专利名称：光掩模的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种通过微型透镜将掩模图案的像縮小投影在被对置配置的被曝光体上的光掩模，具体而言涉及ー种欲要提高照射于被曝光体的光的利用效率的光掩模。
背景技术：
例如现有的这种光掩模具有形成在设于透明基板的一表面的遮光膜上的规定形状的多个开ロ ；在所述透明基板的另ー表面与所述各开ロ分别对应设置，使所述开ロ的像成像在接近对置而配置的被曝光体上的多个微型透镜，从而提高接近曝光中的曝光图案的析像度而能够实现微细图案的曝光(例如，參考专利文献I)。在先技术文献
专利文献专利文献I日本特开2009-277900号公报
发明内容
发明要解决的课题但是，在这样的现有的光掩模中，设于透明基板的一表面的开ロ(掩模图案)和设于所述透明基板的另ー表面的微型透镜(投影透镜)以与基板的厚度相等的间隔分离配置，故存在通过光掩模的所述开ロ的光中的一部分光未被取入对应的所述微型透镜内的情况。其原因在于，由于照射于光掩模的光源光存在视觉(准直半角)，故通过了开ロ的光以与所述准直半角相当的角度扩展而入射于微型透镜。因此，随着所述开ロ与微型透镜的间隔的扩展，被取入微型透镜的光的量減少，照射于被曝光体的光量減少，而有可能使光的利用效率降低。尤其是，在用于大面积的例如TFT显示用基板的曝光的光掩模的情况下，透明基板的厚度厚达几mm 十几mm,所述问题更为显著。对此，本发明是为了处理这样的问题而作出的，其目的在干，提供一种欲要提高照相于被曝光体的光的利用效率的光掩模。用于解决课题的手段为了实现所述目的，本发明的光掩模具有掩模基板，其在透明基板的一表面形成有规定形状的多个掩模图案；微型透镜阵列，其在另一透明基板的一表面形成有将所述多个掩模图案的像縮小投影在被对置配置的被曝光体上的多个投影透镜，并在另一透明基板的另ー表面以使光轴与所述投影透镜的光轴一致的方式形成有将入射光聚光于所述投影透镜的多个向场透镜，以使所述掩模图案与所述向场透镜具有规定间隙且处于接近对置的状态的方式来接合所述掩模基板与所述微型透镜阵列。根据这样的结构，在相对于掩模基板的掩模图案具有规定间隙且接近对置而配置的微型透镜阵列的向场透镜的作用下，将通过了掩模图案的光聚光于投影透镜，并通过该投影透镜将所述掩模图案的像縮小投影在被对置配置的被曝光体上。
另外，在所述微型透镜阵列的至少所述多个投影透镜的外侧区域形成有遮光膜。由此，通过形成于微型透镜阵列的至少多个投影透镜的外侧区域的遮光膜来遮断向投影透镜外照射的光。进而， 在所述微型透镜阵列的形成有所述多个投影透镜的表面以该投影透镜为基准而设有用干与所述被曝光体对位的对准标记。由此，通过在微型透镜阵列的形成有多个投影透镜的表面以该投影透镜为基准而设置的对准标记来进行与被曝光体的对位。另外，所述被曝光体在曝光中沿着ー个方向以恒定速度被搬运，所述对准标记以离开形成有所述多个投影透镜的区域的朝向所述被曝光体的搬运方向的前侧规定距离的方式设置。由此，在离开形成有多个投影透镜的区域的朝向被曝光体的搬运方向的前侧规定距离而设置的对准标记的作用下，与在曝光中沿着ー个方向以恒定速度被搬运的被曝光体进行对位。进而，所述对准标记包括；与所述被曝光体的搬运方向平行的ー对细线图案；设于该ー对细线图案间且相对于所述被曝光体的搬运方向以规定角度交叉的一根细线图案。由此，在包括与被曝光体的搬运方向平行的一对细线图案和设于该一对细线图案间且相对于被曝光体的搬运方向以规定角度交叉的一根细线图案的对准标记的作用下，与沿着ー个方向以恒定速度被搬运的被曝光体进行对位。