是表示应用本发明的吸附垫的另一构成例。
本实施例的吸附垫1，与图1的相比较不设置作为密封部件的衬片4。而且，由与图1的相同作为被支撑部的筒状部23内所设的通路25、开在支撑箱3内的导引孔36、及与通路25相连接的贯通导引孔36并与机械手10的真空吸引配管相连接的容易变形地形成的中间管5等构成在支撑面上产生真空的结构部分。
中间管5以容易变形的方式、在本实施例中由入口部51、呈螺旋状绕与其相连接的筒状部23一圈左右的弯曲部52、从导引孔36导出的出口部53、及与其相接续的管54等构成。这种中间管5由具有柔软性的耐热树脂材料等制成，并以焊接等方式安装在筒状部23上。通过导引设置这种形状及材质的中间管5，而能够使真空的保持性良好。而且，利用入口部51与出口部件53之间的变位的自由性，能够容易允许垫2的移动及旋转。
(发明的效果)根据如上所述的本发明，在第1项发明中，吸附垫包括垫部和支撑部，该垫部具有由产生比支撑由对象物产生的负荷的支撑力大的吸附力的真空、对被支撑的面为平面的对象物的被支撑面进行吸附的支撑面以及被支撑的被支撑部，该支撑部，支撑被支撑部，所以如果在使对象物移动时维持真空，则由真空吸附支撑作为被热处理的基板的液晶玻璃基板等对象物，而包含向热处理室内的移出放入在内，能够安全地使对象物移动。
而且，由于将被支撑部与支撑部设为垫部可沿与平面相平行方向移动的支撑关系，所以当从吸附开始到移动时期间、在基板等对象物上产生大的温度差而使对象物因热产生膨胀或收缩、安装于支撑部上的垫部在对象物与支撑部之间受到沿与平面相平行方向的力时，相对支撑部，垫部与进行吸附支撑的对象物一起沿其平面的方向移动，因此，能够由比支撑对象物的支撑负荷大的充分的吸附力、可靠地维持对象物与支撑部之间的进行吸附的接触关系。其结果，能够维持吸附部的真空并将对象物安全地移动。
在这种情况下，针对作用于对象物的被支撑的面与垫部的支撑面吸附的接触面上的其平面方向的外力，在垫部的被支撑部与支撑其的支撑部之间的另一接触部处，虽然为可移动的支撑关系，但由接触不可避免地产生摩擦力，并由于外力比摩擦力大，故垫部移动以释放外力，但在此之前，摩擦力和与其大小相等方向相反的外力成为力偶，据此产生外力力矩，产生要脱离吸附接触面的力。
但是，摩擦力由支撑对象物的负荷的支撑力产生，并由于存在摩擦系数故通常比支撑力较小。与此相对，相对于外力力矩产生对抗力矩的吸附力，与支撑力相比越大，就越比摩擦更大。另外，成为决定外力力矩的大小的其他条件的吸附接触面与其他的接触面的间隔，无需设定得特别大，为了使支撑部插入进行热处理的基板的间距之间以及减轻重量而被安装在厚度尽量设得薄的机械手等上，故受到小间隔的限制，因此通常设为比吸附面的间隔较小的值。其结果，对抗力矩为比外力力矩充分大的值，垫部不会使吸附接触面脱离地容易沿平面方向移动，能够可靠地防止产生真空破坏。
另外，因为被支撑部及支撑部，为使与对象物的被支撑的面相接触的垫部的支撑面能够容易倾斜那样的支撑关系，所以通常即使在装备于机械手等上的多个吸附垫之间支撑面的倾斜状态有误差，也因各支撑面容易倾斜而可与对象物的被支撑面相接触。其结果，能够可靠产生由真空进行吸附支撑时的真空。
并且，因为设有限制移动的量在小移动的范围的移动限制结构部，所以限制垫部不必要的移动，并将其维持在基准的支撑位置的范围内，能够满足在以对象物为目的的位置进行支撑的支撑条件。
