专利名称：有机电致发光装置及其制备方法
有机电致发光装置及其制备方法
技术领域：
本发明涉及有机电致发光器件领域，特别是涉及一种有机电致发光装置及其制备方法。背景技术：
有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting Diode),以下简称0LED,具有亮度高、材料选择范围宽、驱动电压低、全固化主动发光等特性，同时拥有高清晰、广视角，以及响应速度快等优势，是一种极具潜力的显示技术和光源，符合信息时代移动通信和信息显示的发展趋势，以及绿色照明技术的要求，是目前国内外众多研究者的关注重点。
有机电致发光二极管具有一种类似三明治的结构，其上下分别是阴极和阳极，二个电极之间夹着单层或多层不同材料种类和不同结构的有机材料功能层。有机电致发光器件是载流子注入型发光器件，在阳极和阴极加上工作电压后，空穴从阳极，电子从阴极分别注入到工作器件的有机材料层中，两种载流子在有机发光材料中形成空穴-电子对发光， 然后光从电极一侧发出。大部分的OLED使用透明的铟掺杂氧化锡(ITO)薄膜作为阳极，光从阳极的一侧发出，制得底发射或顶发射OLED装置。
当把阴极也做成透明的时候，也可以制作成穿透式的照明装置，实现360度的全方位照明，还可以扩大有机电致发光二极管的应用领域。但是通常采用阴极材料的可见光透过率要明显低于阳极ITO的透过率，虽然ITO导电薄膜具有高透过率，但是由于其制备工艺复杂，并且一般不能直接在有机层基底上制备，因此采用普通工艺难以制作成高透光率的阴极。
发明内容
基于此，有必要提供一种高出光率的双面出光有机电致发光装置。
进一步，提供上述有机电致发光装置的制备方法。
—种有机电致发光装置，包括依次层叠的透明基板、阴极、有机电致发光层和透明阳极，所述阴极包括依次层叠在所述透明基板上的透明导电氧化物薄膜和金属修饰层，所述金属修饰层的材料选自银、铝、镁、钕、钐和镱中的一种，且所述金属修饰层的厚度为4 10纳米。
优选的，所述透明导电氧化物薄膜的材料选自铟掺杂氧化锡、氧化锌、铟掺杂氧化锌、招掺杂氧化锌和镓掺杂氧化锌中的一种。
优选的，所述透明导电氧化物薄膜的厚度为80 120纳米。
优选的，所述透明阳极包括依次层叠在所述有机电致发光层上的氧化物层、金属层和硫化锌层，所述氧化物层的厚度为5 10纳米，所述金属层的厚度为18 25纳米，所述硫化锌层的厚度为40 70纳米。
优选的，所述氧 化物的层的材料为氧化钥、氧化钨、五氧化二钒或一氧化硅，所述金属层的材料为银、铝或金。
优选的，所述有机电致发光层包括依次层叠在所述阴极上的电子注入层、电子传输层、发光层、空穴传输层和空穴注入层。
优选的，所述电子注入层的材料为氟化锂，所述电子传输层的材料为(8-羟基喹啉)_铝，所述发光层的材料为二(4，6-二氟苯基-N，C2)吡啶甲酰合铱和4，4' -N, N-二咔唑基-联苯的混合材料，所述空穴传输层的材料为N，N' - 二苯基-N，N' - 二(1-萘基)-1，1'-联苯-4,4' -二胺，所述空穴注入层的材料为4，4'，4"-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)二苯胺。
一种有机电致发光装置的制备方法，包括以下步骤:
步骤一:提供透明基板；
步骤二:在所述透明基板的表面溅射制备透明导电氧化物薄膜；