并且，在所述投影透镜的表面设有光圈，所述光圈具有直径小于所述向场透镜的直径的圆形开ロ。由此，通过设于投影透镜的表面且具有直径比向场透镜的直径小的圆形开ロ的光圈来限制在投影透镜中射出的光束径。发明效果根据第一方面的发明，能够通过与掩模图案接近对置而配置的向场透镜使通过了掩模图案的光的大致全量聚光于投影透镜。因而，能够提高经由投影透镜而照射于被曝光体的光的利用效率。由此，能够降低光源的功率，从而减轻光源的负担。另外，根据第二方面的发明，能够遮断通过光掩模的不需要的漏光，从而能够进ー步提高曝光图案的分辨率。进而，根据第三方面的发明，能够使光掩模的对准标记接近与光掩模接近对置而配置的被曝光体的表面，从而能够同时对在被曝光体上预先形成的对准的基准和光掩模的对准标记进行观察。因而，能够容易地进行光掩模与被曝光体的对位。另外，即便在掩模图案的中心与投影透镜的光轴偏离的情况下，由于掩模图案的投影像形成在投影透镜的光轴上，故通过使用以投影透镜形成为基准的所述对准标记来进行对准，从而也能够将掩模图案的像精度良好地定位曝光在被曝光体的规定位置上。另外，根据第四方面的发明，能够ー边对光掩模与沿着ー个方向移动中的被曝光体之间的位置偏差进行修正一边进行曝光，从而能够缩短曝光工程的生产节柏。进而，根据第五方面的发明，能够通过一个对准标记来高精度地进行光掩模与被曝光体之间的位置偏差检测和相对于移动中的被曝光体的曝光时序的控制。因而，能够通过被曝光体的规定位置来高精度地对掩模图案的像进行定位曝光。并且，根据第六方面的发明，能够排除投影透镜的球面像差的影响，从而能够进ー步提高投影透镜的析像度。因而，能够更进一步提高曝光图案的分辨率。
图I是表示基于本发明的光掩模的实施方式的图，(a)是俯视图，(b)是(a)的X_X线剖面向视图。图2是表示用于进行所述光掩模的掩模基板与微型透镜阵列的对位的对准标记的一方式的说明图，(a)示出掩模侧对准标记，(b)示出透镜侧对准标记。图3是表示所述微型透镜阵列的结构的剖视图，其为表示基于近轴光线追踪的掩 模图案的成像的说明图。图4是表示所述光掩模的N型对准标记的俯视图。图5是表不使用所述光掩模的曝光装置的简略图。图6是表示所述曝光装置的控制机构的结构的框图。图7是对根据所述N型对准标记来实现光掩模与摄像机构的摄像中心的位置偏差修正进行表示的说明图。图8是对所述光掩模与被曝光体的位置偏差修正进行表示的说明图。图9是表不本发明的光掩模的另ー结构例的俯视图。
具体实施例方式以下，根据附图对本发明的实施方式进行详细说明。图I是表示基于本发明的光掩模I的实施方式的图，(a)是俯视图，(b)是(a)的X-X线剖面向视图。该光掩模I是用于将掩模图案的像通过微型透镜缩小投影在被对置配置的被曝光体上的机构，其具备掩模基板2和微型透镜阵列3。所述掩模基板2是在透明基板的一表面形成有规定形状的多个掩模图案的构件，如图1(b)所示，在形成于透明基板4的下表面4a的铬(Cr)等的不透明膜6上例如呈矩阵状形成有规定形状的多个掩模图案5。并且，在该图(a)中，在由ニ条粗的虚线所夹着的掩模图案形成区域7的外侧的四角部形成有用干与后述的微型透镜阵列3进行对位的、例如图2(a)所示那样的由不透明膜形成的十字状的掩模侧对准标记8。需要说明的是，在图1(a)中，因附图繁杂而将掩模图案5由四边形简略示出。与所述掩模基板2对置而设有微型透镜阵列3。该微型透镜阵列3是用于将所述掩模基板2的掩模图案5的像縮小投影在被接近对置而配置的被曝光体上的构件，如图I (b)所示，在另一透明基板9的下表面9a上与掩模基板2的掩模图案5对应地例如呈矩阵状形成有将所述多个掩模图案5縮小投影在被对置配置的被曝光体上的多个投影透镜10，如该图所示，在上表面9b上以使光轴与投影透镜10的光轴一致的状态形成有图3所示那样的、将入射光聚光于投影透镜10的向场透镜11。