提供液滴至衬底上的装置及用该装置制造显示装置的方法

文档序号:6835376阅读:232来源:国知局
专利名称:提供液滴至衬底上的装置及用该装置制造显示装置的方法
技术领域
本发明涉及提供液滴至衬底上的装置、以及采用提供液滴至衬底上的该装置制造显示装置的方法。更特别地,本发明涉及一种用于提供液滴至衬底上的装置,该装置可使含有挥发性溶剂的液滴的蒸发速率一致,并涉及一种采用提供液滴至衬底上的该装置制造显示装置的方法。
背景技术
信息处理装置的能力增加,且信息处理装置被广泛应用。
信息处理装置输出被编码成电信号的数据。信息处理装置包括显示装置以显示与电信号对应的图像。
显示装置可划分为发射显示装置和非发射显示装置。
发射显示装置采用发光元件显示图像。发射显示装置的例子有阴极射线管(CRT)、等离子体显示板(PDP)、发光二极管(LED)、有机发光显示装置(OLED)等。
非发射显示装置采用光反射、光散射和光干涉等显示图像。非发射显示装置的例子有液晶显示(LCD)装置、电化学显示(ECD)装置和电泳成像显示(EPID)装置等。
OLED装置具有多种特征,例如,诸如亮度高、重量轻、厚度薄和功耗低等。
当高电压施加到发光区域时,发光区域的分子被激发,激发的分子接着跃迁到基态以产生光。
OLED装置还可包括有机发光层,其位于像素电极和对电极(counterelectrode)之间。像素电极供给有机发光层电子,且对电极供给有机发光层空穴,使得电子与空穴结合。由此,有机发光层中的分子被激发。当激发的分子跌至基态时,产生光。
OLED的有机发光层可以用丝网印刷工艺、喷印工艺等形成。
在丝网印刷工艺中,形成有机发光层的材料通过掩模的开口被提供到衬底。
在喷印工艺中,形成含有挥发性溶剂的有机发光层的材料通过喷嘴被滴到衬底上。为形成有机发光层,形成围绕像素电极的隔墙。形成有机发光层的材料被滴到由隔墙形成的空腔中。形成有机发光层的滴落的材料接着被干燥以形成有机发光层。
当像素电极的数量增加时,形成有机发光层的材料可以不同时滴下。因此,衬底可以被划分为若干组,形成有机发光层的材料可相应于每个组而印刷。
形成位于每个组的周围部分的有机发光层的材料的蒸发速率可不同于形成位于组的中心部分的有机发光层的材料的蒸发速率。
当分别位于周围部分和中心部分的材料的蒸发速率相互不同时,周围部分内的有机发光层的厚度可能不同于中心部分的有机发光层的厚度,从而相应于周围部分的亮度可能不同于相应于中心部分的亮度,因此使图像显示质量恶化。

发明内容
本发明提供一种用于提供液滴至衬底上的装置,其可使含有挥发性溶剂的液滴的蒸发速率一致。
本发明还提供一种采用上述用于提供液滴至衬底上的装置制造显示装置的方法。
按照本发明的一个方面,提供液滴至衬底上的装置包括基体(basebody)、滴液单元和蒸气供给单元。基体与位于平台(stage)上的衬底相对应。滴液单元设置在基体上。滴液单元包括喷嘴以将液滴滴到衬底上。蒸气供给单元设置成与滴液单元相邻,以向滴在衬底上的液滴供给挥发性溶剂的蒸气。
按照本发明的另一方面,供给液滴至衬底上的装置包括基体,滴液单元,蒸气供给单元和底座传送单元。基体对应于位于平台上的衬底。滴液单元位于基体上并沿第一方向传送。滴液单元包括喷嘴以将含有涂层材料的液滴滴至衬底上。涂层材料包括溶质和挥发性溶剂。蒸气供给单元位于基体上与滴液单元相邻,且沿第二方向移动、用于向滴到衬底上的液滴提供挥发性溶剂蒸气、以使挥发性溶剂的蒸发速率一致。底座传送单元沿第二方向传送基体。
按照本发明的再一方面,供给液滴至衬底上的装置包括基体,滴液单元和腔室。基体对应于位于平台上的衬底。滴液单元位于基体上且沿第一方向传送。滴液单元包括喷嘴以将含有涂层材料的液滴滴在衬底上。涂层材料包括溶质和挥发性溶剂。腔室包括具有容纳基体和滴液单元的容纳空间的腔体、以及向容纳空间供给挥发性溶剂蒸气的蒸气供给单元。
按照本发明的另一方面,供给液滴至衬底上的装置包括基体,滴液单元和蒸气供给单元。基体对应于位于平台上的衬底。滴液单元位于基体上。滴液单元包括喷嘴以将液滴滴至衬底上。蒸气供给单元设置成与滴液单元相邻、用于向衬底的上表面供给挥发性溶剂蒸气。
