一种膜层图案的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种膜层图案的制作方法，先在基板上利用可擦除的制剂制作与所需的膜层图案相互补的膜层图案，然后在互补的膜层图案上形成整层的膜层，接着通过清除互补的膜层图案的方式得到所需的膜层图案，相对于传统的采用掩膜板制备膜层图案的方式，省去了曝光显影、以及刻蚀剥离等工艺，可以简化制作工艺；并且，在制作过程中省去了掩膜板的使用，可以降低膜层图案的制作成本。
【专利说明】一种膜层图案的制作方法【技术领域】
[0001]本发明涉及显示【技术领域】，尤其涉及一种膜层图案的制作方法。
【背景技术】
[0002]目前，在制作液晶显示屏、电致发光器件、触控模组以及太阳能电池等器件时，需要采用薄膜形成相对应部件的图案。例如，在制备液晶显示屏中的栅极、源极、漏极、像素电极等部件以及电容式触控模组的触控电极时，都需要在对应膜层制作这些部件的图案。
[0003]传统制作膜层图案的方法一般是采用掩模工艺，例如，在制作电容式触控模组的触控电极时，一般先在衬底基板上磁控溅射一层的ITO (Indium Tin Oxides，铟锡氧化物)膜层，然后在ITO膜层上涂覆光刻胶，再利用掩模板的图案对光刻胶进行曝光显影处理，接着湿法刻蚀ITO膜层，最后剥离剩下的光刻胶，得到所需的触控电极的图案。
[0004]可以看出，上述传统的膜层图案的制作方法工序较为复杂，而且，在制作过程中使用的掩膜板成本较高，也会导致制作膜层图案的成本较高。因此，如何简化膜层图案的制作步骤，并降低膜层图案的制作成本，是本领域技术人员需要解决的技术问题。
【发明内容】
[0005]有鉴于此，本发明实施例提供一种膜层图案的制作方法，用以解决现有的膜层图案的制作步骤较复杂且成本较高的问题。
[0006]因此，本发明实施例提供了一种膜层图案的制作方法，包括:
[0007]采用可擦除的制剂在基板上形成第一膜层图案；
[0008]在形成有所述第一膜层图案的基板上制备第二膜层；
[0009]清除所述基板上的所述第一膜层图案以及所述第二膜层覆盖所述第一膜层图案的区域，得到与所述第一膜层图案互补的第二膜层图案。
[0010]本发明实施例提供的上述膜层图案的制作方法，先在基板上利用可擦除的制剂制作与所需的膜层图案相互补的膜层图案，然后在互补的膜层图案上形成整层的膜层，接着通过清除互补的膜层图案的方式得到所需的膜层图案，相对于传统的采用掩膜板制备膜层图案的方式，省去了曝光显影、以及刻蚀剥离等工艺，可以简化制作工艺；并且，在制作过程中省去了掩膜板的使用，可以降低膜层图案的制作成本。
[0011]具体地，所述采用可擦除的制剂在基板上形成第一膜层图案，包括:
[0012]采用绘制图案或印刷的方式，在基板上形成第一膜层图案。
[0013]较佳地，所述在形成有所述第一膜层图案的基板上制备第二膜层，包括:
[0014]采用镀膜工艺在形成有所述第一膜层图案的基板上制备所述第二膜层。
[0015]进一步地，所述第二膜层为透明导电氧化物膜层或金属膜层。
[0016]具体地，所述透明导电氧化物膜层为铟锡氧化物膜层。
[0017]具体地，所述清除所述基板上的所述第一膜层图案以及所述第二膜层覆盖所述第一膜层图案的区域，包括:[0018]采用擦除的方式或采用清洗剂的方式，清除所述基板上的所述第一膜层图案以及所述第二膜层覆盖所述第一膜层图案的区域。
[0019]较佳地，所述清洗剂与所述可擦除的制剂的极性相同。
[0020]具体地，所述可擦除的制剂为墨水，所述清洗剂为乙醇溶液或丙酮溶液
【专利附图】
【附图说明】
[0021]图1为本发明实施例提供的膜层图案的制作方法的流程图；
[0022]图2为本发明实施例提供的基板上制作第一膜层图案的示意图之一；
[0023]图3为本发明实施例提供的基板上制作第一膜层图案的示意图之二 ；
[0024]图4为本发明实施例提供的基板上制作完第一膜层图案的结构示意图；
[0025]图5为本发明实施例提供的基板上制作完第二膜层的结构示意图；
[0026]图6为本发明实施例提供的基板上清除第一膜层图案的示意图之一；
[0027]图7为本发明实施例提供的基板上清除第一膜层图案的示意图之二 ；
[0028]图8为本发明实施例提供的基板上清除第一膜层图案后的结构示意图；
[0029]图9为图8沿BB方向的截面图。
