专利名称：用于真空开关的触头装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于真空开关的触头装置，其具有可沿纵向相对运动地设 置并且设有缝隙的用于产生径向磁场的盆形触头，所述触头分别具有带有侧壁 的触头支座和底部区段，所述侧壁具有朝向相对置的触头的端面，在此每个触 头至少局部具有防烧损的接触器件。
背景技术：
由DE 3138086 A1已知一种这样的触头装置。所述的盆形触头由具有底部 的触头支座和具有环形端面的围壁部分构成，该触头支座与馈电部分相连。其 中触头支座由铜制成。在所述触头支座的环形端面上安置了一个封闭的接触环 作为接触器件，该接触环由具有高耐热性及高机械强度的材料、例如铬铜化合 物构成。在这样的装置中所存在的缺点是，在触头断开过程中燃烧的电弧在负 荷高时、尤其在电弧存在时间长时有"出轨(Entgleisung)"倾向，也就是说， 电弧例如朝底部方向延伸并进而在触头支座上燃烧，而该电弧原本应该在4妄触 环的接触面上环绕地移动。这导致由于触头支座材料的烧损而引起不希望的烧 穿并可能导致重新点燃电弧以及最终导致灭弧特性不足。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于，将本文开头所述类型的装置构造成，防止 电弧转移到触头支座上并改善该装置的灭弧特性。
该技术问题按照本发明这样解决，即，所述接触器件至少覆盖所述端面和 所述对应的触头支座的底部区段的朝向相对置的触头的内底面。
在这样的装置中避免了在真空开关的盆形触头断开过程中电弧出轨。尤其 不可能再出现在铜制的触头支座上、例如在内底面上的电弧燃烧。在这种按照 本发明的装置中电弧只能在接触器件上燃烧，该装置由此具有在触头断开时在 灭弧方面明显更好的特性。
优选采用铬铜化合物作为所述接触器件的材料。铬铜化合物具有高防烧损 性及高机械强度。
在一种优选实施方式中，所述接触器件为盘形接触器件。采用这种设计结 构以简单的方式覆盖了盆形触头的电弧可能脱轨到其上的整个表面。
在本发明的另 一项扩展设计中，所述盘形接触器件具有一个环形部分和一 个比该环形部分厚度小的内凹部分。对于这样的装置在内凹区域中呈现更小的 导电性。这导致辅助地使环形旋转的电弧在盘形接触器件的环形部分中的运动 更稳定。
在一种优选的实施方式中，所述内凹部分的厚度与环形部分的厚度相比至
少小0.5mm。
在另一项扩展设计中，所述内凹部分的横截面面积小于或等于馈电部分的 横截面面积。通过形成的磁场达到更好地导引电弧，由此使该装置的特性得到 进一步改善。
另外有利的是，所述侧壁为空心圆柱形的以及所述盘形接触器件在其背离 相对置的触头的一侧具有圓柱形的隆凸，该隆凸的外直径小于所述侧壁的内直 径。这样的隆凸例如在装配时是有利的，因为通过隆凸确保盘形接触器件在触 头支座上的导向和对中。由于内直径更小而使隆凸啮合在空心圆柱形侧壁内， 从而明显更便于将接触器件安置在盆形触头上希望的位置中。
在另一种不同的实施方式中，所述接触器件贴合在所述端面上、所述侧壁 的内表面上以及所述底部区段的内底面上。与完全覆盖触头支座的电弧可能脱 轨到其上的区域的情况相同，在这样的扩展设计中确保了在装配时的导向和对 中。
所述接触器件也可以包括一个用于覆盖所述端面的环形部分和一个用于 覆盖所述内底面的盘形部分。这种按照本发明的装置也能够防止电弧在触头支 座上燃烧。
在附图中简略地示出用于本发明触头装置的盆形触头的实施例。附图中
图1筒略地示出了用于真空开关的带有盘形接触器件的盆形触头；
图2简略地示出了用于真空开关的带有接触器件的盆形触头的另一种实施
方式；图3简略地示出了用于真空开关的带有本发明接触器件的盆形触头的一种 其他的不同实施方式。
具体实施例方式
图1示出了具有触头支座2的盆形触头1的优选实施方式，触头支座2与 馈电部分3相连。触头支座2由底部区段4和设置在该底部区段4上的空心圆 柱形侧壁5构成。如图所示，该触头支座2设有相对于盆形触头的旋转轴线倾 斜且可能至少部分贯穿该触头支座2的底部区段4的缝隙6。触头支座2由铜 制成。在该触头支座2的端面7上安置盘形接触器件8，该盘形接触器件由具 有高耐热性及高机械稳定性并进而具有高防烧损特性的材料、例如铬铜化合物 构成。盘形接触器件8具有一个环形部分IO和一个具有圆形横截面的内凹部分 11,该内凹部分11与环形部分IO相比凹陷约0.5mm。在朝向所述底部区段4 的盆侧面12上成形有外直径略微小于空心圆柱形侧壁5的内直径的圆柱形隆凸 13。由此使盘形接触器件8的圆柱形隆凸13啮合在触头支座2的侧壁5中以及 将盘形接触器件8在装配时以简单的方式对中在盆形触头上。