步骤三:在所述透明导电氧化物薄膜的表面蒸镀金属修饰层制得阴极，所述金属修饰层的材料选自的材料选自银、铝、镁、钕、钐和镱中的一种，且所述金属修饰层的厚度为 4 10纳米；
步骤四:在所述阴极上蒸镀有机电致发光层；及
步骤五:在所述有 机电致发光层上蒸镀透明阳极，得到所述有机电致发光装置。
优选的，步骤一还包括透明基板的洗涤，首先将基板放在含有洗涤剂的去离子水中进行超声清洗，清洗干净后依次在异丙醇，丙酮中用超声波处理20分钟，然后再用氮气吹干。
优选的，步骤五中，所述透明阳极的蒸镀方法为:先蒸镀氧化物层，然后蒸镀金属层，最后蒸镀硫化锌层。
上述有机电致发光装置的阳极为透明阳极，阴极包括依次层叠在透明基板上的透明导电氧化物薄膜和金属修饰层，金属修饰层的材料选自银、铝、镁、钕、钐和镱中的一种， 且金属修饰层的厚度为4 10纳米。透明导电氧化物薄膜具有像玻璃一样高的透明性，且金属修饰层为透光好的薄层金属层，使得阴极具有较高的透光性，有机电致发光层发出的光线可以同时通过阴极的一侧和阳极的一侧发出，从而获得具有高出光率的双面出光有机电致发光装置。
图1为一实施方式的有机电致发光装置的结构示意图2为一实施方式的有机电致发光装置的制备方法流程图。
具体实施方式
以下通过具体实施方式
对上述有机电致装置及其制备方法进一步阐述。
请参阅图1，一实施方式的有机电致发光装置100，包括依次层叠的透明基板120、 阴极140、有机电致发光层160和透明阳极180。这种倒置结构具有较好的电子注入特性， 使得透明基板120与器件结构更加匹配，从而能改善有机电致发光装置100的整体性能。
透明基板120可以为玻璃基板、聚碳酸酯板基板等。玻璃基板具有较好的光透过率，为保证提高透光度，透明基板120优选采用透明玻璃制成。
阴极140包括依次层叠在透明基板120上的透明导电氧化物薄膜141及金属修饰层 142。
透明导电氧化物薄膜141的材料选自铟掺杂氧化锡(ITO)、氧化锌(ZnO)、铟掺杂 氧化锌(IZO)、铝掺杂氧化锌(AZO)和镓掺杂氧化锌(GZO)中的一种。一般情况下，透明导电 氧化物的导电性提高，则透光度下降，反之亦然。综合导电性和透光度，选择铟掺杂的氧化 锡(IZO)、氧化锌(AZO)、铟掺杂氧化锌(IZO)、铝掺杂氧化锌(AZO)和镓掺杂氧化锌(GZO) 作为透明导电氧化物制备透明导电氧化物薄膜141，使得阴极140具有高透光度的同时具 有良好的导电性。
为保证透光度，透明导电氧化物薄膜141的厚度不宜过厚。优选的，透明导电氧化 物薄膜141的厚度为80 120纳米。
金属修饰层142的材料选自银(Ag)、铝(Al)、镁(Mg)、钕(Nd)、钐(Sm)和镱(Yb) 中的一种。为提高电子的注入效率，一般选用功函数尽可能低的材料做阴极。上述几种金 属具有较低的功函数，能够降低阴极140与有机电致发光层160的注入势垒，因而能够提高 电子注入效率，从而降低有机电致发光装置100的启动电压。
为保证金属层修饰层142的透光性，金属修饰层142不易过厚。在本实施方式中， 金属修饰层142的厚度为4 10纳米。
