技术总结
本发明描述了一种用于真空处理系统(500)的负载锁定腔室(100)。负载锁定腔室包括负载锁定壁，负载锁定壁包围负载锁定腔室空间，其中负载锁定壁包括第一负载锁定壁(101)和第二负载锁定壁(102)，其中第二负载锁定壁(102)与第一负载锁定壁(101)相对地布置。负载锁定腔室还包括用于抽空负载锁定腔室(100)的至少一个第一真空抽吸出口(110)和至少一个第二真空抽吸出口(111)；其中至少一个第一真空抽吸出口(110)是位于第一负载锁定壁(101)处，并且至少一个第二真空抽吸出口(111)是位于第二负载锁定壁(102)处。另外，还描述了一种真空处理系统和一种用于抽空负载锁定腔室的方法。
技术研发人员：托马斯·格比利;沃尔夫冈·莱恩;拉尔夫·林登贝格
受保护的技术使用者：应用材料公司
文档号码：201580078936
技术研发日：2015.05.15
技术公布日：2018.01.09