并且，在所述向场透镜11及投影透镜10的外侧区域形成有由铬(Cr)等的不透明膜构成的遮光膜12。在这种情况下，也可以在投影透镜10的表面设有具有直径比向场透镜11的直径更小的圆形开ロ的光圏。由此，能够排除投影透镜10的球面像差的影响来提高投影透镜的析像度。需要说明的是，在本实施方式中，如图3所示，使投影透镜10的直径形成得比向场透镜11的直径小，从而可获得与设有光圈时实质上同等的效果。另外，在透明基板9的上表面％，在由图I所示的两条粗的虚线所夹着的透镜形成区域13的外侧的四角部，与所述掩模基板2的掩模侧对准标记8对应地形成有用干与掩模基板2进行对位的、例如图2(b)所示那样的在不透明膜形成有十字状的开ロ的透镜侧对准标记14。进而，在透明基板9的下表面9a侧的遮光膜12形成有与透镜侧对准标记14对应的四边形的开ロ 15，从而能够使从透明基板9的下表面9a侧照射来的照明光透过而对透镜侧对准标记14进行照明。另外，在所述微型透镜阵列3的形成多个投影透镜10的表面(下表面9a)上设有对准标记(以下，称之为“N型对准标记16”)。该N型对准标记16是在曝光中始終用于使掩模基板2的掩模图案5与沿着图I中箭头A所示的ー个方向被搬运的被曝光体的曝光目标位置对位的标记，在图I中，其以由两条粗的虚线所夹着的透镜形成区域13内的多个投影透镜10中的、朝向由箭头A所示的被曝光体的搬运方向(以下，称之为“基板搬运方向”)而位于最前侧的投影透镜10作为基准，而在朝向基板搬运方向(箭头A方向)的前侧离开规定距离设置。需要说明的是，为了能够从掩模基板2的上方能够观察N型对准标记16，将与N型对准标记16对应的区域的所述掩模基板2的不透明膜6及微型透镜阵列3的上表面9b的遮光膜12除去。这样，通过使N型对准标记16形成在与微型透镜阵列3的投影透镜10的形成面相同的表面上，由此与光掩模I接近对置被搬运的被曝光体的表面和N型对准标记16接近，从而能够同时观察在被曝光体上预先形成的基准图案和N型对准标记16， 光掩模I与被曝光体的对位变得容易。另外，即便在掩模图案5的中心与投影透镜10的光轴偏离的情况下，由于掩模图案5的投影像形成在投影透镜10的光轴上，因此，在使用将投影透镜10形成为基准的N型对准标记16的对准作用下，也能够在被曝光体的规定位置精度良好地曝光掩模图案5。此处，N型对准标记16具体而言如图4所示，是包括例如与基板搬运方向(箭头A方向)平行的ー对细线图案17a、17b和设于该ー对细线图案17a、17b间且相对于基板搬运方向(箭头A方向)以规定角度Θ (例如Θ =45° )交叉的ー个细线图案17c的大致N字状的标记，如图1(a)所示，以使细线图案17c的与基板搬运方向(箭头A方向)平行的中心线和所述多个投影透镜10中的任一投影透镜10的中心一致的方式形成N型对准标记16。另外，N型对准标记16的与该基板搬运方向(箭头A方向)正交的中心轴和微型透镜阵列3的朝向基板搬运方向而位于最前侧的投影透镜10之间的距离预先设定为距离D。这样的微型透镜阵列3能够如下形成。首先，在透明基板9的上表面9b上，在遮蔽了透镜形成区域13外的状态下对透镜形成区域13进行蚀刻而往下挖掘例如约50 μ m 300 μ m的深度。进而，利用公知的技术在透镜形成区域13形成具有规定的曲率的凸状的多个向场透镜11。其次，在透明基板9的上表面9b的整个表面形成铬(Cr)等的遮光膜12之后，对与所述向场透镜11对应的部分及与所述N型对准标记16对应的区域的遮光膜12进行蚀刻而除去。