有机电致发光层160包括依次位于阴极140上的电子注入层161、电子传输层 162、发光层163、空穴传输层164和空穴注入层165。在本实施方式中，采用氟化锂(LiF)作 为电子注入层161的材料，电子注入层161的厚度为I纳米；采用(8-羟基喹啉)_铝(Alq3) 作为电子传输层162的材料，电子传输层162的厚度为30纳米；采用二(4，6-二氟苯基-N， C2)吡啶甲酰合铱(FIrPic)和4，V -N，N-二咔唑基-联苯(CBP)的混合物作为发光层163 的材料，其中4，4' -N，N-二咔唑基-联苯的质量百分数为8%，发光层163的厚度为20纳 米；采用N，N' - 二苯基-N，N' -二(1-萘基)_1，1'-联苯-4，4' -二胺(NPB)作为的 空穴传输层164的材料，空穴传输层164的厚度为40纳米；采用4，4'，4"-三(N-3-甲 基苯基-N-苯基氨基)三苯胺(m-MTDATA)作为空穴注入层165的材料，空穴注入层165的 厚度为30纳米。
可以理解，有机电致发光层160可以为单层结构、双层结构和多层结构。采用多层 结构可以降低驱动电压、增加量子效率和提高发光度。多层结构不但保证了有机电致发光 装置的功能层与基板的良好附着性，而且还使得来自阳极180和阴极140的载流子更容易 注入到有机功能薄膜中，以改善有机电致发光装置100的发光性能。
透明阳极180包括依次层叠在有机电致发光层160上的氧化物层181、金属层182 和硫化锌(ZnS)层183。氧化物层181的材料为氧化钥(MoO3)、氧化钨(WO3)、五氧化二钒 (V2O5)或一氧化硅(SiO)，金属层182的材料为银(Ag)、铝(Al)或金(Au)。氧化物层181 可以降低金属层182与空穴注入层165之间较大的空穴注入势垒，改善空穴注入能力。硫 化锌(ZnS)层183的设置提高了透明阳极180的光提取效率，从而可以提高透明阳极180 的出光率。
阳极的厚度过厚会降低透光率。在本实施方式中，氧化物层181的厚度为5 10 纳米，金属层182的厚度为18 25层，硫化锌层183的厚度为40 70纳米，以保证透明 阳极180的透明度。
可以理解，透明阳极180也可以是常规的铟掺杂氧化锡(ITO)阳极。铟掺杂氧化锡阳极也具有较高的光透过率。但上述多层结构的阳极与常规的ITO阳极相比，具有电导 率高、电能损耗小，空穴注入能力高的优点，且由于金属铟属于稀缺资源，使得ITO阳极的 成本较高，本实施方式的透明阳极180可有效降低有机电致发光装置100的成本。
上述有机电致发光装置100的透明阳极180为透明阳极，阴极140包括依次层叠 在透明基板120上的透明导电氧化物薄膜141和金属修饰层142，金属修饰层142的材料 选自银(Ag)、铝(Al)、镁(Mg)、钕(Nd)、钐(Sm)和镱(Yb)中的一种，且金属修饰层142的 厚度为4 10纳米。透明导电氧化物薄膜141具有像玻璃一样高的透明性，且金属修饰层 142为透光好的薄层金属层，使得阴极140具有较高的透光性，有机电致发光层160发出的 光线可以同时通过阴极140的一侧和透明阳极180的一侧发出，高出光率的阴极140和透 明阳极180使得有机电致发光装置100为具有高出光率的双面出光有机电致发光装置。
当把阴极140做成透明时，可以把有机电致发光装置100制成穿透式的照明装置， 实现360度的全方位均匀照明，可扩大有机电致发光装置100的应用领域。
请参阅图2，一种有机电致发光装置的制备方法，包括以下步骤:
步骤SllO:提供透明基板。
