柔性显示装置的制作方法

技术领域

一个或更多个实施例涉及一种柔性显示装置。

背景技术：

作为自发光显示装置的有机发光显示装置由于它们的宽视角、优异的对比度和快响应速度的优点而作为下一代显示装置已备受广泛关注。

有机发光显示装置被制造为轻质且纤薄，以便可携带且可用于室外。当在室外观察图像时，由于诸如以阳光为例的强外部光而会使由平板显示装置呈现的对比度和可视性劣化。另外，当在室内使用平板显示装置时，由于包括例如室内荧光灯的各种外部光而会使可视性劣化。

为了防止由于外部光而导致可视性的劣化，已经使用了附着在有机发光显示装置的整个表面上的圆形偏振膜。这是为了防止入射到有机发光显示装置上的外部光的反射，使得降低了反射的外部光的亮度，从而防止由于外部光而导致可视性的劣化。

然而，由于圆形偏振膜通过结合多层膜来制造，因此圆形偏振膜的制造工艺复杂，并且圆形偏振膜的制造成本高。另外，由于圆形偏振膜较厚，因此难以制造薄的显示装置。

技术实现要素：

一个或更多个实施例包括一种柔性显示装置。

另外的方面将在随后的描述中进行部分地阐述，并且部分地通过描述将是明显的，或者可以通过给出的实施例的实践而获知。

根据一个或更多个实施例，柔性显示装置包括：柔性基底；显示器，设置在柔性基底上方；薄膜包封层，设置在显示器上方并气密地密封显示器；相位延迟层，设置在薄膜包封层上方；偏振膜，设置在相位延迟层上方，其中，相位延迟层包括第一取向膜和液晶层，其中，液晶层包括液晶和反应性液晶，液晶层中未硬化反应性液晶的量为大约100ppm/inch²至大约220ppm/inch²。

反应性液晶可以以大约3wt％至大约30wt％的比率包括在液晶层中。

反应性液晶可以包括向列相液晶，向列相液晶包括丙烯酸酯基团或甲基丙烯酸酯基团的端基。

反应性液晶可以包括单丙烯酸酯型反应性液晶和二丙烯酸酯型反应性液晶，单丙烯酸酯型反应性液晶和二丙烯酸酯型反应性液晶的含量比可以为大约1:1.5至大约1:4。

相位延迟层还可以包括设置在液晶层上的第二取向膜。

显示器可以包括显示区域和位于显示区域外侧的非显示区域，非显示区域可以包括电源布线和坝部，坝部可以通过与电源布线的至少一部分外边缘叠置来接触电源布线的所述至少一部分外边缘。

显示器可以包括薄膜晶体管、电连接到薄膜晶体管的有机发光器件、位于薄膜晶体管与有机发光器件之间的平坦化膜和限定有机发光器件的像素区域的像素限定膜，坝部可以包括与平坦化膜和像素限定膜中的至少一个的材料相同的材料。

薄膜包封层可以包括至少一个无机层和至少一个有机层，所述至少一个有机层可以设置在坝部的内侧。

所述至少一个无机层可以覆盖坝部。

根据一个或更多个实施例，柔性显示装置包括：柔性基底；显示器，设置在柔性基底上方，显示器包括显示区域和位于显示区域外侧的非显示区域；薄膜包封层，设置在显示器上方并气密地密封显示器；偏振层，设置在薄膜包封层上方，其中，偏振层可以包括第一取向膜、第二取向膜和位于第一取向膜与第二取向膜之间的液晶层，液晶层可以包括非反应性液晶和反应性液晶，反应性液晶以大约3wt％至大约30wt％的比率包括在液晶层中。

