专利名称：容器及其罩盖的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种容器，特别是指其中所包含的罩盖与其定位方式。
背景技术：
近代半导体科技发展迅速，其中光刻技术(Optical Lithography) 扮演重要的角色，只要是关于图形(pattern)定义，皆需依赖光刻技术。光刻技术在半导体的应用上，是将设计好的线路制作成具有特定形状 可透光的光罩(photo mask)。利用曝光原理，光源通过光罩投影至硅晶圆 (silicon wafer)可曝光显示特定图案。由于任何附着于光罩上的尘埃颗 粒(如微粒、粉尘或有机物)都会造成投影成像的质量劣化，用于产生图形 的光罩必须保持绝对洁净，因此在一般的晶圆制程中，都提供无尘室 (clean room)的环境以避免空气中的颗粒污染。然而，目前的无尘室也无 法达到绝对无尘状态。现代的半导体制程皆利用抗污染的光罩盒(reticle pod)进行光罩的保存与运输，以使光罩保持洁净。现有的光罩盒多以高分子材质所构成，此种高分子材质具有成型容 易、价格低廉以及可形成透明体的优点。此种绝缘电阻高的高分子材质容 易因为磨擦或拨离而产生静电，尤其是无尘室的作业环境需要保持较低湿 度，使高分子材质的光罩盒非常容易产生与累积电荷。光罩表面的静电容 易吸引空气中的污染微粒，更甚者还会造成光罩上的金属线出现静电放电 (electrostatic discharge, ESD)效应。静电放电所产生的瞬间电流会引起电花(spark)或电弧(arc)，在电花与电弧发生的同时，强大的电流伴随 着高温，导致金属线的氧化与溶解，因而改变了光罩的图案。目前针对静电放电所解决的方法有许多，首先是改善作业环境，使空 气中维持适当的湿度、作业人员穿着具接地效应的衣物或使用离子扇消除 环境中的静电。但是改变作业环境的具有许多无法预测的变因，没有办法 完全解决静电对光罩的伤害。另一种方法是改变光罩盒组成组件的材质，美国专利号US6， 513， 654 提出，设置具接地功能的光罩支撑件，在光罩盒与配合机台接触时，光罩 支撑件可将光罩上的电荷导出。另外美国专利号US6，247，599提出，在光 罩盒的底盘、罩盖或提把上增设导电板，通过此减少电荷的累积。增设导 电板的方法已被广为使用，然罩盖与底盘的定位多倚赖螺丝锁固，锁固时 的摩擦会产生微粒，形成污染源。有鉴于以上缺失，本实用新型所提供的光罩盒，乃针对先前技术加以 改良。实用新型内容本实用新型的主要目的，是提供一种容器及其罩盖，其中罩盖的定位 不需以螺丝锁固，可避免微粒产生，减少污染源。本实用新型的另一目的，是提供一种容器及其罩盖，可以减少电荷累 积，并且防止静电对光罩所造成的伤害。本实用新型的又一目的，是提供一种用于容器的罩盖，可在无需改变 原有容器结构设计的情况下，增设一罩盖。基于上述的目的，本实用新型首先提供一种容器，其是由一个上盖体 及一个下盖体组合而成；容器中还包括一罩盖，设置于下盖体上，与下盖 体形成可容纳对象的空间；并且于罩盖的周围设置多个定位件，当下盖体 与上盖体密合时，定位件会被夹置于下盖体与上盖体之间，使得罩盖定位。本实用新型接着提供一种容器，其是由一个上盖体及一个下盖体组合 而成，下盖体面对上盖体的表面设置一边墙；容器中还包括一罩盖，设置 于下盖体上，与下盖体形成可容纳对象的空间；并且于罩盖的周围设置多 个定位件，定位件是用以抵靠边墙，使罩盖定位。本实用新型进一步提供一种容器，其是由一个上盖体及一个下盖体组合形成一内部区域；容器中还包括一底盘，底盘设置于下盖体面对内部区 域的表面，且底盘面对内部区域的表面设有至少一边墙；容器中另包含一 罩盖，设置于底盘上，与底盘形成可容纳对象的空间；于罩盖的周围设置 多个定位件，定位件是用以抵靠边墙，使罩盖定位。本实用新型更进一步提供一种罩盖，是设置于容器中，容器是由一上 盖体与一下盖体组合而成，下盖体面对上盖体的表面设置有至少一边墙； 罩盖包括多个定位件，设置于罩盖周围，用以抵靠下盖体的边墙，使罩盖 定位。本实用新型再进一步提供一种罩盖，设置于容器中，容器由一上盖体 与一下盖体组合而成，下盖体面对上盖体的表面设置一底盘，底盘面对上 盖体的表面设置一边墙；罩盖包括多个定位件，设置于罩盖周围，用以抵 靠底盘上的边墙，使罩盖定位。本实用新型的有益效果是，经由本实用新型所提供的设计，除了可以 使罩盖有效定位，并且无须使用螺丝固定，避免微粒产生，减少污染源。 当罩盖为导电材质时，更可防止静电对内容物造成伤害。本设计亦可增设 使用于目前的光罩盒，无须进行变更设计。