按照本发明的示例性实施例,提供一种制作显示装置的方法。施加以驱动信号的第一电极形成于衬底上。分隔墙形成于衬底上。分隔墙围绕第一电极以形成空腔于第一电极上。含有挥发性溶剂和形成有机发光层的材料的液滴被滴到空腔中,同时挥发性溶剂蒸气被供给到液滴。液滴被干燥以形成有机发光层于第一电极上。第二电极形成于有机发光层上。
用于供给液滴至衬底上的装置可以形成OLED装置的有机发光层、OLED装置的空穴注入层、OLED装置的电子注入层、OLED装置的边(bank)、液晶显示(LCD)装置的滤色片(color filter)和等离子体显示板(PDP)装置的荧光层等。
因此,滴到像素上的液滴的蒸发速率被调整以使层的厚度一致,从而改善图像显示质量。


通过参照附图详细地描述本发明的示例性实施例,本发明的上述和其他优点将变得更加明显,其中图1是截面图,显示按照本发明示例性实施例的供给液滴至衬底上的装置;图2是平面图,显示按照本发明示例性实施例的滴液单元和蒸气供给单元;图3是沿图2中的I-I’线截取的截面图;图4是截面图,显示按照本发明另一示例性实施例的供给液滴至衬底上的装置;
图5是电路图,显示按照本发明另一示例性实施例的外围电路区;图6A、6C、6E是平面图,显示按照本发明另一示例性实施例的制作外围电路区的方法;图6B是沿图6A中II-II’线截取的截面图;图6D是沿图6C中III-III’线截取的截面图;图6F是沿图6E中IV-IV’线截取的截面图;图7是截面图,显示按照本发明另一示例性实施例的分隔墙;图8是平面图,显示按照本发明另一示例性实施例的分隔墙;图9A、9C、9E是平面图,显示按照本发明一示例性实施例的采用用于供给液滴至衬底上的装置制造显示装置的方法;图9B是沿图9A中V-V’线截取的截面图;图9D是沿图9C中VI-VI’线截取的截面图;图9F是沿着图9E中VII-VII’线截取的截面图;图9G是截面图,显示按照本发明一示例性实施例的显示装置;图10是截面图,显示按照本发明另一示例性实施例的采用用于供给液滴至衬底上的装置制造滤色片衬底的方法;以及图11是截面图,显示用图10中所示出的装置制作的滤色片衬底。
具体实施例方式
以下,将参照附图详细描述本发明的实施例。
图1是截面图,显示按照本发明一示例性实施例的用于供给液滴至衬底10上的装置100。
参照图1,用于供给液滴至衬底10上的装置100包括平台110、基体120、滴液单元130、蒸气供给单元140和基体传送单元(base transportingunit)150。
衬底10位于平台110上。衬底10可以包括含有有机发光层的有机发光元件。
基体120位于平台110之上。滴液单元130和蒸气供给单元140与基体120固定。
图2是平面图,显示按照本发明的示例性实施例的滴液单元和蒸气供给单元。图3是沿图2中I-I’线截取的截面图。
参见图1至3,滴液单元130与基体120固定。滴液单元130包括喷嘴,包含溶质和挥发性溶剂的涂层材料穿过该喷嘴被滴到衬底10上。滴液单元130可以包括多个喷嘴132。溶质可以包括多种材料,例如,诸如形成空穴注入层的材料、形成电子注入层的材料、形成有机发光层的材料、形成滤色片的材料和含有光致抗蚀剂的有机材料等。滴液单元130可沿第一方向被传送,且可在第二方向上移位。第二方向不同于第一方向。例如,第二方向可基本上垂直于第一方向。溶质可包括形成有机发光层的材料。
滴液单元130包括涂层材料供给模块133,喷嘴盘134,机架(housing)135和机架传送模块136。
涂层材料供给模块133经过喷嘴132向位于平台110上的衬底10供给涂层材料。涂层材料供给模块133包括存储涂层材料的存储罐133a、引导涂层材料从存储罐133a至喷嘴132的导管133c、和控制涂层材料流量的质流控制器(MFC)133b。存储于存储罐133a中的涂层材料包括溶质和挥发性溶剂。存储罐133a采用MFC133b通过导管133c间歇性地向喷嘴132供给涂层材料。
喷嘴盘134与喷嘴132固定。喷嘴132与导管133c连接,通过导管涂层材料被供给至喷嘴132。每个喷嘴132改变涂层材料成小尺寸液滴130a,且液滴130a被滴到位于平台110上的衬底10上。也即,多个液滴130a可滴到衬底10上。
喷嘴132与机架135固定,机架135与机架传送模块136固定。