液晶层中未硬化反应性液晶的量可以为大约100ppm/inch²至大约220ppm/inch²。

反应性液晶可以包括向列相液晶，向列相液晶包括丙烯酸酯基团和甲基丙烯酸酯基团的端基。

反应性液晶可以包括单丙烯酸酯型反应性液晶和二丙烯酸酯型反应性液晶，单丙烯酸酯型反应性液晶和二丙烯酸酯型反应性液晶的含量比为大约1:1.5至大约1:4。

偏振层还可以包括设置在第一取向膜或第二取向膜上的偏振膜。

非显示区域可以包括电源布线和坝部，坝部可以通过与电源布线的至少一部分外边缘叠置来接触电源布线的所述至少一部分外边缘。

显示器可以包括：薄膜晶体管；有机发光器件，电连接到薄膜晶体管；平坦化膜，位于薄膜晶体管与有机发光器件之间；像素限定膜，限定有机发光器件的像素区域，坝部可以包括与平坦化膜和像素限定膜中的至少一个的材料相同的材料。

薄膜包封层可以包括多个无机层和与所述多个无机层交替堆叠的多个有机层，所述多个有机层可以设置在坝部的内侧，所述多个无机层可以覆盖坝部。

所述多个无机层可以在坝部的外侧彼此接触。

附图说明

通过结合附图对以下的实施例的描述，这些和/或其它方面将变得明显且更容易理解，在附图中：

图1是根据实施例的柔性显示装置的示意性平面图；

图2是沿图1的线I-I’截取的示意性剖视图；

图3是示意性地示出图2的柔性显示装置的显示器和薄膜包封层的示例的剖视图；

图4是沿图1的线II-II’截取的示意性剖视图；

图5是示意性地示出图2的柔性显示装置的偏振层的示例的剖视图；

图6是示意性地示出制造图5的偏振层的方法的剖视图；

图7是示意性地示出图1的柔性显示装置的相位差的变化的曲线图。

具体实施方式

由于发明构思允许各种改变和多个实施例，因此示例实施例将示出在附图中并且在书面描述中进行详细地描述。然而，这并不意图将本发明构思限制为实践的具体形式，并且将理解的是，在本发明构思中包含不脱离本发明构思的精神和技术范围的所有变化、等同物和替换物。在本发明构思的描述中，当认为相关领域的特定详细解释会不必要地使发明构思的本质不清楚时，省略相关领域的特定详细解释。

尽管诸如“第一”、“第二”等的术语可以用来描述各种组件，但是这样的组件并不一定局限于上面的术语。上面的术语仅用来将一个组件与另一组件区分开。

本说明书中使用的术语仅用来描述特定实施例，而不意图限制本发明构思。除非单数中使用的表述在上下文中有明确的不同含义，否则单数中使用的表述包含复数的表述。另外，为了便于描述和清楚，可以夸大、省略或示意性地示出附图中示出的每个元件。示出的每个元件的尺寸基本不反映它的实际尺寸。

现在将详细地参照特定实施例，在附图中示出了特定实施例的示例，其中，同样的附图标记通常始终指示同样的元件。就这点而言，给出的实施例可以具有不同的形式，而不应被认为限于这里阐述的描述。因此，实施例通过参照附图仅在下面描述，以解释本描述的各方面。如这里使用的，术语“和/或”包括一个或更多个相关所列项的任意组合和所有组合。诸如“……中的至少一个(种/者)”的表述在一列元件之后时，修饰整列元件，而不是修饰该列的个别元件。

图1是根据实施例的柔性显示装置10的示意性平面图。图2是沿图1的线I-I’截取的示意性剖视图。图3是示意性地示出图2的柔性显示装置10的显示器和薄膜包封层的示例的剖视图。图4是沿图1的线II-II’截取的示意性剖视图。图5是示意性地示出图2的柔性显示装置10的偏振层的示例的剖视图。图6是示意性地示出制造图5的偏振层的方法的剖视图。图7是示意性地示出图1的柔性显示装置10的相位差的变化的曲线图。

首先，参照图1至图5，根据实施例的柔性显示装置10可以包括基底100、位于基底100上的显示器200、用于气密地密封显示器200的薄膜包封层300、位于薄膜包封层300上的偏振层400。另外，还可以在偏振层400上布置覆盖层500。

