一种薄膜太阳能电池的镀膜涂装用屏蔽、及使用该屏蔽的方法及系统的制作方法

文档序号:7231717阅读:229来源:国知局
专利名称:一种薄膜太阳能电池的镀膜涂装用屏蔽、及使用该屏蔽的方法及系统的制作方法
技术领域
本发明关于 一 种芯片镀膜系统,特别是关于 一 种薄膜太阳 能电池的芯片镀膜系统。
背景技术
工业革命的展开,促使人类生活方式发生改变,地球上各项资源 因被大量开釆而急遽减少,有部分资源经转化后,却产生种种污染问 题,形成地球环境无形的杀手,甚而引发种种气候异常现象,因此, 各种减少使用后污染的替代性能源便应运发展。
太阳能因其用之不尽、取之不竭的特性,而成为注目的替代性能
源来源,太阳能电池的发展可回溯至1954年,当时由贝尔实验室所发 展的太阳能电池系统希望能提供偏远地区供电系统所需的能源,但当 时的太阳能电池却只有6%的光电效率;目前太阳能电池的研发大致可 分为l.单晶硅、2.多晶硅、3.非晶硅、4.铜铟镓二硒(Copper Indium Gallium Diselenide Solar Cells )、 5.镉碲(Cadmium Telluride Solar Cells ), 随着集成电路的蓬勃发展,硅晶圓太阳能电池一跃成为市场主流,目 前实验室规模所制造的硅晶圆单一系统电池已可达25%的光电效率。
目前硅晶太阳能电池制造厂商亦称太阳能电池为芯片(cell),因太 阳能电池由多个芯片焊上箔条导线(焊带),再将许多焊好的芯片用箔条 串联成组,再和乙烯-乙酸乙酯共聚物(Ethylene vinly acetate copolymer, EVA)、聚氟乙烯薄膜(Tedlar)与低铁质强化压紋玻璃(白玻璃)层层叠叠, 同放入层压机(Laminate)的机台上做真空封装,制成一太阳能模块(亦 称太阳能板),将若干太阳能板组成方阵(array),接配上过充放保护控 制器(controller)及深(循环)放电蓄电池(铅钙)以及逆转变流器即成为太 阳能电力系统。
现行太阳能电池的制成由纯化的二氧化硅在拉晶炉长成晶柱后,经修角成为四方柱形,该晶柱以切片机切割成厚度0.4-0.5毫米的薄片, 该薄片再以化学方法或光成为约0.3毫米的薄片,以清水洗净该薄片 后,以扩散炉将该薄片两面分别镀膜形成n型及p型,并印刷以电路 路线,即可成为一商业用芯片,此外亦可以光刻及坩锅蒸镀式制造抗 反射层与表面的输出导线取代前述的电路印刷方法,并加以其它特殊 技术,便可提高太阳能电池的能量转换功率。
中国台湾第465120专利公告号,专利名称r太阳能薄膜电池制造 方法」,其中提供了 一种太阳能电池Cu oc (InxGal-x) P (SeySl-y) y薄膜 的制造方法,简化了一般薄膜生成的程序,并可提供高品质的薄膜芯 片,但是此类芯片为提高供电效率,往往会在芯片的电极层进行切割 形成一条状串接模式,但所使用的切割法多为利用不同波长雷射进行 不同层面切割,或是利用机械力将镀膜层划破,不但手续繁杂,也容 易产生微细粉尘影响芯片良率。
综上所述,目前采用的习知方式都仍有待改善之处,本发明的发 明人有鉴于上述习知芯片镀膜涂装方法的各项缺失,乃亟思改良而创 作出一种制成步骤简单且易于操作的芯片镀膜涂装方法。

发明内容
本发明的主要目的是提供一种薄膜太阳能电池的镀膜涂装系统, 可简化现有芯片镀膜、蚀刻的时程;包括 一屏蔽,由一中空框架及 复数个遮蔽件所组成;及一基板镀膜涂装装置;当在太阳能电池芯片 (cell)镀膜涂装时,藉由在欲进行镀膜的一基板上设立该屏蔽以简化薄 膜太阳能电池芯片制程中镀膜及蚀刻的程序,该程序包括下列步骤 步骤A:设置一基板;步骤B:在该基板上加设一遮蔽物;步骤C:进 行该基板的镀膜涂装;及步骤D:移除该遮蔽物,形成一具有复数个 相邻镀膜区的基板。
本发明的另 一 目的为提供一种可应用于全真空制程的芯片镀膜涂 装用屏蔽,即于真空中分离开屏蔽与基板,便能使基板不破真空而继 续进行下一道真空制程,该屏蔽包括一中空框架;及装设于该框架中空区域上的复数个遮蔽件。
其中,该框架可为四边形。
其中,该遮蔽件可为一金属细弦。
