一种槽式湿法设备用插片盒的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供一种槽式湿法设备用插片盒，包括基座、圆柱形插杆、硅片限位杆Ⅰ、硅片限位杆Ⅱ、手提式拉杆，硅片限位杆Ⅰ以及硅片限位杆Ⅱ设有卡槽，卡槽为圆弧面结构，圆柱形插杆垂直固定在基座上，硅片限位杆Ⅰ以及硅片限位杆Ⅱ水平固定在圆柱形插杆之间，手提式拉杆垂直固定在基座上。硅片棱边与卡槽采用圆弧面接触方式，使得接触面积减小，有效改善硅片边缘直接与插片盒接触的部位反应不均、边缘发白现象；圆柱形插杆以及硅片限位杆Ⅰ的位置可变化，因此该插片盒可用于插不同尺寸的硅片。
【专利说明】一种槽式湿法设备用插片盒
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及晶硅太阳能电池领域，具体地，涉及一种槽式湿法设备插片盒。
【背景技术】
[0002]在晶硅太阳电池生产中，湿法技术是不可或缺的工艺流程，如切割后的硅片表面清洗损伤层、电池预清洗与制绒、刻蚀与抛光等工序都会用到湿法处理工艺。目前生产线大型设备使用较广的是链式湿法处理腔与槽式湿法处理腔，一些小型生产厂商和实验室设备普遍采用槽式湿法处理腔。由于槽式湿法处理过程中需要把大量脆性硅片均匀分开、逐一浸入各个反应槽中进行定时定量的化学反应，因此需要适当器具将硅片均匀分层放置，保证每片硅片表面各处都能与槽中的反应液在短时间内均匀接触，避免出现局部反应减弱或增强造成的硅片表面清洗或制绒、去PSG及导电层的片内不均，降低电池成品的外观和电性能不良影响。
[0003]现有的硅片插片盒为四周封闭的结构，该结构固定使得同一插片盒只能放置同一规格和尺寸的硅片，且硅片与插片盒接触处反应温度相对较低，反应液回流受限，造成接触处排气泡不畅，反应速率慢。在20iTl400S的不同湿法处理工艺中，通常位于硅片两边直接与插片盒接触的部位极易发生反应不均，有边缘发白等类似“花篮印”的不良品产品。在实际生产实验中，适当升高槽体温度，增加反应试剂使用量，以及开启反应液的循环回路并适当鼓泡，可以减轻边缘发白或去除杂质不均的程度，但难以消除。同时以上方式将增加能耗与化学品耗量，对于规模化生产不具备优势。
实用新型内容
[0004]本实用新型所要解决的技术问题是提供一种槽式湿法插片盒，克服反应不均和硅片边缘发白的现有技术问题。
[0005]本实用新型解决上述问题所采用的技术方案是:一种槽式湿法设备用插片盒，包括基座、圆柱形插杆，基座上表面开设有矩形插槽，圆柱形插杆下端设置有矩形插头，圆柱形插杆通过将矩形插头插入矩形插槽固定在基座上，基座内侧中部还开设有圆形插槽I，硅片限位杆II通过插入圆形插槽I固定在两基座之间，圆柱形插杆内侧开设有圆形插槽III，硅片限位杆I通过插入圆形插槽III固定在圆柱形插杆上，硅片限位杆I以及硅片限位杆II内侧开设有排布均匀的具有圆弧面的卡槽，卡槽与硅片棱边通过圆弧面接触。整个插片盒框架结构是可以拆分和组装的，便于携带和运输；本插片盒把四周封闭的插片盒结构改为由硅片限位杆1、硅片限位杆II确定硅片的固定位置，减少了硅片与插片盒的接触面积；并且本实用新型的插片盒与硅片的棱边采用了圆弧面接触方式，圆弧面接触方式为3接触点确定同一平面的插片方式，将现有硅片与插片盒的线接触转化为点接触，有效减少了插片盒与硅片边缘的接触面积；如此，通过硅片限位杆1、硅片限位杆I1、圆弧面接触的设置，克服反应不均和硅片边缘发白的现有技术问题；且非封闭式的结构，不仅减少了制作耗材，而且使得插片盒的本身重量减轻。
[0006]进一步地，每根圆柱形插杆对应的矩形插槽至少2个，每根圆柱形插杆开设有至少2个圆形插槽III。每根圆柱形插杆对应的矩形插槽至少2个，通过变换圆形插杆插入矩形插槽的位置来改变硅片插入插片盒的水平距离，每根圆柱形插杆开设有至少2个圆形插槽III，通过改变硅片限位杆I插入圆形插槽III的位置来改变硅片插入插片盒的垂直距离，如此，针对不同的尺寸规格的硅片可以通过移动硅片限位杆I和圆柱形插槽的位置来进行改装。