基底100可以包括具有柔性的塑料材料。例如，基底100可以包括聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚芳酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯(PC)、三醋酸纤维素(TAC)或醋酸丙酸纤维素(CAP)。

当柔性显示装置10是在朝基底100的方向上实现图像的底发射型时，基底100包括透明材料。然而，当柔性显示装置10是在朝薄膜包封层300的方向上实现图像的顶发射型时，基底100不需要包括透明材料，基底100可以包括具有柔性的不透明金属。当基底100包括金属时，基底100可以包括铁、铬、锰、镍、钛、钼、不锈钢(SUS)、因瓦合金(Invar alloy)、因科镍合金(Inconel alloy)和可伐合金(Kovar alloy)中的一种或更多种材料。另外，基底100可以包括金属箔。

显示器200可以设置在基底100上。显示器200可以包括实现被用户识别的图像的显示区域DA和位于显示区域DA外侧的非显示区域。电源布线(power wire)220可以布置在非显示区域中。另外，用于将电信号从电源装置(未示出)或信号产生装置(未示出)传输到显示区域DA的垫部(也称焊盘部，pad portion)150可以布置在非显示区域中。

显示器200可以包括例如薄膜晶体管200a和有机发光器件200b。然而，本公开不限于此，显示器200可以包括各种类型的显示器件。在随后的描述中，参照图3详细地描述显示器200。

缓冲层212可以形成在基底100上。缓冲层212防止杂质向基底100中的侵入并在基底100上提供平坦的表面。缓冲层212可以包括例如以氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化铝、氮化铝、氧化钛或氮化钛为例的无机材料或者以聚酰亚胺、聚酯或亚克力为例的有机材料，并可以包括以上描述的材料的层。

薄膜晶体管200a可以形成在基底100上方。薄膜晶体管200a可以包括有源层221、栅电极222、源电极223和漏电极224。

有源层221可以包括诸如以硅为例的无机半导体或者有机半导体。另外，有源层221具有源区、漏区和位于源区与漏区之间的沟道区。例如，当使用非晶硅形成有源层221时，在基底100的整个表面上方形成非晶硅层并使其结晶以形成多晶硅层。将多晶硅层图案化，然后，使位于有源层221的边缘侧处的源区和漏区掺杂有杂质，从而形成包括源区、漏区和位于源区与漏区之间的沟道区的有源层221。

栅极绝缘膜213形成在有源层221上方。栅极绝缘膜213可以包括诸如SiN_x或SiO₂的无机材料，以使有源层221与栅电极222彼此绝缘。

栅电极222形成在栅极绝缘膜213的上表面上的特定区域中。栅电极222连接到用于向薄膜晶体管200a施加导通/截止信号的栅极线(未示出)。栅电极222可以包括例如Au、Ag、Cu、Ni、Pt、Pd、Al或Mo或者诸如以Al:Nd合金或Mo:W合金为例的合金。然而，本公开不限于此，考虑到设计条件，栅电极222可以包括各种材料。

形成在栅电极222上方的层间绝缘膜214可以包括诸如SiN_x或SiO₂的无机材料，以使栅电极222与源电极223之间以及栅电极222与漏电极224之间绝缘。

源电极223和漏电极224形成在层间绝缘膜214上方。层间绝缘膜214和栅极绝缘膜213暴露有源层221的源区和漏区。源电极223和漏电极224分别接触有源层221的暴露的源区和漏区。

源电极223和漏电极224可以以单层或多层来包括铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、银(Ag)、镁(Mg)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、锂(Li)、钙(Ca)、钼(Mo)、钛(Ti)、钨(W)和铜(Cu)中的一种或更多种。

尽管图3示出顺序地包括有源层221、栅电极222、源电极223和漏电极224的顶栅型的薄膜晶体管200a，但是本公开不限于此。在其它实施例中，栅电极222可以位于有源层221下方。

薄膜晶体管200a电连接到有机发光器件200b，并向有机发光器件200b施加信号以驱动有机发光器件200b。薄膜晶体管200a可以通过覆盖有平坦化膜215而被保护。

平坦化膜215可以是无机绝缘膜和/或有机绝缘膜。无机绝缘膜可以包括例如SiO₂、SiN_x、SiON、Al₂O₃、TiO₂、Ta₂O₅、HfO₂、ZrO₂、BST或PZT，而有机绝缘膜可以包括例如通用的聚合物(PMMA、PS)、具有苯酚类基团的聚合物衍生物、丙烯酸类聚合物、酰亚胺类聚合物、烯丙基醚类聚合物、酰胺类聚合物、氟类聚合物、对二甲苯类聚合物、乙烯醇类聚合物及其混合物。另外，平坦化膜215可以包括无机绝缘膜和有机绝缘膜的复合叠层。

有机发光器件200b可以形成在平坦化膜215上方。有机发光器件200b可以包括像素电极231、中间层232和对电极233。

像素电极231形成在平坦化膜215上，并经由形成在平坦化膜215中的接触孔230电连接到漏电极224。

像素电极231可以是反射电极，并可以包括反射膜和形成在反射膜上的透明或半透明电极层，所述反射膜包括例如Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr和它们的混合物。透明或半透明电极层可以包括例如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)、氧化铟(In₂O₃)、氧化铟镓(IGO)和氧化铝锌(AZO)中的至少一种。

设置为面对像素电极231的对电极233可以是透明或半透明电极，并可以包括具有低逸出功的金属薄膜，所述金属薄膜包括例如Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg以及它们的混合物。另外，可以在金属薄膜上形成辅助电极层或汇流电极，所述辅助电极层或所述汇流电极包括用于形成透明电极的材料(诸如以ITO、IZO、ZnO或In₂O₃为例)。

因此，对电极233可以经由其透射从包括在中间层232中的有机发光层(未示出)发射的光。换言之，从有机发光层发射的光可以直接朝对电极233行进或者通过被作为反射电极的像素电极231反射而朝对电极233行进。

然而，显示器200不限于顶发射型，可以是从有机发光层发射的光朝基底100行进的底发射型。在此情况下，像素电极231可以是透明或半透明电极，对电极233可以是反射电极。另外，显示器200可以是在朝顶表面和底表面的两个方向上发射光的双向发射型。

像素限定膜216在像素电极231上包括绝缘材料。像素限定膜216可以包括诸如聚酰亚胺、聚酰胺、丙烯酸树脂、苯并环丁烯和酚醛树脂的一种或更多种有机绝缘材料，并通过诸如以旋涂为例的方法来形成。像素限定膜216暴露像素电极231的特定区域，包括有机发光层的中间层232位于像素电极231的暴露区域中。

包括在中间层232中的有机发光层可以是低分子有机材料或聚合物有机材料。除了有机发光层之外，中间层232还可以选择性地包括诸如空穴传输层(HTL)、空穴注入层(HIL)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)的功能层。

薄膜包封层300布置在对电极233上方。薄膜包封层300覆盖整个显示器200，并防止外部湿气和氧向显示器200中的侵入。薄膜包封层300可以以比显示器200的面积大的尺寸形成，使得薄膜包封层300的所有边缘可以接触基底100，从而进一步坚固地防止外部空气的侵入。

薄膜包封层300可以包括有机层310和330中的至少一个以及无机层320和340中的至少一个。有机层310和330中的至少一个以及无机层320和340中的至少一个可以彼此交替堆叠。尽管图3示出薄膜包封层300包括两个无机层320和340以及两个有机层310和330，但是本公开不限于此。薄膜包封层300还可以包括交替布置的多个额外的无机层和有机层，无机层和有机层的堆叠的数量不限于图3中所示出的数量。

无机层320和340可以包括氮化硅、氮化铝、氮化锆、氮化钛、氮化铪、氮化钽、氧化硅、氧化铝、氧化钛、氧化锡、氧化铈和氮氧化硅(SiON)中的至少一种。

有机层310和330使由于像素限定膜216导致的台阶平坦化，并可以释放在无机层320中产生的应力。另外，当在无机层320上存在颗粒时，有机层310和330可以覆盖无机层320。