进而，因为设有限制倾斜的量在小倾斜的范围的倾斜限制结构部，所以即使在垫部的支撑面不支撑对象物时，也将支撑面维持在只必需的尽量小的倾斜角内，在支撑对象物时，防止由大的角变位产生的支撑位置的错位，并且能够易于与对象物相接触。
在第2项发明中，因为支撑部具有放入被支撑部的空间部；垫部具有与支撑面相导通、形成在被支撑部中并在空间部具有开口的通路，以形成所述；并且还具有密封部件，该密封部件，在空间部的从开口位置到支撑面一侧分隔空间部，遮断被分隔的两侧的透气性，所以能够使开口侧的空间部成为可形成真空的真空空间。其结果，在支撑部上设有开口于真空空间的导通孔，与垫部没有连接关系、可在不运动的支撑部上连接真空配管。其结果，能够容易连接真空配管。
而且，该密封部件，因为可与垫部的移动与其支撑面的倾斜相对应变形，所以不会妨碍垫部的移动，从而在对象物有热收缩时不会有助于由此产生的吸附支撑面的脱离与真空破坏。此外，因为密封部件通常由某种程度柔软的材料形成，所以通过使用这样的材料成为通常可变形的形状，而能够不妨碍这种垫部容易移动与倾斜的特性。
另一方面，若这样设置密封部件，将空间部分隔成为真空状态，则在密封部件处、在被分隔的空间部的内外之间产生压力差，密封部件虽然受到基于真空的外压，但能够承受得住该外力、并遮断如前所述的透气性、保持真空。这种密封部件的构成，以公知的适当的方法将密封部件的两端固定在具有成为形成空间部的开口的垫部与支撑部上，并且通过适当地选择仅承受得住上述外压的材质或厚度的材料而容易实现。
另外，因为若外压加在密封部件上、则其一端侧的力加在垫部上，所以除由对象物的负荷产生的的支撑力外，该外压力也作用在被支撑部与支撑部之间，使摩擦力增加。但是，因为无需增大空间部并增大密封部件，而且空间部被形成在支撑部中，所以空间部的面积被设定得比对象物的支撑面的面积较小，故外压力远远小于接触面的吸附力。而且，因为与支撑力的情况相同，通过摩擦系数产生摩擦力，所以最终由该附加的外压力产生的力成为比吸附面的接触力充分小的值。其结果，可靠地维持由支撑面与对象物的被支撑面之间的真空吸附产生的接触状态。
权利要求
1.一种吸附垫，包括垫部和支撑部，所述垫部具有由产生比支撑所述对象物产生的负荷的支撑力大的吸附力的真空、对被支撑的面为平面的对象物的所述被支撑面进行吸附的支撑面以及被支撑的被支撑部，所述支撑部支撑所述被支撑部，其特征在于所述被支撑部与所述支撑部，为所述垫部可沿与所述平面相平行的方向移动、并且所述支撑面可倾斜的支撑关系，并具有限制所述移动的量在小移动范围内的移动限制结构部与限制所述倾斜的量在小倾斜范围内的倾斜限制结构部。
2.如权利要求1所述的吸附垫，其特征在于所述支撑部具有放入所述被支撑部的空间部；所述垫部具有与所述支撑面相导通、形成在所述被支撑部中并在所述空间部具有开口的通路，以形成所述真空；并且还具有密封部件，该密封部件，在所述空间部的从所述开口位置到所述支撑面一侧分隔所述空间部，遮断被分隔的两侧的透气性，并且对应所述移动与所述倾斜可变形。
全文摘要
一种吸附垫，吸附垫(1)包括具有可由真空吸附基板(W)的下面(W
文档编号H01L21/677GK1517286SQ0316020
公开日2004年8月4日 申请日期2003年9月27日 优先权日2003年1月7日
发明者福岛彰, 神田敏朗, 小谷善彦, 彦, 朗 申请人:爱斯佩克株式会社