本实施方式中，透明基板为透明玻璃。基板经过洗涤，首先将基板放在含有洗涤剂 的去离子水中进行超声清洗，清洗干净后依次用异丙醇，丙酮在超声波中处理20分钟，然 后再用氮气吹干，得到洁净的基板。
步骤S120:在步骤SllO的透明基板的表面溅射制备透明导电氧化物薄膜。
在真空镀膜系统中溅射透明导电氧化物，以在透明基板表面上形成透明导电氧化 物薄膜。透明导电氧化物选自铟掺杂氧化锡(ITO)、氧化锌(ZnO)、铟掺杂氧化锌(IZO)、 铝掺杂氧化锌(AZO)和镓掺杂氧化锌(GZO)中的一种，且透明导电氧化物物薄膜的厚度为 80 120纳米。
步骤S130:在步骤S120的透明导电氧化物薄膜表面蒸镀金属修饰层制得阴极。
在热蒸镀系统中蒸镀金属，以在步骤120得到的透明导电氧化物薄膜表面上形成 金属修饰层，从而得到阴极。
所蒸镀的金属选自银(Ag)、铝(Al)、镁(Mg)、钕(Nd)、钐(Sm)和镱(Yb)中的一种， 且金属修饰层的厚度为4 10纳米。
步骤S140:在步骤130的阴极上蒸镀有机电致发光层。
在本实施方式中，有机电致发光层包括依次位于阴极上的电子注入层、电子传输 层、发光层、空穴传输层和空穴注入层。制备过程中，依次蒸镀形成电子注入层、电子传输 层、发光层、空穴传输层和空穴注入层，从而得到有机电致发光层。
步骤S150:在步骤140的有机电致发光层上蒸镀透明阳极，得到有机电致发光装置。
蒸镀过程中，先蒸镀氧化物层，然后蒸镀金属层，最后蒸镀硫化锌层，氧化物层、金 属层和硫化锌层依次叠合。氧化物层的材料为氧化钥(MoO3)、氧化钨(WO3)、五氧化二钒 (V2O5)或一氧化硅(SiO)，金属层的材料为银(Ag)、铝(Al)或金(Au)。
阳极的三个组成结构层都采用蒸镀工艺制备，在制备过程中不会对有机电致发光 层产生破坏作用，不会影响有机电致发光器件的发光性能。
上述有机电致发光装置的制备方法，将阴极制备在基板上，克服了一般不能直接在有机层基底上制备透明导电氧化物薄膜的工艺困难，制作过程简单，制备得到的有机电 致发光装置结构紧凑，且制备过程中不会影响有机器件的发光性能，能得到高发光性能的 有机电致发光装置，并且制备成本低，易于工业化。
以下为具体实施例。
实施例1
将透明玻璃基板清洗干净后，在真空溅射系统中，在透明玻璃的表面上溅射制备 厚度为100纳米的铟掺杂氧化锡(ITO)薄膜，然后转移至真空热蒸镀系统中，在ITO薄膜表 面蒸镀厚度为8纳米的银(Ag)层作为金属修饰层，然后依次在其表面蒸镀有机电致发光层 以及透明阳极，得到有机电致发光装置。透明阳极结构为Mo03/Ag/ZnS，三层的厚度分别为 6纳米、20纳米、45纳米。
所得的有机电致发光装置的结构为:
透明玻璃基板/ITO/Ag/LiF/Alq3/FIrPic:CBP8 % /NPB/m_MTDATA/Mo03/Ag/ZnS。 即该有机电致发光装置的结构为依次层叠的透明玻璃基板，由ITO和层叠在ITO上的Ag金 属修饰层组成的阴极，有机电致发光层，依次层叠的MoO3层、Ag层和ZnS层组成的阳极。其 中有机电致发光层的结构为依次层叠在阴极上的电子注入层、电子传输层、发光层、空穴传 输层和空穴注入层。电子注入层的材料为LiF ;电子传输层的材料为Alq3 ;发光层的材料为 FIrPic和CBP掺杂形成的混合物，其中CBP的掺杂质量百分比为8%;空穴传输层的材料为 NPB ;空穴注入层的材料为m-MTDATA。
实施例2