同时，也可以对透镜侧对准标记14进行蚀刻来形成。接着，在透明基板9的下表面9a的透镜形成区域13，与所述向场透镜11对应地利用公知的技术来形成凸状的多个投影透镜10。然后，在透明基板9的下表面9a的整个表面形成铬(Cr)等的遮光膜12之后，对与所述投影透镜10对应的部分及与透镜侧对准标记14对应的部分进行蚀刻而除去。此时，也可以同时形成N型对准标记16。需要说明的是，N型对准标记16在光掩模I上不仅可设置ー个，也可以沿着与基板搬运方向大致正交的方向设置多个。在这种情况下，也可以与各N型对准标记16对应地设有多台后述的摄像机构24(參考图5)。由此，能够使用多个N型对准标记16中的任一 N型对准标记16来进行光掩模I与被曝光体的对位。这样的设有多个N型对准标记16的光掩模I尤其在大面积的被曝光体的曝光中是优选的。接着，关于本发明的光掩模I的制造进行说明。首先，在微型透镜阵列3的上表面％，在向场透镜11的透镜形成区域13外的部分涂敷粘接剂。其次，使掩模基板2的形成有掩模图案5的下表面4a与微型透镜阵列3的涂敷有粘接剂的上表面％面对面地来对置配置掩模基板2与微型透镜阵列3。接着，ー边由显微镜对掩模侧对准标记8与透镜侧对准标记14同时进行观察，一边以该两个对准标记一致的方式使掩模基板2与微型透镜阵列3相对平行移动，并以各基板4、9的表面的中心为轴旋转而进行对位。然后，在从各基板4、9的表面的侧方对掩模基板2及微型透镜阵列3进行加压的状态下，使所述粘接剂固化而将两者接合。由此，完成图I所示那样的本发明的光掩模I。此时，掩模图案5与向场透镜11接近至约50μπι 300μπι左右的距离。
图5是表示使用本发明的光掩模I的曝光装置的主视图。该曝光装置是用于在将被曝光体19沿着箭头A所示的ー个方向以恒定速度搬运的同时进行曝光的机构，其具备搬运机构20、光源21、耦合光学系统22、掩模台23、摄像机构24、控制机构25。所述搬运机构20是用于在上表面20a载置被曝光体19并使其沿着箭头A所示的方向以恒定速度搬运的机构，其从上表面20a喷射空气且进行吸引，并使该空气的喷射与吸引平衡而使被曝光体19在悬浮规定量的状态下进行搬运。另外，在搬运机构20具备对被曝光体19的移动速度进行检测的速度传感器及对被曝光体19的位置进行检测的位置传感器(省略图示)。在所述搬运机构20的上方设有光源21。该光源21为作为光源光而放射出紫外线的激光光源。需要说明的是，在本实施方式中，光源21被后述的控制机构25控制而间歇性发光。在所述光源21的光放射方向前方设有稱合光学系统22。该稱合光学系统22是用于使从光源21放射出的光源光形成为平行光并照射在后述的光掩模I的掩模图案形成区域7的构件，其包括光电积分器或聚光透镜等光学部品而构成。进而，还具备与光掩模I的掩模图案形成区域7的外形吻合地对光源光的横断面形状进行整形的掩模。与所述搬运机构20的上表面20a对置而设有掩模台23。该掩模台23是用于对本发明的光掩模I进行定位而保持的构件，其与光掩模I的掩模图案形成区域7及N型对准标记16的形成区域对应而在中央部形成开ロ 26，以保持光掩模I的周缘部。并且，还具备被后述的控制机构25控制而在与搬运机构20的上表面20a平行的面内沿着与基板搬运方向(箭头A方向)正交的方向移动的移动机构。在所述搬运机构20的上方设有能够对被保持于掩模台23的光掩模I的N型对准标记16进行摄像的摄像机构24。