其中,该遮蔽件可为一垂直版金的薄金属片。
其中,该遮蔽件可为一水平版金的薄金属片。
其中,该遮蔽件可为长条状。
其中,该遮蔽件可为网状。
其中,该遮蔽件的切面可为一圓形。
其中,该遮蔽件可为非直线状。
本发明的又一目的为提供一种薄膜太阳能电池的镀膜涂装方法, 该方法在芯片镀膜涂装时,藉由在欲进行镀膜的 一基板上设立该屏蔽 以筒化薄膜太阳能电池芯片制程中镀膜及蚀刻的程序,该程序包括下
列步骤
步骤A:设置一基板;
步骤B:在该基板上加设该遮罩;
步骤C:进行该基板的镀膜涂装;及
步骤D:移除该遮蔽物,形成一具有复数个相邻镀膜区的基板。 藉由本发明可简化太阳能电池芯片制作中的镀膜及蚀刻步骤,大 大简化了现有的刻划设备的支出与全程制造的时程,为使熟悉该项技 艺人士了解本创作的目的、特征及功效,兹藉由下述具体实施例,并 配合所附的图式,对本创作详加说明,说明如后。


图1为本发明的薄膜太阳能电池镀膜涂装用屏蔽的实施方式立体
图2为本发明的薄膜太阳能电池镀膜涂装用屏蔽的第一较佳实施
例平面图3为本发明的薄膜太阳能电池镀膜涂装用屏蔽的第一较佳实施 例状态示意图;图4为本发明的薄膜太阳能电池镀膜涂装用屏蔽的第一较佳实施 例完成图5为本发明的薄膜太阳能电池镀膜涂装用屏蔽的第二较佳实施 例图;及
图6为本发明的薄膜太阳能电池镀膜涂装用屏蔽的第三较佳实施 例图。
图号说明
l屏蔽 11框架
12遮蔽件 2基板拖盘
A基板 B薄膜
具体实施例方式
以下将参照相关图标,说明依本发明的较佳实施例,说明中提及 的符号参照图标符号,为便于理解,相同的组件将以相同的参照符号 力口以i兌明。
图1为本发明的薄膜太阳能电池镀膜涂装用屏蔽的实施方式立体 图,本发明包括一屏蔽1及一基板镀膜涂装装置,其中该屏蔽1由一 中空框架11及复数个遮蔽件12所组成,该框架11由一平板挖空内部 所组成,该挖空处可为一四边形,并架设该遮蔽件12,该遮蔽件12可 为一金属细弦,利用张力调整组装且相互平行排列。
本发明的薄膜太阳能电池镀膜涂装实施方式利用该屏蔽1调整一 基板A上镀膜的区域,当镀膜过程进行时,先将该基板A放置于一基 板托盘2上,再将该屏蔽l固定于该基板A上方,使该基板A上受到 该遮蔽件12遮挡的区域,便不会产生薄膜,镀膜完成后该基板A的薄 膜具有如蚀刻效果般的区隔,因而使该基板A上具有复数个相邻的镀 膜区。
本发明有别于以往先将一整块基板镀膜后,再利用雷射或机械方 法刻画不同镀膜层的繁瑣程序,本发明的太阳能电池镀膜涂装的统可 将镀膜及蚀刻程序于同一步骤同时进行,且该屏蔽1体积与该基板A近似,具有轻巧的优点,可使整体程序于全真空状态下完成,不需另
行搬移破真空,可减少大气粉尘附着于该基板A的机率。
图2为本发明的薄膜太阳能电池镀膜涂装用屏蔽的第一较佳实施 例平面图,本发明的实施方式先将一屏蔽1固定于一欲镀膜涂装的基 板A上,该屏蔽1为一四边形平板状装置,中心挖空成为与该基板A 近似的大小区域,该屏蔽1的外围则形成一框架11,该框架可镶设复 凄t个遮蔽件12,该遮蔽件12为长条状,另外,该遮蔽件12亦可为非 直线形或网状(未图标)。
本发明的薄膜太阳能电池镀膜涂装实施方式利用该屏蔽1调整一 基板A上镀膜的区域,当镀膜过程进行时,先将该基板A放置于一基 板托盘2上,再将该屏蔽l固定于该基板A上方,使该基板A上受到 该遮蔽件12遮挡的区域,便不会产生薄膜,镀膜完成后该基板A的薄 膜具有如蚀刻效果般的区隔,因而使该基板A上具有复数个相邻的镀 膜区。
图3为本发明的薄膜太阳能电池镀膜涂装用屏蔽的第一较佳实施 例状态示意图,本发明利用一遮蔽件12在欲镀膜的该基板A上形成一 阻挡空间,使镀膜时,该薄膜B会生长于该遮蔽件12表面及未受该遮 蔽件12遮文件的区域,本发明所使用的该遮蔽件12可为一长条状金 属细弦,具有一圆形切面,相互平行排列,使该基板A上会产生复数 个相邻的镀膜区。