无机层320和340可以形成为比有机层310和330大。因此，如图4中所示，无机层320和340可以在有机层310和330的边缘的外侧彼此接触。因此，可以更有效地防止外部湿气或氧的侵入。

如图4中所示，坝部(dam portion)120可以位于显示区域DA外侧的非显示区域中。另外，非显示区域可以包括诸如电源布线220的各种电路图案和防静电图案。

电源布线220可以包括共电压ELVSS线和驱动电压ELVDD线，并可以包括与源电极223和漏电极224的材料相同的材料。尽管图4示出电源布线220的共电压ELVSS线以及共电压ELVSS线和对电极233经由布线116连接的示例，但是本公开不限于此。在一些实施例中，共电压ELVSS线和对电极233可以彼此直接接触。

当形成薄膜包封层300的有机层310和330时，坝部120阻挡用于形成有机层310和330的有机材料在朝基底100的边缘的方向上的流动，以防止有机层310和330的边缘尾部的形成。坝部120可以形成为围绕显示区域DA。

坝部120可以包括与平坦化膜215和像素限定膜216中的至少一个的材料相同的材料。在示例中，坝部120可以包括第一层121和第二层122，第一层121包括与平坦化膜215的材料相同的材料，第二层122形成在第一层121上并包括与像素限定膜216的材料相同的材料。然而，本公开不限于此，坝部120可以以单层形成。另外，坝部120可以包括两个或更多个层。当坝部120是多层时，坝部120的高度可以随着坝部120位于基底100中的外部位置而增加。

坝部120可以形成为与电源布线220的至少一部分叠置。例如，坝部120可以至少叠置地接触电源布线220的外边缘。与无机材料相比，包括与平坦化膜215和像素限定膜216中的至少一个的材料相同的材料的坝部120可以与金属具有优异的结合力。因此，当坝部120与由金属材料形成的电源布线220接触形成时，坝部120可以具有优异的结合力并可以稳定地形成。尽管图4示出坝部120与电源布线220的外边缘叠置的示例，但是本公开不限于此，坝部120可以仅形成在电源布线220上以覆盖电源布线220。

当形成有机层310和330时，由于坝部120阻挡有机材料在朝基底100的边缘的方向上的流动，因此有机层310和330位于坝部120的内侧。

相反，无机层320和340可以延伸到坝部120的外侧，并且无机层320和340可以在坝部120的外侧彼此接触。另外，无机层320和340中的至少一个可以在坝部120的外侧与层间绝缘膜214接触。因此，可以防止穿过侧表面的外部湿气的侵入，并且可以改善薄膜包封层300的结合力。另外，无机层320和340中的至少一个可以通过穿过层间绝缘膜214的端部而接触基底100的上表面，此外可以接触栅极绝缘膜213和层间绝缘膜214的侧边。因此，可以防止由于无机层320和340的边缘的层压而导致的薄膜包封层300的去除以及薄膜包封层300的包封特性的劣化。

在从显示器200输出的光之中，偏振层400经由其仅透射在与偏振轴相同的方向上振动的光，并吸收或反射在其它方向上振动的光。

在下面的描述中，参照图5和图6描述偏振层400及其制造方法。

偏振层400可以包括相位延迟层410和偏振膜440，相位延迟层410通过将λ/4的相位差提供到彼此垂直的两个偏振光分量来将线偏振光变成圆偏振光或将圆偏振光变成线偏振光，偏振膜440使透过相位延迟层410的光的方向取向，并将所述光划分为彼此垂直的两个偏振分量以经由其仅透射两个偏振分量中的一个偏振分量并吸收或散射另一偏振分量。

相位延迟层410可以包括第一取向膜412、位于第一取向膜412上的液晶层416和位于液晶层416上的第二取向膜414。

可以通过在基体构件450上涂覆用于形成取向膜的复合物，然后对该复合物干燥并硬化来形成第一取向膜412。第一取向膜412可以具有大约0.1μm至大约0.5μm的厚度，但是本公开不限于此。