图1A本实用新型一较佳实施例的容器剖面图； 图1B本实用新型一较佳实施例的容器剖面图； 图2本实用新型一较佳实施例的定位辨^M:体图；图3A本实用新型一较佳实施例的容器剖面图； 图3B本实用新型一较佳实施例的容器剖面图； 图4A本实用新型一较佳实施例的定位件结构立体图；图4B本实用新型一较佳实施例的定位件结构立体图。主要组件符号说明10光罩100光罩盒102上盖体104下盖体106内部区域110習兰 早皿112底盘114边墙120定位件122定位件300光罩盒302上盖体304下盖体306内部区域308框体310頃芏 早皿312底盘314边墙320定位件322定位件具体实施方式
本新型的实施方式是以半导体容器为例进行说明，但是任何必须保持 洁净或密封的应用，例如医学治疗用品、生化用品或光学仪器，均属本实 用新型的应用范围。本实用新型所利用到的一些基本组件与彼此间结构原 理，属于该领域具有通常知识的人士所能轻易理解的，不再赘述。而以下 文中所对照的图式，是表达与本实用新型特征有关的结构示意，并未亦不 需要依据实际尺寸完整绘制。根据本实用新型一较佳实施例，提供一容器可用以保存或传送对象， 如半导体用的光罩盒或光罩传送盒，如图1A与图1B所示，此容器是一光罩盒100，包含了一上盖体102与一下盖体104，上盖体102与下盖体104 组合成一内部区域106，容器100内还包含一罩盖110，罩盖110设置于 下盖体104上，罩盖110与下盖体104形成一个可容纳光罩10的空间。罩盖110的周围设置多个定位件120，定位件120与罩盖110的连接 方式可是铆接、焊接或螺丝锁固；定位件120为L型，通常设置于罩盖110 的四个角落；当上盖体102与下盖体104密合时，L型定位件120的一端 被夹置于下盖体104与上盖体102之间，使该罩盖110定位，在容器的运 送过程中不会有罩盖移位的情形发生。下盖体104面对内部区域106的表面可另外增设一底盘112，；当罩盖 110与底盘112至少其中之一为金属等导体材质时，会产生屏蔽作用，达 到静电防护的功效。根据本实用新型另一较佳实施例，如图2所示，下盖体104面对内部 区域106的表面设置至少一边墙114。罩盖110边缘设有定位件122，定 位件122为L型，但在L型的转角处具有一弯折部，此弯折部是用以抵靠 边墙114使罩盖110定位。当多个定位件122都正确抵靠边墙114时，则 罩盖110的水平移动范围被限制，在容器的运送过程中不会有罩盖倾倒移位的情形发生。另外也可将边墙设置在底盘面对内部区域的表面。L型定位件的转角 处的弯折部是用以抵靠边墙使罩盖定位。根据本实用新型另一较佳实施例，提供一容器可用以保存或传送对象，如图3A与图3B所示，此容器是一光罩盒300，包含了一上盖体302， 此上盖体具有一第一开口； 一框体308设置于第一开口的边缘；以及一下 盖体304，下盖体304与框体308卡合。上盖体302、与框体308与下盖 体304组合成一内部区域306，容器300内还包含一罩盖310，罩盖310 设置内部区域306，且罩盖310与下盖体304形成一个可容纳光罩10的空 间。罩盖310的周围设置多个定位件320，定位件320与罩盖310的连接 方式可是铆接、焊接或螺丝锁固；定位件320为L型，通常设置于罩盖310 的四个角落；当上盖体302与框体308接合时，L型定位件120的一端被 夹置于框体308与上盖体302之间，使该罩盖310定位，在容器的运送过 程中不会有罩盖移位的情形发生。下盖体304面对内部区域306的表面可另外增设一底盘312，；当罩盖 310与底盘312至少其中之一为金属等导体材质时，会产生屏蔽作用，达 到静电防护的功效。根据本实用新型另一较佳实施例，如图4A与图4B所示，框体308面 对内部区域306的表面设置至少一边墙314。罩盖310边缘设有定位件322， 定位件322为L型，但在L型的转角处具有一弯折部，此弯折部是用以抵 靠边墙314使罩盖310定位。当多个定位件322都正确抵靠边墙314时， 则罩盖310的水平移动范围被限制，在容器的运送过程中不会有罩盖倾倒 移位的情形发生。另外也可将边墙设置在下盖体面对内部区域的表面。L型定位件转角 处的弯折部是用以抵靠边墙使罩盖定位。以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非用以限定本实用新 型的申请专利权利；同时以上的描述，对于熟知本技术领域的专门人士应可明了及实施，因此其它未脱离本实用新型所揭示的精神下所完成的等效 改变或修饰，均应包含在下述的申请专利范围中。