将透明玻璃基底清洗干净后，在真空溅射系统中，在透明玻璃的表面上溅射制备 厚度为80纳米的铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜，然后转移至真空热蒸镀系统中，在AZO薄膜表 面蒸镀厚度为10纳米的钐(Sm)层作为金属修饰层，然后依次在其表面蒸镀有机电致发光 层以及透明阳极，得到有机电致发光装置。透明阳极结构为W03/Al/ZnS，三层的厚度分别为 5纳米、18纳米、70纳米。
所得的有机电致发光装置的结构为:
透明玻璃基板/AZ0/Sm/LiF/Alq3/FIrPic:CBP8%/NPB/m_MTDATA/TO3/Al/ZnS。即 该有机电致发光装置的结构为依次层叠的透明玻璃基板，由AZO和层叠在AZO上的Sm金属 修饰层组成的阴极，有机电致发光层，依次层叠的WO3层、Al层和ZnS层组成的阳极。其中 有机电致发光层的结构为依次层叠在阴极上的电子注入层、电子传输层、发光层、空穴传输 层和空穴注入层。电子注入层的材料为LiF ；电子传输层的材料为Alq3 ;发光层的材料为 FIrPic和CBP掺杂形成的混合物，CBP的掺杂质量百分比为8%;空穴传输层的材料为NPB ； 空穴注入层的材料为m-MTDATA。
实施例3
将透明玻璃基板清洗干净后，在真空溅射系统中，在透明玻璃的表面上溅射制备 厚度为120纳米的铟掺杂氧化锌(IZO)薄膜，然后转移至真空热蒸镀系统中，在IZO薄膜表 面蒸镀厚度为4纳米的铝(Al)层作为金属修饰层，然后依次在其表面蒸镀有机电致发光层 以及透明阳极，得到有机电致发光装置。透明阳极结构为V205/Au/ZnS，三层的厚度分别为 10纳米，25纳米，40纳米。
所得的有机电致发光装置的结构为:
透明玻璃基板/IZ0/Al/LiF/Alq3/FIrPic:CBP8%/NPB/m-MTDATA/V205/Au/ZnS。即 该有机电致发光装置的结构为依次层叠的透明玻璃基板，由IZO和层叠在IZO上的Al金属 修饰层组成的阴极，有机电致发光层，依次层叠的V2O5层、Au层和ZnS层组成的阳极。其中 有机电致发光层的结构为依次层叠在阴极上的电子注入层、电子传输层、发光层、空穴传输 层和空穴注入层。电子注入层的材料为LiF ；电子传输层的材料为Alq3 ;发光层的材料为 FIrPic和CBP掺杂形成的混合物，CBP的掺杂质量百分比为8%;空穴传输层的材料为NPB ； 空穴注入层的材料为m-MTDATA。
实施例4
将透明玻璃基板清洗干净后，在真空溅射系统中，在透明玻璃的表面上溅射制备 厚度为100纳米的镓掺杂氧化锌(GZO)薄膜，然后转移至真空热蒸镀系统中，在GZO薄膜表 面蒸镀厚度为6纳米的镁(Mg)层作为金属修饰层，然后依次在其表面蒸镀有机电致发光层 以及透明阳极，得到有机电致发光装置。透明阳极结构为SiO/Ag/ZnS，三层的厚度分别为8 纳米，20纳米，60纳米。
所得的有机电致发光装置的结构为:
透明玻璃基板/GZ0/Mg/LiF/Alq3/FIrPic:CBP8%/NPB/m-MTDATA/SiO/Ag/ZnS。即 该有机电致发光装置的结构为依次层叠的透明玻璃基板，由GZO和层叠在GZO上的Mg金属 修饰层组成的阴极，有机电致发光层，依次层叠的SiO层、Ag层和ZnS层组成的阳极。其中 有机电致发光层的结构为依次层叠在阴极上的电子注入层、电子传输层、发光层、空穴传输 层和空穴注入层。电子注入层的材料为LiF ;电子传输层的材料为Alq3 ;发光层的材料为 FIrPic和CBP掺杂形成的混合物，CBP的掺杂质量百分比为8%;空穴传输层的材料为NPB ； 空穴注入层的材料为m-MTDATA。