该摄像机构24是用于对光掩模I的N型对准标记16和在被曝光体19的表面预先形成的基准标记(例如显示用基板的像素)同时进行摄像的构件，其为在与搬运机构20的上表面20a平行的面内沿着与基板搬运方向(箭头A方向)大致正交的方向呈一条直线状排列多个受光元件的行式照相机。与所述搬运机构20、光源21、掩模台23及摄像机构24电连接地设有控制机构25。该控制机构25是用于根据摄像机构24的摄像图像，而以对光掩模I与被曝光体19的位置偏差进行修正的方式使掩模台23移动且对光源21的发光时序进行控制的构件，如图6所示，其具备图像处理部27、存储器28、运算部29、搬运机构驱动控制器30、掩模台驱动控制器31、光源驱动控制器32、控制部33。此处，图像处理部27是用于对由摄像机构24拍摄到的被曝光体19表面的摄像图像进行处理，并借助超出规定的阈值而变化的亮度变化分别对在被曝光体19预先形成的基准图案的与基板搬运方向大致平行的缘部及与基板搬运方向交叉的缘部进行检测的构件。另外，存储器28是用于在对预先形成于被曝光体19的基准图案的基板搬运方向前头侧的缘部检测之后，直至被曝光体19上的最初的曝光目标位置到达位于光掩模I的基板搬运方向前侧的掩模图案5的像的投影位置之前，对被曝光体19移动的距离的目标值TG1、光掩模I与被曝光体19的对准的目标值TG2、光掩模I的掩模图案5的基板搬运方向的排列间距P等进行储存，且对后述的运算部29中的运算结果进行暂时储存的构件。进而，运算部29是用于根据搬运机构20的位置传感器的输出来运算被曝光体19的移动距离，且根据图像处理部27的输出来运算光掩模I与被曝光体19的位置偏差量等的构 件。并且，搬运机构驱动控制器30是用于对搬运机构20进行控制而使被曝光体19以恒定速度被搬运的构件。另外，掩模台驱动控制器31是用于对掩模台23的移动进行控制以便根据运算部29的输出来对光掩模I与被曝光体19的位置偏差量进行修正的构件。进而，光源驱动控制器32是用于对光源21的点亮及熄灭的驱动进行控制的构件。并且，控制部33是用于对所述各要素进行适当驱动而对整体进行统ー控制的构件。接着，对这样构成的曝光装置的动作进行说明。首先，预先对光掩模I与摄像机构24的摄像中心之间的位置偏差量进行测量。其能够如下进行。即，首先，由摄像机构24对被保持于掩模台23的光掩模I的N型对准标记16进行拍摄，将其图像数据在图像处理部27中进行图像处理，如图7 (a)所示基干与基板搬运方向(箭头A方向)大致正交的方向上的亮度变化来对与N型对准标记16的细线图案17a 17c对应的三个暗部的缘部的位置进行检测，在运算部29中分别算出所述三个暗部的中心位置。接着，在运算部29中对邻接的两个暗部间的距离G1W2进行运算。进而，根据该距离Gp G2的差量来对摄像机构24的摄像中心和光掩模I的N型对准标记16的与基板搬运方向(箭头A方向)正交的方向上的中心线的偏差量G进行运算。在这种情况下，在所述细线图案17c的相对于基板搬运方向(箭头A方向)的倾斜角度Θ为Θ = 45°吋，所述偏差量G是G= (G1-G2)/2.然后，该偏差量G与被保存在存储器28中的被曝光体16的移动距离的目标值TG1相加而对目标值TG1进行修正，且该修正的目标值(TGJG)被保存在存储器28中。接着，在搬运机构20的上表面20a对被曝光体19进行定位而将其载置之后，通过搬运机构驱动控制器30来控制搬运机构20的驱动，从而使被曝光体19沿着箭头A方向以恒定速度开始搬运。当搬运被曝光体19而使其基板搬运方向(箭头A方向)前头侧的缘部到达摄像机构24的摄像位置时，通过摄像机构24对被曝光体19的表面进行拍摄。