技术总结
本公开内容涉及一种用于利用分子自组装(MSA)化学品旋涂基底以在基底上形成光致抗蚀剂膜和/或低介电常数(低k)膜的处理系统。旋涂处理系统可以包括能够将MSA化学品接收和旋涂在基底上的旋涂室，以及以在旋涂工艺之后对基底进行热处理的退火室。在某些实施方案中，旋涂处理系统还可以在旋涂工艺之前对基底进行预处理或预润湿。
技术研发人员：艾恩华·罗莫·内格雷拉;凯瑟琳·那夫斯;桑原雄平;松永浩一
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
文档号码：201480073914
技术研发日：2014.12.15
技术公布日：2017.02.15