[0007]进一步地，卡槽为以下三种结构中任一种，圆柱侧部等间隔开球状槽，球与球之间的间距构成圆弧状的卡槽；圆柱侧壁等间隔排列小圆锥体，小圆锥体之间的间距构成圆弧状的卡槽；圆柱形横截面的相同钝角曲折线，钝角构成圆弧状的卡槽。
[0008]进一步地，卡槽对应的3点球状开槽或小圆锥体间隔或曲折线凹角处在同一平面，硅片可很好的垂直放置，能最大的利用空间，提高了整个插片盒的空间利用率。
[0009]进一步地，基座上表面还开设有圆形插槽II，圆形插槽II开设在矩形插槽外侧，手提式拉杆通过插入圆形插槽II固定在基座上。手提式拉杆结构便于移动插片盒和硅片。
[0010]进一步地，手提式拉杆包括两根圆柱形立柱、一根圆柱形横杆，两根圆柱形立柱通过横杆连接。该结构的手提式拉杆稳定牢固，且更易方便提拉，手提式拉杆的设计避免了碰触到硅片、酸、碱反应液，也使得操作更加安全。
[0011]进一步地，基座、圆柱形插杆、硅片限位杆1、硅片限位杆I1、手提式拉杆均采用聚四氟乙烯制成。聚四氟乙烯为现有技术，其具有良好的耐酸碱特性，具有耐高温、耐低温、耐腐蚀、耐气候、高润滑以及电绝缘的优点，提高了整个插片盒的使用寿命和安全性。
[0012]综上，本实用新型的有益效果是:
[0013]1、有效减少了插片盒与硅片边缘的接触面积，从而改善硅片边缘直接与插片盒接触的部位反应不均、边缘发白现象。
[0014]2、可插入不同尺寸规格的硅片，增加了插片盒的适用范围。
[0015]3、该器件可以拆分组装，占用空间小，本身重量减轻，便于携带和运输。
[0016]4、制作耗材减少，降低了生产采购成本。
[0017]5、设计了专门的手持提拉杆，不易碰触到硅片、酸、碱反应液，使得操作更便捷安全。
【专利附图】
【附图说明】
[0018]图1是槽式湿法设备用插片盒空载示意图；
[0019]图2是槽式湿法设备用插片盒满载示意图；
[0020]图3是插杆的矩形插头示意图；
[0021]图4是等间隔开球状槽弧形卡槽示意图；
[0022]图5是等间隔排列小圆锥弧形卡槽示意图；
[0023]图6是钝角曲折线弧形卡槽示意图。
[0024]附图中标记及相应的零部件名称:1一基座；2—圆柱形插杆；3—娃片限位杆I ;4一娃片限位杆II ；5一手提式拉杆；6—矩形插槽；7—圆形插槽II ；8一圆形插槽III ；9一卡槽；10—圆形插槽I ;11 一矩形插头；12—硅片；91 一等间隔开球状槽弧形卡槽；92—等间隔排列小圆锥弧形卡槽；93—钝角曲折线弧形卡槽。
【具体实施方式】
[0025]下面结合实施例及附图，对本实用新型作进一步地的详细说明，但本实用新型的实施方式不限于此。
[0026]实施例1:如图1至4所示，本实用新型将两基座1开设有矩形插槽6和圆形插槽
II7的一面向上对称放置，基座1是一个长20(T220mm、宽22mm、高15?22mm的磨边长方体，圆形插槽II 7开设在基座1上表面距左右边10?15mm处,大小为Φ5?8πιπι,深度为3飞mm,将手提式提拉杆5插入圆形插槽II 7内固定在基座1上，手提式提拉杆5上的圆柱形立柱高度不小于180mm、Φ5?8πιπι，手提式提拉杆5用于移动插片盒整体和硅片12，矩形插槽6开设在距基座1左右边22?32mm处、37.5^47.5mm处各开有长l(Tl4mm、宽4?7mm、深12?17mm的矩形插槽6,矩形插槽6用于固定圆柱形插杆2,每根圆柱形插杆2相对应的矩形插槽6预留的数量不少于2个，可根据硅片12规格形状在适当位置增添多对矩形插槽6，圆柱形插杆2底部加工成矩形插头11，矩形插头11与基座1上表面的矩形插槽6大小相对应；将矩形插头11插入矩形插槽6使得圆柱形插杆2固定在基座1上，圆柱形插杆2Φ l(Tl6mm、高150?165mm,侧面中心位置高90?110mm处设置有Φ 3?6mm圆形插槽III 8,将娃片限位杆I 3插入圆形插槽III 8，每根圆柱形插杆2上的圆形插槽III 8的预留数量不少于2个，为硅片限位杆I 3预留下插口空间，便于改变处理硅片12的尺寸规格时对插片盒的限位端位置调整改变；基座1内侧面中心位置高3?4mm处设置的Φ3?6ηιηι圆形插槽I 10为娃片限位杆II 4的插口，硅片限位杆I 3对侧以及硅片限位杆II 4上侧开设有卡槽9，卡槽9为等间隔开球状槽弧形卡槽91，对应的球状槽槽底顶点在两根硅片限位杆I 3、以及硅片限位杆II 4，位于同一平面，偏离竖直方向90°平面角度< ±3°。