机架传送模块136位于基体120上,以沿第一方向传送滴液单元130的机架135。机架传送模块136包括沿第一方向延伸的第一传送棒136a,和沿第一传送棒136a传送机架135的第一传送部分136b。
第一传送棒136a的两个端部被枢转地支在基体120上,且第一传送棒136a被用螺纹拧在机架135上。第一传送部分136b沿着顺时针/逆时针方向转动第一传送棒136a,使得机架135可以沿着在第一方向上延伸的第一传送棒136a被传送。
或者,第一传送棒136a可与基体120固定,且第一传送棒136a可在机架135上滑动使得第一传送部分136b利用液压缸(cylinder)沿第一方向传送机架135。第一传送部分136b可在平台110上传送机架135。因此,机架135可沿着在第一方向上延伸的第一传送棒136a被传送。
滴液单元130可进一步包括旋转喷嘴132的旋转单元137,喷嘴132被设置成与衬底10基本平行。旋转单元137的旋转轴基本上垂直于衬底10的表面。旋转单元137控制喷嘴132之间的距离,且滴到衬底10上的液滴130a之间的距离可以小于喷嘴132之间的距离。
蒸气供给单元140使滴到衬底10上的液滴130a中的挥发性溶剂的蒸发速率一致,因此使得由液滴130a形成的涂层的厚度一致。
蒸气供给单元140位于基体120上。蒸气供给单元140包括第一供给模块142和第二供给模块144。或者,第一供给模块142和第二供给模块144中的一个可以省去。
第一供给模块142通过第一支撑组元142a设置在基体120上。第一供给模块142具有长方体形状,且第一供给模块142的主轴基本平行于第一方向。第一供给模块142包括第一主体142b、第一喷嘴孔142c和第一溶剂蒸气供给部分142d。或者,第一供给模块142可包括多个第一喷嘴孔142c。
第一主体142b具有长方体形状,在第一主体142b内具有空腔。第一喷嘴孔142c位于第一主体142b的与平台110对应的表面上。第一溶剂蒸气供给部分142d将溶剂蒸气供给第一主体142b。由第一溶剂蒸气供给部分142d提供的溶剂蒸气基本上等同于涂层材料中的挥发性溶剂。第一溶剂蒸气供给部分142d包括存储挥发性溶剂的第一存储容器142e、以及蒸发挥发性溶剂的第一蒸发器142f。
第二供给模块144利用第二支撑组元144a设置于基体120上。第二供给模块144具有长方体形状,且第二供给模块144的主轴基本上平行于第一方向。第二供给模块144包括第二主体144b、第二喷嘴孔144c和第二溶剂蒸气供给部分144d。第二供给模块144可包括多个第二喷嘴孔144c。
第二主体144b具有长方体形状,第二主体144b中有空腔。第二喷嘴孔144c位于第二主体144b的与平台110对应的表面上。第二溶剂蒸气供给部分144d将溶剂蒸气供给第二主体144b。由第二溶剂蒸气供给部分144d提供的溶剂蒸气基本上等同于涂层材料中的挥发性溶剂。第二溶剂蒸气供给部分144d包括存储挥发性溶剂的第二存储容器144e、以及蒸发挥发性溶剂的第二蒸发器144f。
或者,一个溶剂蒸气供给单元可向第一和第二供给模块142和144供给挥发性溶剂蒸气。
优选地,经第一和第二喷嘴孔142c和144c喷出的挥发性溶剂蒸气的尺寸不大于约5微米。当挥发性溶剂蒸气的尺寸大于约5微米时,挥发性溶剂蒸气可能直接滴到衬底10上,使得衬底10的表面被污染,且涂层材料的厚度可能彼此不同。
液滴130a被滴到衬底10上,同时挥发性溶剂蒸气被供给到衬底10上。因此,液滴130a的蒸发速率被均匀化,使得具有均匀厚度的涂层形成于衬底10上。
蒸气供给单元140可进一步包括距离控制模块146。当滴液单元130的喷嘴132被旋转单元137旋转时,喷嘴132和蒸气供给单元140之间的距离D被改变。距离控制模块146控制距离D。
基体传送单元150沿第二方向传送滴液单元130和蒸气供给单元140。基体传送单元150位于基体120上。基体传送单元150可采用螺杆法、液压缸法等操作。
图4是截面图,显示按照本发明另一示例性实施例的供给液滴至衬底上的装置。参照图4,相同的附图标记代表图1到3中的相同元件,于是任何涉及相同元件的进一步详细描述将被省略。
参照图4,用于供给液滴至衬底10上的装置包括基体150、滴液单元160和腔室170。
