1.一种制备太阳能电池金属栅线中锡层的保护方法，其特征在于；包括：在n型硅衬底一面沉积本征非晶硅层及n型非晶硅层，另一面沉积本征非晶硅层及p型非晶硅层，并在n型非晶硅层和p型非晶硅层上沉积透明导电氧化物层，在所述透明导电氧化物层上沉积阻挡层；在所述阻挡层上沉积种子层；在种子层上覆光阻材料层，将光阻材料层经过曝光显影后形成金属栅线图案并暴露出种子层；所述锡层的保护方法还包括步骤：在暴露出的种子层表面制作导电栅线叠层和助焊层，然后在助焊层上制作一层保护层，最后将光阻材料层去除，再用化学腐蚀液去除其覆盖位置的种子层、阻挡层以及保护层暴露出电池表面和助焊层。
2.根据权利要求1所述一种制备太阳能电池金属栅线中锡层的保护方法，其特征在于：所述导电氧化物层采用ITO层或掺杂的氧化铟层。
3.根据权利要求1所述一种制备太阳能电池金属栅线中锡层的保护方法，其特征在于：所述阻挡层为Ti金属层或Ta金属层。
4.根据权利要求3所述一种制备太阳能电池金属栅线中锡层的保护方法，其特征在于：所述Ti金属层为TiNx金属层或TiW金属层，所述Ta金属层为TaNx金属层，其厚度在1-50nm之间。
5.根据权利要求1所述一种制备太阳能电池金属栅线中锡层的保护方法，其特征在于：所述种子层为铜种子层、镍种子层、银种子层、铝种子层中任意一种。
6.根据权利要求1所述一种制备太阳能电池金属栅线中锡层的保护方法，其特征在于：所述导电栅线叠层为电镀铜叠层，其厚度在5-40um之间。
7.根据权利要求1所述一种制备太阳能电池金属栅线中锡层的保护方法， 其特征在于：所述助焊层为电镀锡叠层，其厚度在1-20um之间。
8.根据权利要求1所述一种制备太阳能电池金属栅线中锡层的保护方法，其特征在于：所述保护层为电镀铜或电镀铜合金叠层，其厚度与阻挡层和种子层的总厚度相同，在1-1000nm之间。