实施例5
将透明玻璃基板清洗干净后，在真空溅射系统中，在透明玻璃基板的表面上溅射 制备厚度为120纳米的氧化锌(ZnO)薄膜，然后转移至真空热蒸镀系统中，在ZnO薄膜表面 蒸镀厚度为10纳米的钕(Nd)层作为金属修饰层，然后依次在其表面蒸镀有机电致发光层 以及透明阳极，得到有机电致发光装置。透明阳极结构为V205/Au/ZnS，三层的厚度分别为 10纳米，18纳米,40纳米。
所得的有机电致发光装置的结构为:
透明玻璃基板/IZ0/Nd/LiF/Alq3/FIrPic:CBP8%/NPB/m-MTDATA/V205/Au/ZnS。即 该有机电致发光装置的结构为依次层叠的透明玻璃基板，由IZO和层叠在IZO上的Nd金属 修饰层组成的阴极，有机电致发光层，依次层叠的V2O5层、Au层和ZnS层组成的阳极。其中 有机电致发光层的结构为依次层叠在阴极上的电子注入层、电子传输层、发光层、空穴传输 层和空穴注入层。电子注入层的材料为LiF ；电子传输层的材料为Alq3 ;发光层的材料为 FIrPic和CBP掺杂形成的混合物，CBP的掺杂质量百分比为8%;空穴传输层的材料为NPB ； 空穴注入层的材料为m-MTDATA。
实施例6
将透明玻璃基板清洗干净后，在真空溅射系统中，在透明玻璃的表面上溅射制备 厚度为80纳米的铟掺杂氧化锌(IZO)薄膜，然后转移至真空热蒸镀系统中，在IZO薄膜表 面蒸镀厚度为6纳米的镱(Yb)层作为金属修饰层，然后依次在其表面蒸镀有机电致发光层以及透明阳极，得到有机电致发光装置。透明阳极结构为Mo03/Ag/ZnS，三层的厚度分别为 6纳米,20纳米,45纳米。
所得的有机电致发光装置的结构为:
透明玻璃基板/IZO/Yb/LiF/Alq3/FIrPic:CBP8 % /NPB/m_MTDATA/Mo03/Au/ZnS。 即该有机电致发光装置的结构为依次层叠的透明玻璃基板，由IZO和层叠在IZO上的Yb金属修饰层组成的阴极，有机电致发光层，依次层叠的MoO3层、Au层和ZnS层组成的阳极。其中有机电致发光层的结构为依次层叠在阴极上的电子注入层、电子传输层、发光层、空穴传输层和空穴注入层。电子注入层的材料为LiF ;电子传输层的材料为Alq3 ;发光层的材料为 FIrPic和CBP掺杂形成的混合物，CBP的掺杂质量百分比为8%;空穴传输层的材料为NPB ； 空穴注入层的材料为m-MTDATA。
请参阅表1，实施例1 6的有机电致发光装置的阴极和阳极都属于高透过率的电极，因此在两个发光面的出光亮度基本一致，使该有机电致发光装置的发光比较均匀。此夕卜，加入了金属修饰层后，器件的启动电压较低，因此有利于该器件的推广应用。
表I实施例1 6制备的器件的启动电压以及在10伏的驱动电压下上出光和下出光的亮度对比数据
权利要求
1.一种有机电致发光装置，包括依次层叠的透明基板、阴极、有机电致发光层和透明阳 极，其特征在于，所述阴极包括依次层叠在所述透明基板上的透明导电氧化物薄膜和金属 修饰层，所述金属修饰层的材料选自银、铝、镁、钕、钐和镱中的一种，且所述金属修饰层的 厚度为4 10纳米。