基体150位于与平台110对应的位置上,该平台110含有位于平台110上的衬底10。基体150沿着在第一方向上延伸的传送棒152被传送。
滴液单元160将含有涂层材料的液滴供给位于平台110上的衬底10。滴液单元160可向衬底10供给多个液滴160a。滴液单元160与基体150固定。
滴液单元160包括喷嘴,通过喷嘴包含溶质和挥发性溶剂的涂层材料被滴到衬底10上。滴液单元160可包括多个喷嘴162。滴液单元160可沿第一方向被传送,且可在基本上与第一方向垂直的第二方向上移位。溶质包括形成有机发光层的材料。溶质可包括形成空穴注入层的材料、形成电子注入层的材料或形成有机发光层的材料。
滴液单元160包括涂层材料供给模块163、喷嘴盘164、机架165和机架传送模块166。
涂层材料供给模块163经喷嘴162向位于平台110上的衬底10供给涂层材料。涂层材料供给模块163包括存储涂层材料的存储罐163a、引导涂层材料从存储罐163a至喷嘴162内的导管163c、和控制涂层材料的流量的质流控制器(MFC)163b。存储于存储罐163a中的涂层材料包括溶质和挥发性溶剂。存储罐163a利用MFC 163b间歇性地通过导管163c向喷嘴162供给涂层材料。
喷嘴盘164与喷嘴162固定。喷嘴162连接到导管163c,使得涂层材料通过喷嘴162供给到衬底10。每个喷嘴162改变涂层材料成具有小尺寸的液滴160a,且液滴160a被滴到位于平台110上的衬底10上。
喷嘴162与机架165固定。
机架传送模块166位于基体150上以沿着第一方向传送滴液单元160的机架165。机架传送模块166包括沿第一方向延伸的第一传送棒166a,和沿第一传送棒166a传送机架165的第一传送部分166b。
第一传送棒166a与基体150固定,且第一传送棒166a可以用螺纹拧在机架165上。第一传送部分166b以顺时针/逆时针方向旋转第一传送棒166a,使得机架165可以沿在第一方向延伸的第一传送棒166a被传送。
或者,第一传送棒166a可与基体150固定,且第一传送棒166a可在机架165上滑动,使得第一传送部分166b采用液压缸沿第一方向传送机架165。因此,机架165可沿在第一方向延伸的第一传送棒166a传送。
腔室170包括腔体172和蒸气供给单元174。
腔体172包括容纳基体150和滴液单元160的容纳空间170a。
蒸气供给单元174向腔体172内形成的容纳空间170a提供挥发性溶剂蒸气174a。挥发性溶剂蒸气174a基本上等于每个液滴160a中的挥发性溶剂。挥发性溶剂蒸气174a的蒸气压(vapor pressure)基本上相同于滴到衬底10上的每个液滴160a中的挥发性溶剂的蒸气压。或者,挥发性溶剂蒸气的蒸气压可小于每个液滴160a中的挥发性溶剂的蒸气压。
蒸气供给单元174包括存储容器174b、蒸发器174c和喷嘴部分174d。
基本上等同于每个液滴160a中的挥发性溶剂的挥发性溶剂被存储于存储容器174b中。存储容器174b采用泵174e将挥发性溶剂供给蒸发器174c。蒸发器174c采用超声波或加热来蒸发供给自存储容器174b的挥发性溶剂。喷嘴部分174d将在蒸发器174c中被蒸发的挥发性溶剂蒸气供给腔体172的容纳空间170a。喷嘴部分174d可喷射挥发性溶剂蒸气至容纳空间170a。喷嘴部分174d包括其中提供有挥发性溶剂蒸气的空间、以及挥发性溶剂蒸气经过其被供给至容纳空间170a的喷嘴孔(未显示)。或者,喷嘴部分174d可包括多个喷嘴孔(未显示)。
存储容器174b可进一步包括压力计174f。压力计174f检测腔体172中挥发性溶剂蒸气的压力。因此,腔体172中挥发性溶剂蒸气的压力可利用压力计174f调整。
图5是电路图,显示按照本发明的另一示例性实施例的外围电路区,图6A、6C和6E是平面图,显示制作按照本发明的另一示例性实施例的外围电路区的方法。图6B、6D和6F分别是沿图6A、6C和6E中的II-II’线、III-III’线和IV-IV’线截取的截面图。
参照图5到图6F,相同的附图标记代表图1到3中相同的元件,于是任何涉及相同元件的进一步详细描述将被省略。