此时，摄像机构24的摄像图像在图像处理部27中被图像处理，根据基板搬运方向上的从暗向明的亮度变化，对在被曝光体19上预先形成的基准图案的与基板搬运方向交叉的缘部进行检测。然后，根据搬运机构20的位置传感器的输出来对基准图案的所述缘部检测时刻下的被曝光体19的位置进行检測。接着，在运算部29中开始被曝光体19的移动距离的运算。另外，该运算结果与在存储器28中保存的被曝光体19的移动距离的所述修正后的目标值(TGJG)进行比较。并且，在两者一致时，被曝光体19上的最初的曝光目标位置被定位在光掩模I的朝向基板搬运方向而位于最前侧的掩模图案5的像的投影位置上。另ー方面，如图8 (a)所示，通过摄像机构24对光掩模I的N型对准标记16与被曝光体19的基准图案34进行拍摄。其摄像图像在图像处理部27中被图像处理，如该图(b)所示，对与基板搬运方向(箭头A方向)大致正交的方向的亮度变化进行检测，从而对邻接的两个基准图案34间及与N型对准标记16的三根细线图案17a 17c对应的暗部的与基板搬运方向(箭头A方向)大致平行的缘部的位置进行检測。然后，在运算部29中，根据这些位置数据来算出各暗部的中心位置。进而，在运算部29中，对与N型对准标记16的例如左侧细线图案17a对应的暗部的中心位置和与邻接的两个基准图案34间对应的暗部的中心位置之间的距离G3进行运算，并将其与在存储器28中保存的对准的目标值TG2进行比 较。然后，一边由掩模台驱动控制器31进行控制，一边以使所述距离G3与对准的目标值TG2一致的方式使掩模台23向与基板搬运方向(箭头A方向)大致正交的方向移动。需要说明的是，该对准动作在被曝光体19的移动中始终执行，直至对于被曝光体19的曝光全部结束。被曝光体19的基准图案34的基板搬运方向(箭头A方向)前头侧的缘部由摄像机构24检测之后，在被曝光体19被移动与所述修正后的目标值(TGJG)相等的距离时，将由运算部29输出的点亮指令作为触发器而使光源驱动控制器32起动，使光源21点亮规定时间。由此，在被曝光体19的最初的曝光目标位置上縮小投影光掩模I的基板搬运方向前侧的掩模图案5的像，从而在掩模图案5上形成有相似形状的曝光图案。以后，在运算部29中，根据搬运机构20的位置传感器的输出来运算被曝光体19的移动距离，在毎次被曝光体19移动了与被保存于存储器28的所述掩模图案5的向基板搬运方向的排列间距P相等的距离时向光源驱动控制器32输出点亮指令。由此，在毎次被曝光体19移动了与所述掩模图案5的向基板搬运方向的排列间距P相等的距离时，光源21被点亮规定时间来执行曝光，从而将掩模图案5的像依次曝光在被曝光体19上的曝光目标位置上。需要说明的是，在本实施方式的光掩模I中，通过沿着基板搬运方向(箭头A方向)排列的多个掩模图案5(图I中示出三个掩模图案5)对被曝光体19上的相同位置进行多重曝光。因而，能够减小光源21的功率，从而能够减轻相对于光源21的负担。需要说明的是，在所述实施方式中，对于掩模图案5以规定间距呈矩阵状排列所形成的光掩模I进行了说明，但本发明并不局限于此，也可以是如下的光掩模I:使掩模图案5沿着与基板搬运方向正交的方向多排形成以规定间距呈ー排排列形成的掩模图案列，且以对位于基板搬运方向前头侧的掩模图案列的邻接的掩模图案5间由后续的掩模图案列的掩模图案5进行补充的方式将后续的各掩模图案列分别沿着与基板搬运方向大致正交的方向错开规定寸法。由此，能够稠密地形成曝光图案。在这种情况下，也可以将所述多排的掩模图案列作为I组而在基板搬运方向上配置多组。另外，在所述实施方式中，对于光掩模I为在ー张掩模基板2上组装ー张微型透镜阵列3而成的构件的情况进行了说明，但本发明并不局限于此，如图9所示，光掩模也可以是相对于ー张掩模基板2而在该掩模基板2的长轴方向上排列组装多个微型透镜阵列3而成的构件。