2.根据权利要求1所述的有机电致发光装置，其特征在于，所述透明导电氧化物薄膜 的材料选自铟掺杂氧化锡、氧化锌、铟掺杂氧化锌、铝掺杂氧化锌和镓掺杂氧化锌中的一 种。
3.根据权利要求1或2所述的有机电致发光装置，其特征在于，所述透明导电氧化物薄 膜的厚度为80 120纳米。
4.根据权利要求1所述的有机电致发光装置，其特征在于，所述透明阳极包括依次层 叠在所述有机电致发光层上的氧化物层、金属层和硫化锌层，所述氧化物层的厚度为5 10纳米，所述金属层的厚度为18 25纳米，所述硫化锌层的厚度为40 70纳米。
5.根据权利要求4所述的有机电致发光装置，其特征在于，所述氧化物的层的材料为 氧化钥、氧化钨、五氧化二钒或一氧化硅，所述金属层的材料为银、铝或金。
6.根据权利要求1所述的有机电致发光装置，其特征在于，所述有机电致发光层包括 依次层叠在所述阴极上的电子注入层、电子传输层、发光层、空穴传输层或空穴注入层中至 少一层。
7.根据权利要求6所述的有机电致发光装置，其特征在于，所述电子注入层的材料为 氟化锂，所述电子传输层的材料为(8-羟基喹啉)-铝，所述发光层的材料为二(4，6_ 二氟 苯基-N，C2)吡啶甲酰合铱和4，V -N,N- 二咔唑基-联苯的混合材料，所述空穴传输层的 材料为N，N' - 二苯基-N，N' -二(1-萘基)-1，1'-联苯_4，4' - 二胺，所述空穴注入 层的材料为4，4'，4"-三(N-3-甲基苯基-N-苯基氨基)三苯胺。
8.一种有机电致发光装置的制备方法，其特征在于，包括以下步骤:步骤一:提供透明基板；步骤二:在所述透明基板的表面溅射制备透明导电氧化物薄膜；步骤三:在所述透明导电氧化物薄膜的表面蒸镀金属修饰层制得阴极，所述金属修饰 层的材料选自的材料选自银、铝、镁、钕、钐和镱中的一种，且所述金属修饰层的厚度为4 10纳米；步骤四:在所述阴极上蒸镀有机电致发光层；及步骤五:在所述有机电致发光层上蒸镀透明阳极，得到所述有机电致发光装置。
9.根据权利要求8所述的有机电致发光装置的制备方法，其特征在于，步骤一还包括 透明基板的洗涤，首先将基板放在含有洗涤剂的去离子水中进行超声清洗，清洗干净后依 次在异丙醇，丙酮中用超声波处理20分钟，然后再用氮气吹于。
10.根据权利要求8所述的有机电致发光装置的制备方法，其特征在于，步骤五中，所 述透明阳极的蒸镀方法为:先蒸镀氧化物层，然后蒸镀金属层，最后蒸镀硫化锌层。
全文摘要
本发明涉及一种有机电致发光装置，包括依次层叠的透明基板、阴极、有机电致发光层和透明阳极，所述阴极包括依次层叠在透明基板上的透明导电氧化物薄膜和金属修饰层，金属修饰层的材料选自银、铝、镁、钕、钐和镱中的一种，且金属修饰层的厚度为4～10纳米。透明导电氧化物薄膜具有像玻璃一样高的透明性，且金属修饰层为透光性好的薄层金属层，使得阴极具有较高的透光性，有机电致发光层发出的光线可以同时通过阴极的一侧和阳极的一侧发出，从而获得具有高出光率的双面出光的有机电致发光装置。此外，还提供了上述有机电致发光装置的制备方法。
文档编号H01L51/50GK103137881SQ20111037404
公开日2013年6月5日 申请日期2011年11月22日 优先权日2011年11月22日
发明者周明杰, 王平, 冯小明, 张振华 申请人:海洋王照明科技股份有限公司, 深圳市海洋王照明技术有限公司