图2示出了带有另一种实施方式的接触器件14的盆形触头1,该接触器件 14覆盖了侧壁5的端面7及内表面15和触头支座2的内底面4a。
图3示出了另一种两件式结构的接触器件的实施方式，其中环形部分16 覆盖了触头支座2的端面7和盘形部分17、触头支座2的内底面4a。
在按照本发明的用于真空开关的触头装置中，两个这种盆形触头1可相互 对置地沿纵向相对运动地设置。通过倾斜的缝隙6将触头支座2划分成各个部 分，这些部分在真空开关的两个盆形触头1断开之后与产生的电弧一起构成电 流回路。在这种情况下产生的径向磁场使电弧在设置在触头支座上的接触器件 之间旋转。不同实施方式的接触器件还防止电孤在长时间存在时转移到触头支 座2的铜材料上并由于烧损而引起不希望的材料烧穿。 附图标记列表
1 盆形触头
2 触头支座
3 馈电部分
4 底部区段 4a 内底面
5 侧壁
6 缝隙
7 端面
8 盘形接触器件
9 接触面
10 环形部分
11 内凹部分
12 盆侧面
13 隆凸
14接触器件
15 内表面
16 环形部分
17 盘形部分
权利要求
1.一种用于真空开关的触头装置，其具有沿纵向可相对运动地设置并且设有用于产生径向磁场的缝隙(6)的盆形触头(1)，所述触头分别具有带有侧壁(5)的触头支座(2)和底部区段(4)，所述侧壁(5)具有朝向相对置的触头的端面(7)，其中每个触头至少局部具有防烧损的接触器件(8，14，16，17)，其特征在于，所述接触器件(8，14，16，17)至少覆盖所述端面(7)和所述对应的触头支座(2)的底部区段(4)的朝向相对置触头的内底面(4a)。
2. 如权利要求1所述的触头装置，其特征在于，所述接触器件(8, 14, 16, 17)的材料为铬铜化合物。
3. 如权利要求1或2所述的触头装置，其特征在于，所述接触器件(8) 为盘形接触器件(8)。
4. 如权利要求3所述的触头装置，其特征在于，所述盘形接触器件(8) 具有一个环形部分(10)和一个比该环形部分(10)厚度小的内凹部分(11)。
5. 如权利要求4所述的触头装置，其特征在于，所述内凹部分(11)的 厚度与所述环形部分(10)的相比至少小0.5mm。
6. 如权利要求4或5所述的触头装置，其特征在于，所述内凹部分(11 ) 的横截面面积小于或等于馈电部分(3)的横截面面积。
7. 如权利要求3至6中任一项所述的触头装置，其特征在于，所述侧壁 为空心圓柱形的以及所述盘形接触器件(8 )在其背离相对置的触头的 一侧具有 圓柱形的隆凸(13)，该隆凸的外直径小于所述侧壁(5)的内直径。
8. 如权利要求1或2所述的触头装置，其特征在于，所述接触器件(14) 贴合在所述端面(7)上、所述侧壁(5)的内表面(15)上以及所述底部区段(4)的内底面(4a)上。
9. 如权利要求l或2所述的触头装置，其特征在于，所述接触器件(16, 17)包括用于覆盖所述端面(7)的环形部分(16)和用于覆盖所述内底面(4a) 的盘形部分(17)。
全文摘要
本发明涉及一种用于真空开关的触头装置，其具有沿纵向可相对运动地设置并且设有缝隙(6)的用于产生径向磁场的盆形触头(1)，所述触头分别具有带有侧壁(5)的触头支座(2)和底部区段(4)，所述侧壁具有朝向相对置的触头的端面(7)，其中每个触头至少局部具有防烧损的接触器件(8，14，16，17)，在此，所述接触器件(8，14，16，17)至少覆盖所述端面(7)和所述对应的触头支座(2)的底部区段(4)的朝向相对置的触头的内底面(4a)。
文档编号H01H33/66GK101194332SQ200680020635
公开日2008年6月4日 申请日期2006年5月31日 优先权日2005年6月8日
发明者安德烈亚斯·斯特尔泽, 尼尔斯·安杰, 罗曼·伦兹 申请人:西门子公司