由此，能够降低微型透镜阵列3的制造成本，从而也能够降低光掩模I的制造成本。进而，在所述实施方式中，对于在微型透镜阵列3的透明基板9的上表面9b往下挖规定深度而形成向场透镜11的情况进行了说明，但本发明并不局限于此，也可以于在上表面9b形成有向场透镜11且在下表面9a形成有投影透镜10的透明基板9的端面接合另一基板而在掩模基板2的掩模图案5与所述向场透镜11之间形成规定间隙。或者是，也可以在所述透明基板9的上表面9b的透镜形成区域13的外侧配置规定厚度的垫片，经由该垫片而接合掩模基板2与微型透镜阵列3，从而在所述掩模图案5与向场透镜11之 间形成规定间隙。并且，在所述实施方式中，关于光掩模I对沿ー个方向搬运中的被曝光体19进行曝光的情况进行了说明，但本发明并不局限于此，也可以是光掩模I对静止状态的被曝光体19进行曝光。标号说明I...光掩模2...掩模基板3...微型透镜阵列4...掩模基板用的透明基板5...掩模图案9...微型透镜用的透明基板10...投影透镜11···向场透镜12...遮光膜16. . . N型对准标记17a 17c. ··细线图案19...被曝光体
权利要求
1.ー种光掩模，其特征在于，具有 掩模基板，其在透明基板的一表面形成有规定形状的多个掩模图案； 微型透镜阵列，其在另一透明基板的一表面形成有将所述多个掩模图案的像縮小投影在被对置配置的被曝光体上的多个投影透镜，并在另一透明基板的另ー表面以使光轴与所述投影透镜的光轴一致的方式形成有将入射光聚光于所述投影透镜的多个向场透镜， 以使所述掩模图案与所述向场透镜具有规定间隙且处于接近对置的状态的方式来接合所述掩模基板与所述微型透镜阵列。
2.如权利要求I所述的光掩模，其特征在干， 在所述微型透镜阵列的至少所述多个投影透镜的外侧区域形成有遮光膜。
3.如权利要求I或2所述的光掩模，其特征在干， 在所述微型透镜阵列的形成有所述多个投影透镜的表面以该投影透镜为基准而设有用干与所述被曝光体对位的对准标记。
4.如权利要求3所述的光掩模，其特征在干， 所述被曝光体在曝光中沿着ー个方向以恒定速度被搬运， 所述对准标记以离开形成有所述多个投影透镜的区域的朝向所述被曝光体的搬运方向的前侧规定距离的方式设置。
5.如权利要求4所述的光掩模,其特征在于， 所述对准标记包括；与所述被曝光体的搬运方向平行的ー对细线图案；设于该ー对细线图案间且相对于所述被曝光体的搬运方向以规定角度交叉的一根细线图案。
6.如权利要求I所述的光掩模，其特征在于， 在所述投影透镜的表面设有光圈，所述光圈具有直径小于所述向场透镜的直径的圆形开ロ。
全文摘要
本发明提供一种光掩模，具有在透明基板(4)的下表面(4a)形成有规定形状的多个掩模图案(5)的掩模基板(2)；在另一透明基板(9)的下表面(9a)形成有将多个掩模图案(5)的像缩小投影在被对置配置的被曝光体上的多个投影透镜(10)，且在上表面(9b)以使光轴与投影透镜(10)的光轴一致的方式形成有将入射光聚光于投影透镜(10)的多个向场透镜(11)的微型透镜阵列(3)，以使掩模图案(5)与向场透镜(11)具有规定间隙且处于接近对置的状态的方式来接合掩模基板(2)与微型透镜阵列(3)。由此，能够提高照射于被曝光体的光的利用效率。
文档编号H01L21/027GK102667622SQ20108005797
公开日2012年9月12日 申请日期2010年12月13日 优先权日2009年12月22日
发明者水村通伸, 畑中诚 申请人:株式会社V技术