参照图5到图6B,栅金属薄膜(未显示)形成于衬底10上。栅金属薄膜(未显示)可通过化学气相沉积工艺或溅射沉积工艺形成。光致抗蚀剂被涂覆在栅金属薄膜上以形成光致抗蚀剂薄膜(未显示)。光致抗蚀剂薄膜(未显示)经由第一图案掩模曝光,且被显影以于栅金属薄膜上形成光致抗蚀剂图形。
采用光致抗蚀剂图形作为刻蚀掩模构图栅金属薄膜(未显示),并去除光致抗蚀剂图形。因此,栅电极GE、电连接栅电极GE的栅总线线路GBL、存储电容器Cst的第一电容器电极Cst1、以及电连接存储电容器Cst的第一电容器电极Cst1的第二栅电极G2形成于衬底10上。
然后,绝缘层11形成于包含栅电极GE、栅总线线路GBL、第一电容器电极Cst1和第二栅电极G2的衬底10上。
第一半导体层12形成于绝缘层11上,且包括非晶硅膜。第一半导体层12可通过化学气相沉积工艺形成。
第二半导体层13形成于第一半导体层12上。第二半导体层13可通过化学气相沉积工艺形成。源/漏金属薄膜14形成于第二半导体层13上。源/漏金属薄膜14可通过化学气相沉积工艺或溅射沉积工艺形成。
参照图6C和6D,光致抗蚀剂材料涂覆在源/漏金属薄膜14上以形成光致抗蚀剂薄膜(未显示)。光致抗蚀剂材料可通过旋涂工艺或狭缝涂敷工艺(slit coating process)涂覆。然后,光致抗蚀剂薄膜(未显示)经由第二图案掩模曝光,且被显影以于源/漏金属薄膜14上形成光致抗蚀剂图形(未显示)。
采用光致抗蚀剂图形(未显示)作为刻蚀掩模构图源/漏金属薄膜14,以形成第一源电极S1、电连接第一源电极S1的数据总线线路DBL、第一漏电极D1、第二源电极S2、电连接第二源电极S2的电源供给线PSL和第二漏电极D2。
然后采用第一源电极S1、数据总线线路DBL、第一漏电极D1、第二源电极S2、电源供给线PSL和第二漏电极D2作为刻蚀掩模,构图第一和第二半导体层11和12。
图案化的第二半导体层12的形状基本等同于第一源电极S1、数据总线线路DBL、第一漏电极D1、第二源电极S2、电源供给线PSL和第二漏电极D2的形状。
因此,第二半导体层13被构图以形成第一N+非晶硅图形nASP1、第二N+非晶硅图形nASP2、第三N+非晶硅图形nASP3和第四N+非晶硅图形nASP4。第一N+非晶硅图形nASP1位于第一源电极S1下,第二N+非晶硅图形nASP2位于第一漏电极D1下。第一N+非晶硅图形nASP1与第二N+非晶硅图形nASP2隔开,且第一N+非晶硅图形nASP1与第二N+非晶硅图形nASP2电绝缘。第三N+非晶硅图形nASP3位于第二源电极S2下,第四N+非晶硅图形nASP4位于第二漏电极D2下。第三N+非晶硅图形nASP3与第四N+非晶硅图形nASP4隔开,且第三N+非晶硅图形nASP3与第四N十非晶硅图形nASP4电绝缘。
因此,采用数据总线线路DBL、第一漏电极D1、其上具有第二源电极S2的电源供给线PSL和第二漏电极D2作为刻蚀掩模,构图第一半导体层12,以形成第一非晶硅图形ASP1和第二非晶硅图形ASP2。第一非晶硅图形ASP1位于第一和第二N+非晶硅图形nASP1和nASP2下。第二非晶硅图形ASP2位于第三和第四N+非晶硅图形nASP3和nASP4下。
因此,第一薄膜晶体管TFT1、第二薄膜晶体管TFT2、存储电容器Cst、栅总线线路GBL、数据总线线路DBL和电源供给线PSL形成于外围电路区中。第一薄膜晶体管TFT1包括第一源电极S1、第一栅电极G1、第一漏电极D1、第一非晶硅图形ASP1、第一n+非晶硅图形nASP1和第二非晶硅图形nASP2。第二薄膜晶体管TFT2包括第二源电极S2、第二栅电极G2、第二漏电极D2、第二非晶硅图形ASP2、第三n+非晶硅图形nASP3和第四非晶硅图形nASP4。
参照图6E和6F,绝缘中间层(insulating interlayer)15形成于衬底10之上。绝缘中间层15可通过化学气相沉积工艺形成。光致抗蚀剂薄膜(未显示)形成于绝缘中间层15上。光致抗蚀剂薄膜(未显示)可通过旋涂工艺或狭缝涂敷工艺形成。利用第四掩模构图光致抗蚀剂薄膜(未显示),以于衬底10上形成光致抗蚀剂图形。
采用光致抗蚀剂图形作为刻蚀掩模刻蚀绝缘中间层15。绝缘中间层15包括第一接触孔CT1、第二接触孔CT2和第三接触孔CT3。第一漏电极D1、第二栅电极G2和第二漏电极D2分别通过第一至第三接触孔CT1、CT2和CT3部分露出。
