QLED器件及其制备方法与流程

文档序号:11136782阅读:来源:国知局
技术总结
本发明提供了一种QLED器件及其制备方法。所述QLED器件为倒置QLED器件,包括依次设置的衬底、ITO、量子点发光层、空穴传输层、PEDOT:PSS层和顶电极,且所述PEDOT:PSS层通过界面修饰材料沉积在所述空穴传输层上,所述界面修饰材料为有机醇。本发明提供的QLED器件,能够提高所述空穴传输层与所述PEDOT:PSS层的界面相容性,更好地提高空穴注入传输效率,从而提高了导致QLED器件的性能。

技术研发人员:刘佳
受保护的技术使用者:TCL集团股份有限公司
文档号码:201610870993
技术研发日:2016.09.29
技术公布日:2017.02.15

当前第3页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1