[0027]将待处理硅片12逐一垂直插入插片盒，以硅片限位杆I 3和硅片限位杆II 4在同一平面的3点球状开槽处固定同一硅片。
[0028]戴好防护用品，手持提拉杆上部将2(Γ25片/盒的硅片与插片盒一起浸入已配制好的酸碱化学溶液槽中，进行湿法处理生产或实验。
[0029]湿法处理结束，使用去离子水清洗、气枪吹干或甩干机甩干、逐片取走硅片。
[0030]槽式湿法工艺结束，依次拆下圆柱形插杆2、硅片限位杆I 3、硅片限位杆II 4、手提式拉杆5部件，再用去离子水清洗插片盒所有零部件，擦干后妥善放置。
[0031]实施例2:如图1至3、图5所示，本实用新型将两基座1开设有矩形插槽6和圆形插槽II 7的一面向上对称放置，基座1是一个长20(T220mm、宽22mm、高15?22mm的磨边长方体，圆形插槽II 7开设在基座1上表面距左右边10?15mm处,大小为Φ5?8πιπι,深度为3飞mm,将手提式提拉杆5插入圆形插槽II 7内固定在基座1上，手提式提拉杆5上的圆柱形立柱高度不小于180mm、Φ 5?8mm，手提式提拉杆5用于移动插片盒整体和硅片12，矩形插槽6开设在距基座1左右边22?32mm处、37.5^47.5mm处各开有长l(Tl4mm、宽4?7mm、深12?17mm的矩形插槽6,矩形插槽6用于固定圆柱形插杆2,每根圆柱形插杆2相对应的矩形插槽6预留的数量不少于2个，可根据硅片12规格形状在适当位置增添多对矩形插槽6，圆柱形插杆2底部加工成矩形插头11，矩形插头11与基座1上表面的矩形插槽6大小相对应；将矩形插头11插入矩形插槽6使得圆柱形插杆2固定在基座1上，圆柱形插杆2Φ l(Tl6mm、高150?165mm,侧面中心位置高90?110mm处设置有Φ 3?6mm圆形插槽III 8,将娃片限位杆I 3插入圆形插槽III 8，每根圆柱形插杆2上的圆形插槽III 8的预留数量不少于3个，为硅片限位杆I 3预留下插口空间，便于改变处理硅片12的尺寸规格时对插片盒的限位端位置调整改变；基座1内侧面中心位置高3?4mm处设置的C>3?6mm圆形插槽I 10为娃片限位杆II 4的插口，硅片限位杆I 3对侧以及硅片限位杆II 4上侧开设有卡槽9，卡槽9为等间隔排列小圆锥弧形卡槽92，对应的小圆锥体顶点在两根硅片限位杆I 3、以及硅片限位杆II 4，位于同一平面，偏离竖直方向90°平面角度< ±3°。
[0032]将待处理硅片12逐一垂直插入插片盒，以硅片限位杆I 3和硅片限位杆II 4在同一平面的3点小圆锥体间隔处固定同一硅片。
[0033]戴好防护用品，手持提拉杆上部将2(Γ25片/盒的硅片与插片盒一起浸入已配制好的酸碱化学溶液槽中，进行湿法处理生产或实验。
[0034]湿法处理结束，使用去离子水清洗、气枪吹干或甩干机甩干、逐片取走硅片。
[0035]槽式湿法工艺结束，依次拆下圆柱形插杆2、硅片限位杆I 3、硅片限位杆II 4、手提式拉杆5部件，再用去离子水清洗插片盒所有零部件，擦干后妥善放置。
[0036]实施例3:如图1至3、图6所示，本实用新型将两基座1开设有矩形插槽6和圆形插槽II 7的一面向上对称放置，基座1是一个长20(T220mm、宽22mm、高15?22mm的磨边长方体，圆形插槽II 7开设在基座1上表面距左右边10?15mm处,大小为Φ5?8πιπι,深度为3飞mm,将手提式提拉杆5插入圆形插槽II 7内固定在基座1上，手提式提拉杆5上的圆柱形立柱高度不小于180mm、Φ5?8πιπι，手提式提拉杆5用于移动插片盒整体和硅片12，矩形插槽6开设在距基座1左右边22?32mm处、37.5^47.5mm处各开有长l(Tl4mm、宽4?7mm、深12?17mm的矩形插槽6,矩形插槽6用于固定圆柱形插杆2,每根圆柱形插杆2相对应的矩形插槽6预留的数量不少于2个，可根据硅片12规格形状在适当位置增添多对矩形插槽6，圆柱形插杆2底部加工成矩形插头11，矩形插头11与基座1上表面的矩形插槽6大小相对应；将矩形插头11插入矩形插槽6使得圆柱形插杆2固定在基座1上，圆柱形插杆2Φ l(Tl6mm、高150?165mm,侧面中心位置高90?110mm处设置有Φ 3?6mm圆形插槽III 8,将娃片限位杆I 3插入圆形插槽III 8，每根圆柱形插杆2上的圆形插槽III 8的预留数量不少于2个，为硅片限位杆I 3预留下插口空间，便于改变处理硅片12的尺寸规格时对插片盒的限位端位置调整改变；基座1内侧面中心位置高3?4mm处设置的C>3?6mm圆形插槽I 10为娃片限位杆II 4的插口，硅片限位杆I 3对侧以及硅片限位杆II 4上侧开设有卡槽9，卡槽9为钝角曲折线弧形卡槽93，对应的钝角顶角点在两根硅片限位杆I 3、以及硅片限位杆II 4，位于同一平面，偏离竖直方向90°平面角度< ±3°。
[0037]将待处理硅片12逐一垂直插入插片盒，以硅片限位杆I 3和硅片限位杆II 4在同一平面的3点曲折线凹角处固定同一硅片。
[0038]戴好防护用品，手持提拉杆上部将2(Γ25片/盒的硅片与插片盒一起浸入已配制好的酸碱化学溶液槽中，进行湿法处理生产或实验。
[0039]湿法处理结束，使用去离子水清洗、气枪吹干或甩干机甩干、逐片取走硅片。
[0040]槽式湿法工艺结束，依次拆下圆柱形插杆2、硅片限位杆I 3、硅片限位杆II 4、手提式拉杆5部件，再用去离子水清洗插片盒所有零部件，擦干后妥善放置。
[0041]如上所述，可较好的实现本实用新型。
【权利要求】
1.一种槽式湿法设备用插片盒，包括基座(I )、圆柱形插杆(2)，基座(I)上表面开设有矩形插槽(6 )，圆柱形插杆(2 )下端设置有矩形插头(11)，圆柱形插杆(2 )通过将矩形插头(11)插入矩形插槽(6 )固定在基座(I)上，其特征在于，基座(I)内侧中部还开设有圆形插槽I (10)，硅片限位杆II (4)通过插入圆形插槽I (10)固定在两基座之间，圆柱形插杆(2)内侧开设有圆形插槽III(8),娃片限位杆I (3)通过插入圆形插槽III(8)固定在圆柱形插杆(2)上，硅片限位杆I (3)以及硅片限位杆II (4)内侧开设有排布均匀的具有圆弧面的卡槽(9)，卡槽(9)与硅片(12)棱边通过圆弧面接触。
2.根据权利要求1所述的一种槽式湿法设备用插片盒，其特征在于，每根圆柱形插杆(2)对应的矩形插槽(6)至少2个，每根圆柱形插杆(2)开设有至少2个圆形插槽111(8)。
3.根据权利要求1所述的一种槽式湿法设备用插片盒，其特征在于，所述卡槽(9)为以下三种结构中任一种:圆柱侧部等间隔开球状槽(91)，球与球之间的间距构成圆弧状的卡槽(9);圆柱侧壁等间隔排列小圆锥体(92)，小圆锥体之间的间距构成圆弧状的卡槽(9);圆柱形横截面的相同钝角曲折线(93)，钝角构成圆弧状的卡槽(9)。
4.根据权利要求3所述的一种槽式湿法设备用插片盒，其特征在于，所述卡槽(9)对应的3点球状开槽或小圆锥体间隔或曲折线凹角处在同一平面。
5.根据权利要求1所述的一种槽式湿法设备用插片盒，其特征在于，所述基座(I)上表面还开设有圆形插槽II (7)，圆形插槽II (7)开设在矩形插槽(6)外侧，手提式拉杆(5)通过插入圆形插槽II (7)固定在基座(I)上。
6.根据权利要求5所述的一种槽式湿法设备用插片盒，其特征在于，所述手提式拉杆(5)包括两根圆柱形立柱、一根圆柱形横杆，两根圆柱形立柱通过横杆连接。
7.根据权利要求1至6任一所述的一种槽式湿法设备用插片盒，其特征在于，所述基座(I)、圆柱形插杆(2)、硅片限位杆I (3)、硅片限位杆II (4)、手提式拉杆(5)均采用聚四氟乙烯制成。
【文档编号】H01L31/18GK204088352SQ201420571305
【公开日】2015年1月7日 申请日期:2014年9月30日 优先权日:2014年9月30日
【发明者】王岚, 龙巍, 林洪峰 申请人:天威新能源控股有限公司