具有低电阻的导电透明薄膜(未显示)形成于图案化的绝缘中间层15之上。光致抗蚀剂薄膜(未显示)被涂覆在导电透明薄膜(未显示)上。光致抗蚀剂薄膜(未显示)可通过旋涂工艺或狭缝涂敷工艺形成。
光致抗蚀剂薄膜(未显示)利用第五掩模曝光,且被显影以于透明薄膜(未显示)上形成光致抗蚀剂图形。然后,导电透明薄膜(未显示)采用光致抗蚀剂图案(未显示)被部分刻蚀,使得第一电极和连接电极16形成于绝缘中间层15上。多个第一电极17可形成于绝缘中间层15上。第一电极17通过第三接触孔CT3电连接至第二漏电极D2。连接电极16分别通过第一和第二接触孔CT1和CT2电连接至第一漏电极D1和第二栅电极G2。
图7是截面图,显示按照本发明另一示例性实施例的隔墙(partitionwall)。图8是平面图,显示按照本发明另一示例性实施例的隔墙。
参照图7和图8,隔墙1 8围绕位于衬底10上的每个第一电极17。隔墙18形成空腔。隔墙18可形成多个空腔18a。优选地,每个隔墙18的截面图为梯形形状。
空腔18a排列成矩阵形状,其基本上等同于第一电极17的排列。空腔18a被分成多个组。每个组中空腔18a的数量可参照用于供给液滴至衬底10上的装置100的喷嘴132的数量而确定。虚设区域(dummy area)DA围绕含有空腔18a的组。空腔18a可被分成第一组、第二组和第三组,虚设区域DA围绕第一至第三组。
图9A、9C和9E是平面图,显示按照本发明一示例性实施例的用用于供给液滴至衬底上的装置制造显示装置的方法。图9B是截面图,取自图9A中V-V’线。图9D是截面图,取自图9C中VI-VI’线。图9F是截面图,取自图9E中VII-VII’线。图9G是截面图,显示按照一示例性实施例的显示装置。
参照图9A至9G,相同附图标记代表图1到3中相同的元件,于是任何涉及相同元件的进一步详细描述将被省略。
参照图9A和9B,用于供给液滴至衬底10上的装置100的喷嘴将形成有机发光层的材料供给第一虚设区域DAL1。该材料包括挥发性溶剂,使得虚设液滴形成于第一虚设区域DAL1内。用于供给液滴至衬底10上的装置100可包括多个喷嘴132,且用于供给液滴至衬底10上的装置100可形成多个虚设液滴130b。虚设液滴130b使得第一组的液滴130a的蒸气压一致。
虚设区域DA围绕第一至第三组。虚设区域DA包括位于衬底10左部的第一虚设区域DAL1、位于衬底10右部的第二虚设区域DAL2和位于衬底10上部的第三虚设区域DAU。
蒸气供给单元140的第二供给模块144向第一组供给挥发性溶剂蒸气,同时滴液单元130形成虚设液滴130b于第一虚设区域DAL1中。
当虚设液滴130b通过用于供给液滴至衬底10上的装置100提供至第一虚设区域DAL1中后,用于供给液滴至衬底10上的装置100的基体120沿第二方向被传送至第一组。由此,蒸气供给单元140的第一供给模块142、第二供给模块144和滴液单元130分别位于第一虚设区域DAL1、第一组和第二组中。滴液单元130被传送至第一组,此刻滴液单元130在与第一虚设区域DAL1相邻的第三虚设区域DAU中形成虚设液滴130b。
按照图9C和9D,滴液单元130的每个喷嘴132被传送至第一组,且将包含形成有机发光层的材料的液滴130a滴至第一组的空腔18a中。蒸气供给单元140的第一供给模块142位于第一虚设区域DAL1中。第一供给模块142向第一虚设区域DAL1供给挥发性溶剂蒸气。蒸气供给单元140的第二供给模块144位于第二组中。第二供给模块144向第二组供给挥发性溶剂蒸气。
蒸气供给单元140向第一虚设区域DAL1和第二组供给挥发性溶剂蒸气,使得形成于第一电极17上的薄膜的厚度一致。每个滴到第一组内的液滴130a包括形成空穴注入层的材料。
参照图9E和9F,在采用滴液单元130的喷嘴132于第一组中形成液滴130a后,滴液单元130、蒸气供给单元140的第一供给模块142和蒸气供给单元140的第二供给模块144分别被传送至第二、第一和第三组。滴液单元130将虚设液滴130b滴至第二虚设区域DAL2中,然后滴液单元130将液滴130a滴至第二组的空腔18a中。蒸气供给单元140的第一供给模块142位于第一组中,从而向滴到第一组中的液滴130a供给挥发性溶剂蒸气。蒸气供给单元140的第二供给模块144位于第三组中,从而向第三组供给挥发性溶剂蒸气。