权利要求1.一种容器，用以保存或传送对象，其特征在于该容器包含一上盖体；一下盖体，与该上盖体组合成一内部区域；一罩盖，位于该内部区域，设置该下盖体，并与该下盖体形成一容纳该对象的空间；以及多个定位件，设置于该罩盖的周围，当该下盖体与该上盖体密合时，该定位件被夹置于该下盖体与该上盖体之间，使该罩盖定位。
2. 如权利要求1所述的容器，其特征在于还另包含一底盘，是设于 该下盖体面对该内部区域的表面。
3. 如权利要求2所述的容器，其特征在于该底盘为导电材质。
4. 如权利要求1所述的容器，其特征在于该定位件为L型。
5. 如权利要求4所述的容器，其特征在于该L型定位件的一边与该罩盖相连，另一边被夹置于该上盖体与该下盖之间。
6. 如权利要求1所述的容器，其特征在于该罩盖为导电材质。
7. 如权利要求1所述的容器，其特征在于该容器为光罩盒或光罩传 送盒。
8. —种容器，用以保存或传送对象，其特征在于该容器包含 一上盖体；一下盖体，与该上盖体组合成一内部区域，该下盖体面对该内部区域 的表面设置至少一边墙；一罩盖，设置于该下盖体上，并与该下盖体形成一容纳该对象的空间;以及多个定位件，设置于该罩盖的周围，用以抵靠该边墙，使罩盖定位。
9. 如权利要求8所述的容器，其特征在于该定位件为L型，且该定 位件的L型转角处具有一弯折部，该弯折部抵靠该边墙。
10. 如权利要求8所述的容器，其特征在于该定位件具有一弯折 部，该弯折部抵靠该边墙。
11. 一种容器，用以保存或传送对象，其特征在于该容器包含 一上盖体；一下盖体，与该上盖体组合成一内部区域；一底盘，设置于该下盖体面对该内部区域的表面，该底盘面对该内部 区域的表面设有至少一边墙，一罩盖，设置于该底盘上，并与该底盘形成一容纳该对象的空间；以及多个定位件，设置于该罩盖的周围，用以抵靠该边墙，使罩盖定位。
12. —种罩盖，用以设置于一容器中，该容器包括一上盖体， 一下 盖体，该上盖体与该下盖体的组合成一内部空间；其特征在于该罩盖包括-多个定位件，是设置于该罩盖周围，当该下盖体与该上盖体密合时，该定 位件被夹置于该下盖体与该上盖体之间，使该罩盖定位。
13. —种罩盖，用以设置于一容器中，该容器包括一上盖体， 一下 盖体，该下盖体面对该上盖体的表面设置有至少一边墙；其特征在于该罩 盖包括多个定位件，设置于该罩盖周围，用以抵靠该边墙，使罩盖定位。
14. 一种罩盖，用以设置于一容器中，该容器包括一上盖体； 一下 盖体；以及一底盘，该底盘设置于该下盖体面对该上盖体的表面，该底盘 面对该上盖体的表面设置至少一边墙；其特征在于该罩盖包括 多个定位件，是设置于该罩盖周围，用以抵靠该边墙，使罩盖定位。
15. —种容器，用以保存或传送对象，其特征在于该容器包含 一上盖体，具有一第一开口；一框体，设置于该第一开口的边缘；一下盖体，是卡合于该框体，其中该下盖体、该框体与该上盖体组合成一内部区域；一罩盖，设置于该内部区域，与该下盖体形成一容纳该对象的空间；以及多个定位件，设置于该罩盖的周围，当该上盖体与该盖框体接合时， 该定位件被夹置于该上盖体与该框体之间，用以使该罩盖定位。
16. —种容器，用以保存或传送对象，其特征在于该容器包含 一上盖体，具有一第一开口；一框体，设置于该第一开口的边缘，该框体面对该上盖体的表面设有 至少一边墙；一下盖体，卡合于该框体，其中该下盖体、该框体与该上盖体组合成 一内部区域；一罩盖，设置于该内部区域，与该下盖体形成一容纳该对象的空间；以及多个定位件，设置于该罩盖的周围，用以抵靠该边墙，使罩盖定位。
17. —种罩盖，用以设置于一容器中，该容器是由一上盖体； 一框 体，以及一下盖体组成；其特征在于该罩盖包括-多个定位件，设置于该罩盖周围，当该上盖体与该框体接合时，该定 位件被夹置于该上盖体与该框体之间，用以使该罩盖定位。
18. —种罩盖，用以设置于一容器中，该容器包括一上盖体； 一框 体；与一下盖体，该框体面对该上盖体的表面设置有至少一边墙；其特征 在于该罩盖包括多个定位件，是设置于该罩盖周围，用以抵靠该边墙，使罩盖定位。
专利摘要本实用新型一种容器，其是由一个上盖体及一个下盖体组合而成；容器中还包括一罩盖，设置于下盖体上，与下盖体形成可容纳对象的空间；并且于罩盖的周围设置多个定位件，当下盖体与上盖体密合时，定位件会被夹置于下盖体与上盖体之间，使得罩盖定位。
文档编号H01L21/673GK201090993SQ200720125570
公开日2008年7月23日 申请日期2007年9月26日 优先权日2007年9月26日
发明者林志铭, 邱铭乾 申请人:家登精密工业股份有限公司