【具体实施方式】
[0030]下面结合附图，对本发明实施例提供的膜层图案的制作方法的【具体实施方式】进行详细地说明。
[0031]附图中各膜层的厚度不反映其真实比例，各膜层图案的形状不仅限于此，目的只是示意说明本
【发明内容】
。
[0032]本发明实施例提供的一种膜层图案的制作方法，如图1所示，具体步骤包括:
[0033]S101、采用可擦除的制剂在基板上形成第一膜层图案；
[0034]S102、在形成有第一膜层图案的基板上制备第二膜层；
[0035]S103、清除基板上的第一膜层图案以及第二膜层覆盖第一膜层图案的区域，得到与第一膜层图案互补的第二膜层图案。
[0036]具体地，上述制作方法中所指的基板可以是衬底基板，也可以是形成有其他膜层的基板，在此不做限定。
[0037]本发明实施例提供的上述膜层图案的制作方法，先在基板上利用可擦除的制剂制作与所需的膜层图案相互补的膜层图案，然后在互补的膜层图案上形成整层的膜层，接着通过清除互补的膜层图案的方式得到所需的膜层图案，相对于传统的采用掩膜板制备膜层图案的方式，省去了曝光显影、以及刻蚀剥离等工艺，可以简化制作工艺；并且，在制作过程中省去了掩膜板的使用，可以降低膜层图案的制作成本。
[0038]本发明实施例提供的上述制作方法可用于制作液晶显示屏、电致发光器件、触控模组以及太阳能电池等器件中的膜层图案。例如，可以采用本发明实施例提供的上述制作方法制备液晶显示屏中的栅极、源极、漏极、像素电极等部件的图案。
[0039]此外，本发明实施例提供的上述制作方法特别适用制作电容式触控模组中触控电极的图案，下面以制作电容式触控模组中触控电极的图案为例对本发明实施例提供的上述制作方法中的各步骤进行详细地说明。[0040]具体地，在本发明实施例提供的上述制作方法中，步骤SlOl采用可擦除的制剂在基板上形成第一膜层图案，可以采用例如绘制图案或印刷的方式在在基板上形成第一膜层图案。
[0041]在具体实施时，如图2所示，可采用手动或自动控制方式用记号笔4在基板3绘制第一膜层图案I ;如图3所示，也可以采用喷墨印刷的方式，例如用喷墨头5在基板3上形成第一膜层图案I ;在具体实施时，可以通过计算机编程设计图案的方式设计记号笔4或喷墨头5的轨迹以实现该第一膜层图案I的制作。当然，还可以采用其他类似手段在基板上形成第一膜层图案，例如，采用丝网印刷、传统胶印或数码印刷等方式在基板上形成第一膜层图案，只需形成的第一膜层图案是可擦除的即可，具体形式在此不做限定。
[0042]采用上述方式形成第一膜层图案时，例如，用于绘图图案和印刷的墨水为可擦除制剂制成，该可擦除制剂成分通常包括分散剂、可擦除剂和溶剂等的复配液，分散剂可以为高分子聚羧酸盐类或脂肪酰二乙醇胺，可擦除剂可以为长链脂肪酸酯，溶剂可以为聚乙烯醇类和低级醇。
[0043]在步骤SlOl中制作出的第一膜层图案I如图4中黑色阴影部分所示，为所需要的触控电极图案的互补图案。其中，白色部分为所需要的触控电极图案。图2和图3为图4沿AA方向的截面图。
[0044]在本发明实施例提供的上述制作方法中，步骤S102在形成有第一膜层图案I的基板3上制备第二膜层，可以为采用镀膜工艺在形成有所述第一膜层图案的基板上制备所述第二膜层，在具体实施时，如图5所示，可以采用磁控溅射工艺、蒸发镀膜工艺或其他镀膜工艺在形成有第一膜层图案I的基板3上制备第二膜层2。较佳地，为了避免将第一膜层图案I置于高温环境而使得第一膜层图案I凝固，可以采用其他低温镀膜工艺在形成有第一膜层图案I的基板3上制备第二膜层2，在形成有第一膜层图案I的基板3上制备第二膜层2的过程中，基板3的温度控制在低于200°C为宜，当然，具体镀膜工艺可以根据基板和膜层材料的不同选择适当的工艺，在此不做限定。
[0045]进一步地，所制备的第二膜层2可以为透明导电氧化物膜层，也可以为金属膜层。
[0046]具体地，上述的金属膜层所使用的金属可以是铬、镍、钛、镍-铬合金、铝、锌、金、银和铜等，金属膜层可以是单层，也可以是不同金属两层以上层叠的多层结构；上述透明导电氧化物膜层可以为ITO (Indium Tin Oxides，铟锡氧化物)膜层，也可以为其他类似性质的透明导电氧化物膜层，如IZ0(Indium Zinc Oxides,铟锌氧化物)、ZA0(Zinc AluminiumOxides,锌招氧化物)等。在此不做限定。