蒸气供给单元140向第一组和第三组供给挥发性溶剂蒸气,使得第二组中的液滴130a的蒸发速率一致,由此使得形成于位于第二组的空腔18a中的第一电极17上的薄膜的厚度一致。滴到第二组中的液滴130a包括形成空穴注入层的材料。
因此,用于供给液滴至衬底10上的装置100向衬底10上的空腔18a供给包含形成有机发光层的材料的液滴130a。
参照图9G,液滴130a被干燥以形成空穴注入层19a于第一电极17上。
在空穴注入层形成于每个第一电极17上后,用于供给液滴至衬底10上的装置100向空穴注入层供给含有发光材料的液滴,以形成有机发光层19b于每个第一电极17上。
第二电极20形成于衬底10之上。第二电极20包括铝(Al)、铝合金等。
或者,图9A到9G的工艺可原位进行。
图10是截面图,显示采用按照本发明的另一示例性实施例的用于供给液滴至衬底上的装置制造滤色片基底的方法。图11是截面图,显示采用图10所示的装置制作的滤色片基底。参照图10至图11,相同的附图标记代表图1至图3中的相同元件,于是涉及相同元件的任何进一步的详细描述将被省略。
参照图10和图11,用于供给液滴至衬底1000上的装置100供给含有红色着色剂(colorant)和挥发性溶剂的液滴至衬底1000上以形成红色滤色片1004a,同时供给挥发性溶剂蒸气至衬底1000上。用于供给液滴至衬底1000上的装置100供给含有绿色着色剂和挥发性溶剂的液滴至衬底1000上以形成绿色滤色片1004b,同时供给挥发性溶剂蒸气至衬底1000上。用于供给液滴至衬底1000上的装置100供给含有蓝色着色剂和挥发性溶剂的液滴至衬底1000上以形成蓝色滤色片1004c,同时供给挥发性溶剂蒸气至衬底1000上。或者,用于供给液滴至衬底1000上的装置100可供给含有红色颜料、绿色颜料或蓝色颜料的液滴。保护涂层1005形成于含有红色滤色片1004a、绿色滤色片1004b和蓝色滤色片1004c的衬底1000上。公共电极1006形成于保护涂层1005上以形成滤色片基底。
在这些示例性实施例中,用于提供液滴至衬底上的装置形成OLED装置的有机发光层、OLED装置的空穴注入层和滤色片基底的滤色片。或者,用于供给液滴至衬底上的装置可形成OLED装置的边(bank)、等离子体显示板(PDP)装置的荧光层等。
按照本发明,滴到像素上的液滴的蒸发速率可被调整以控制层的厚度,由此改善图像显示质量。
本发明已经参照示例性实施例进行了描述。然而明显的是,在前述描述的教导下,许多可选的改进和变化对于本领域技术人员是显而易见的。因此,本发明包含所有这样的可选改进和变化,因为其处于所附权利要求的主旨和范围内。
权利要求
1.一种用于供给液滴至衬底上的装置,该装置包括基体,该基体对应于设置在平台上的该衬底;设置在该基体上的滴液单元,该滴液单元包括将该液滴滴至该衬底上的喷嘴;以及设置在该滴液单元附近、向滴落到该衬底上的该液滴供给挥发性溶剂蒸气的蒸气供给单元。
2.按照权利要求1的装置,其中该液滴包括溶质和挥发性溶剂。
3.按照权利要求2的装置,其中该溶质包括形成空穴注入层的材料、形成电子注入层的材料、形成有机发光层的材料、形成滤色片的材料或含有光致抗蚀剂的有机材料。
4.按照权利要求1的装置,其中该滴液单元沿第一方向被传送,且在第二方向上移位,该蒸气供给单元与该滴液单元一起在该第二方向上移位。
5.按照权利要求4的装置,还包括沿该第二方向传送该基体的基体传送单元。
6.一种用于供给液滴至衬底上的装置,该装置包括基体,该基体对应于设置在平台上的该衬底;设置在该基体上且沿第一方向被传送的滴液单元,该滴液单元包括将含有包括溶质和挥发性溶剂的涂层材料的该液滴滴在该衬底上的喷嘴;设置在该基体上、与该滴液单元相邻并在第二方向上移位的蒸气供给单元,从而向滴到该衬底上的该液滴供给挥发性溶剂蒸气,使得该挥发性溶剂的蒸发速率一致;以及在该第二方向上传送该基体的基体传送单元。
7.按照权利要求6的装置,其中该滴液单元包括基本上彼此平行排列的多个喷嘴。
8.按照权利要求6的装置,其中该滴液单元包括经由该喷嘴供给该涂层材料的涂层材料供给模块、与该喷嘴固定的机架、以及沿该第一方向传送该机架的机架传送模块。
