一种低损伤埋结式碲镉汞探测器芯片的制作方法

文档序号:14686099发布日期:2018-06-14 23:12阅读:来源:国知局
技术特征:

1.一种低损伤埋结式碲镉汞探测器芯片,包括:红外衬底(1),碲镉汞p型外延薄膜(2),离子注入n型区(3),钝化层(4),n型区上电极(5),p型区上电极(6),铟柱阵列(7);其特征在于:利用离子注入方法形成的离子注入n型区(3)制备在碲镉汞p型外延薄膜(2)上深度为0.5~3.0μm的腐蚀坑内部;离子注入窗口与腐蚀坑大小相等。

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