图4为本发明的薄膜太阳能电池镀膜涂装用屏蔽的第一较佳实施 例完成图,利用本发明的太阳能电池镀膜涂装装置为一屏蔽l,该屏蔽 1具有一方形框架11及复数个遮蔽件12,该遮蔽件12为一直条状金 属细弦,以张力调整组装于该框架12,镀膜时该屏蔽l固定于该基板 A上方,完成镀膜后的该基板A受到该遮蔽件12遮挡的区域薄膜无法 生成,未受到该遮蔽件12遮挡的区域则可产生薄膜B,使该基板A上 具有复数个相邻的镀膜区。
此外,本发明的屏蔽1由一中空框架11及复数个遮蔽件12所组 成,其中,如图5所示,说明薄膜太阳能电池镀膜涂装用屏蔽的第二较佳实施例图,该遮蔽件12可为一垂直版金的薄金属片,另,请参考 图6,说明薄膜太阳能电池镀膜涂装用屏蔽的第三较佳实施例图,其中, 该遮蔽件12为一水平版金的薄金属片。
藉由以上较佳具体实施例的详述,希望能更加清楚描述本创作的 特征与精神,而并非以上述所揭露的较佳具体实施例来对本创作的范 畴加以限制。相反地,其目的是希望能涵盖各种改变及具相等性的安 排于本创作所欲申请的专利范围的范畴内。
权利要求
1、一种薄膜太阳能电池镀膜涂装系统,包括一屏蔽,由一中空框架及复数个遮蔽件所组成及一基板镀膜涂装装置在芯片镀膜涂装时,藉由在欲进行镀膜的一基板上设立该屏蔽以简化薄膜太阳能电池芯片制程中镀膜及蚀刻的程序,该程序包括下列步骤步骤A设置一基板;步骤B在该基板上加设一遮蔽物;步骤C进行该基板的镀膜涂装;及步骤D移除该遮蔽物,形成一具有复数个相邻镀膜区的基板。
2、 如权利要求1所述的薄膜太阳能电池镀膜涂装系统, 其中该屏蔽可使用于全真空状态。
3、 如权利要求1所述的薄膜太阳能电池镀膜涂装系统, 其中该框架可为四边形。
4、 如权利要求1所述的薄膜太阳能电池镀膜涂装系统, 其中该遮蔽件可为 一 金属细弦。
5、 如权利要求1所述的薄膜太阳能电池镀膜涂装系统, 其中该遮蔽件可为一垂直版金的薄金属片。
6、 如权利要求1所述的薄膜太阳能电池镀膜涂装系统, 其中该遮蔽件可为一水平版金的薄金属片。
7、 如权利要求1所述的薄膜太阳能电池镀膜涂装系统, 其中该遮蔽件可为长条状。
8、 如权利要求1所述的薄膜太阳能电池镀膜涂装系统, 其中该遮蔽件可为网状。
9、 如权利要求1所述的薄膜太阳能电池镀膜涂装系统, 其中该遮蔽件的切面可为 一 圆形。
10、 如权利要求1所述的薄膜太阳能电池镀膜涂装系统,所述的屏蔽 所述的屏蔽 所述的屏蔽其中该框架可为四边 其中该遮蔽件可为一 其中该遮蔽件可为一 其中该遮蔽件可为一所述的屏蔽,其中该遮蔽件可为长其中该遮蔽件可为非直线状。
11、 一种薄膜太阳能电池镀膜涂装用屏蔽,包括一框架,为一中空框架;及 复数个遮蔽件,装设于该框架中空区域上。
12、 如权利要求11所述的屏蔽形。
13、 如权利要求11 金属细弦。
14、 如权利要求11 垂直版金的薄金属片。
15、 如权利要求11 水平版金的薄金属片。
16、 如权利要求11 条状。
17、 如权利要求11状。
18、 如权利要求11 可为一圆形。
19、 如权利要求11 直线状。
20、 一种薄膜太阳能电池镀膜涂装方法,其特征为藉由 在欲进行镀膜的 一基板上设立 一屏蔽以简化芯片制程中镀 膜及蚀刻的程序,包括下列步骤步骤A:设置一基板; 步骤B:在该基板上加设该遮罩; 步骤C:进行该基板的镀膜涂装;及 步骤D:移除该屏蔽,形成一具有复数个相邻镀膜区的 基板。所述的屏蔽 所述的屏蔽其中该遮蔽件可为网其中该遮蔽件的切面所述的屏蔽,其中该遮蔽件可为非
全文摘要
本发明一种薄膜太阳能电池镀膜涂装系统,包括一屏蔽,由一中空框架及复数个遮蔽件所组成;及一基板镀膜涂装装置在芯片镀膜涂装时,藉由在欲进行镀膜的一基板上设立该屏蔽以简化薄膜太阳能电池芯片制程中镀膜及蚀刻的程序,该程序包括下列步骤步骤A设置一基板;步骤B在该基板上加设一遮蔽物;步骤C进行该基板的镀膜涂装;及步骤D移除该遮蔽物,形成一具有复数个相邻镀膜区的基板。
文档编号H01L31/18GK101315956SQ20071010606
公开日2008年12月3日 申请日期2007年5月31日 优先权日2007年5月31日
发明者彭光中 申请人:钰衡科技股份有限公司
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