9.按照权利要求6的装置,其中该滴液单元包括旋转该喷嘴的旋转单元,且该旋转单元的旋转轴基本上与该衬底的表面垂直。
10.按照权利要求6的装置,其中该溶质包括形成有机发光层的材料。
11.按照权利要求6的装置,其中该溶质包括形成空穴注入层的材料或形成电子注入层的材料。
12.按照权利要求6的装置,其中该蒸气供给单元包括邻近该喷嘴设置的第一供给模块和对立于该第一供给模块设置的第二供给模块,且该喷嘴设置于该第一和第二供给模块之间。
13.按照权利要求12的装置,其中该第一供给模块包括包含第一喷嘴孔的第一主体和向该第一主体供给该挥发性溶剂蒸气的第一溶剂蒸气供给部分,该第二供给模块包括包含第二喷嘴孔的第二主体和向该第二主体供给该挥发性溶剂蒸气的第二溶剂蒸气供给部分。
14.按照权利要求13的装置,其中该第一溶剂蒸气供给部分包括存储该挥发性溶剂的第一存储容器和蒸发自该第一存储容器供给的该挥发性溶剂的第一蒸发器,该第二溶剂蒸气供给部分包括存储该挥发性溶剂的第二存储容器和蒸发自该第二存储容器供给的该挥发性溶剂的第二蒸发器。
15.按照权利要求13的装置,其中自该第一和第二喷嘴孔供给的该挥发性溶剂蒸气的尺寸不大于约5微米。
16.按照权利要求6的装置,其中该蒸气供给单元包括控制该滴液单元和该喷嘴之间的距离的距离控制模块。
17.按照权利要求6的装置,其中该基体传送单元以约1毫米/秒到约10毫米/秒的速度传送该基体。
18.一种用于供给液滴至衬底上的装置,该装置包括基体,该基体对应于设置在平台上的该衬底;设置在该基体上且沿第一方向被传送的滴液单元,该滴液单元包括将含有包含溶质和挥发性溶剂的涂层材料的该液滴滴在该衬底上的喷嘴;以及腔室,该腔室包括具有容纳该基体和该滴液单元的容纳空间的腔体、以及向该容纳空间供给该挥发性溶剂蒸气的蒸气供给单元。
19.按照权利要求18的装置,其中该滴液单元包括基本上彼此平行排列的多个喷嘴。
20.按照权利要求18的装置,其中该蒸气供给单元包括存储该挥发性溶剂的存储容器、蒸发该挥发性溶剂的蒸发器、以及喷射该挥发性溶剂至该容纳空间的喷嘴部分。
21.按照权利要求18的装置,其中该容纳空间中该挥发性溶剂的蒸气压基本上等同于滴到该衬底上的该液滴中的该挥发性溶剂的蒸气压。
22.按照权利要求18的装置,其中该容纳空间中该挥发性溶剂的蒸气压小于滴到该衬底上的该液滴中的该挥发性溶剂的蒸气压。
23.一种用于供给液滴至衬底上的装置,该装置包括基体,该基体对应于设置在平台上的该衬底;设置在该基体上的滴液单元,该滴液单元包括将该液滴滴在该衬底上的喷嘴;以及邻近该滴液单元设置的、向该衬底的上表面供给挥发性溶剂蒸气的蒸气供给单元。
24.一种制造显示器的方法,该方法包括于衬底上形成施以驱动信号的第一电极;形成隔墙于该衬底上,该隔墙围绕该第一电极以形成空腔于该第一电极上;将含有挥发性溶剂和形成有机发光层的材料的液滴滴在该空腔中,同时供给该挥发性溶剂蒸气;干燥该液滴以形成该有机发光层于该第一电极上;以及形成第二电极于该有机发光层上。
25.按照权利要求24的方法,其中该挥发性溶剂蒸气在基本上封闭的空间中供给。
26.按照权利要求24的方法,其中该有机发光层由以下步骤形成将包括形成空穴注入层的材料的第一液滴滴在该第一电极上;干燥该第一液滴以形成空穴注入层;将包括形成有机发光层的材料的第二液滴滴在该空穴注入层上;以及干燥该第二液滴以形成该有机发光层于该空穴注入层上。
全文摘要
本发明涉及提供液滴至衬底上的装置及用该装置制造显示装置的方法。在用于供给液滴至衬底上的装置中和制作显示装置的方法中,该装置包括基体、滴液单元和蒸气供给单元。基体对应于位于平台上的衬底。滴液单元位于基体上。滴液单元包括滴落液滴至衬底上的喷嘴。蒸气供给单元设置成与滴液单元相邻以供给滴到衬底上的液滴以挥发性溶剂蒸气。因此,滴到像素上的液滴的蒸发速率被调整来使得层的厚度一致,从而改善图像显示质量。
文档编号H01L27/32GK1618609SQ20041009531
公开日2005年5月25日 申请日期2004年11月19日 优先权日2003年11月21日
发明者李东远, 崔埈厚, 郑镇九 申请人:三星电子株式会社
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