[0047]具体地，在本发明实施例提供的上述方法中，步骤S103清除基板3上的第一膜层图案I以及第二膜层2覆盖第一膜层图案I的区域，在具体实施时，如图6所示，可以采用例如棉布、丝质、塑料或金属等材质的擦头6擦除的方式清除基板3上的第一膜层图案I以及第二膜层2覆盖第一膜层图案I的区域；如图7所示，也可以采用例如喷头7喷洒清洗剂的方式清除基板3上的第一膜层图案I以及第二膜层2覆盖第一膜层图案I的区域。
[0048]在清洗的过程中，采用例如墨水作为可擦除的制剂在基板3上制作出的第一膜层图案I会不留痕迹的溶解于清洗剂中或被擦头6擦除，同时覆盖在第一膜层图案I上的其他物质即第二膜层2对应区域也会随着墨水的去除被一起去除掉，从而得到所需的与第一膜层图案I互补的第二膜层图案201，如图8和图9所示，图9为图8沿BB方向的截面图。其中，第二膜层图案201与第一膜层图案I为互补图案。
[0049]进一步地，根据相似相容性，清洗剂与可擦除的制剂的极性需要相同，即清洗剂能够溶解可擦除的制剂。
[0050]具体地，可擦除的制剂可以为墨水，清洗剂可以为乙醇溶液或丙酮溶液等，清洗剂还可以为浓度96%的酒精、浓度10%的氨水和水按1:1:1混合溶液，或者将连丙酮、双氧水等作为清洗剂以去除第一膜层图案。其中，墨水主要成分包括有机溶剂、表面活性剂、溶剂、分散剂、去离子水及PH调节剂等。当然也可以采用其他化学制剂作为可擦除制剂和清洗齐U，在此不做限定。
[0051]本发明实施例提供的一种膜层图案的制作方法，先在基板上利用可擦除的制剂制作与所需的膜层图案相互补的膜层图案，然后在互补的膜层图案上形成整层的膜层，接着通过清除互补的膜层图案的方式得到所需的膜层图案，相对于传统的采用掩膜板制备膜层图案的方式，省去了曝光显影、以及刻蚀剥离等工艺，可以简化制作工艺；并且，在制作过程中省去了掩膜板的使用，可以降低膜层图案的制作成本。
[0052]显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
【权利要求】
1.一种膜层图案的制作方法，其特征在于，包括: 采用可擦除的制剂在基板上形成第一膜层图案； 在形成有所述第一膜层图案的基板上制备第二膜层； 清除所述基板上的所述第一膜层图案以及所述第二膜层覆盖所述第一膜层图案的区域，得到与所述第一膜层图案互补的第二膜层图案。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用可擦除的制剂在基板上形成第一膜层图案，包括: 采用绘制图案或印刷的方式在基板上形成第一膜层图案。
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在形成有所述第一膜层图案的基板上制备第二膜层，包括: 采用镀膜工艺在形成有所述第一膜层图案的基板上制备所述第二膜层。
4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述第二膜层为透明导电氧化物膜层或金属膜层。
5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述透明导电氧化物膜层为铟锡氧化物膜层。
6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述清除所述基板上的所述第一膜层图案以及所述第二膜层覆盖所述第一膜层图案的区域，包括: 采用擦除的方式或采用清洗剂的方式，清除所述基板上的所述第一膜层图案以及所述第二膜层覆盖所述第一膜层图案的区域。
7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，所述清洗剂与所述可擦除的制剂的极性相同。
8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述可擦除的制剂为墨水，所述清洗剂为乙醇溶液或丙酮溶液。
【文档编号】H01L21/02GK103474329SQ201310432089
【公开日】2013年12月25日 申请日期:2013年9月22日 优先权日:2013年9月22日
【发明者】杨玉清, 朴承翊, 李炳天 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 成都京东方光电科技有限公司