基体构件450可以包括玻璃或透明塑料膜。塑料膜可以是聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚芳酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯(PC)、三醋酸纤维素(TAC)或醋酸丙酸纤维素(CAP)。

用于形成取向膜的复合物可以是如聚合物或偶联剂溶解在有机溶剂中获得的溶液的形式，并通过旋涂或凹版涂覆(gravure coating)来涂覆在基体构件450上。在涂覆之后，将偏振光照射到涂覆的表面上，因此可以在偏振光的偏振方向上将取向力提供到第一取向膜412。

包括在用于形成取向膜的复合物中的聚合物可以是例如聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸-甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯-马来酰亚胺共聚物、聚乙烯醇、改性的聚乙烯醇、明胶、苯乙烯-乙烯基甲苯共聚物、氯磺化聚乙烯、硝化纤维素、聚氯乙烯、氯化聚烯烃、聚酯、聚酰亚胺、乙酸乙烯酯-氯乙烯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、羧甲基纤维素、聚乙烯、聚丙烯或聚碳酸酯。另外，偶联剂可以是硅烷偶联剂。

液晶层416可以包括液晶和反应性液晶。液晶的示例可以是非反应性的并不具有反应基团的向列相液晶。反应性液晶可以包括例如作为表现向列相液晶相的液晶基元(mesogen)的能够执行自由基聚合的端基。可聚合的端基可以包括丙烯酸酯基团或甲基丙烯酸酯基团。在示例中，反应性液晶可以包括单丙烯酸酯型反应性液晶和二丙烯酸酯型反应性液晶。在该状态下，单丙烯酸酯型反应性液晶与二丙烯酸酯型反应性液晶的含量比可以为大约1:1.5至大约1:4。

可以通过在第一取向膜412上涂覆用于形成包括液晶和反应性液晶的液晶层的复合物，然后对该复合物干燥并硬化来形成液晶层416。用于形成液晶层的复合物是如将除了液晶和反应性液晶之外的诸如聚合引发剂或硬化剂的添加剂溶解在有机溶剂中得到的溶液的形式，并通过旋涂或凹版涂覆来涂覆在第一取向膜412上，然后硬化。

当将紫外线照射到涂覆在第一取向膜412上的用于形成液晶层的复合物上时，反应性液晶被聚合并在与第一取向膜412的取向方向相同的方向上被取向，并且在第一取向膜412的取向方向上形成光轴。另外，包括在用于形成液晶层的复合物中的不具有反应基团的液晶通过与形成光轴的反应性液晶的π-π相互作用而在与反应性液晶的取向方向相同的方向上被取向，液晶层416可以执行λ/4相位膜的功能。如此，由于液晶层416可以通过涂覆工艺来形成并具有大约0.5μm至大约1.5μm的尽可能薄的厚度，因此与将λ/4相位膜附着到相关领域中的偏振元件上的情况相比，可以简化偏振层400的制造，并且可以减小偏振层400的厚度。

反应性液晶可以以大约3wt％至大约30wt％的比率包括在液晶层416中。当反应性液晶的含量小于3wt％时，液晶层416难以被取向有总体上一致的方向性。相反，当反应性液晶的含量大于大约30wt％时，液晶层416中的未硬化反应性液晶的剩余量会增加。当液晶层416中的未硬化反应性液晶的量增加时，液晶层416的硬化程度降低，并且在高温和高湿度环境中，液晶层416的相位差减小，从而产生色彩感的变化。因此，反应性液晶可以以大约3wt％至大约30wt％的比率包括在液晶层416中，从而液晶层416可以稳定地保持一致的方向性。

另外，未硬化反应性液晶可以以大约100ppm/inch²至大约220ppm/inch²的比率包括在液晶层416中。当未硬化反应性液晶的含量大于大约220ppm/inch²时，在高温和高湿度环境中，液晶层416的相位差减小，从而产生色彩感的变化。相反，当未硬化反应性液晶以小于大约100ppm/inch²的比率包括在液晶层416中时，液晶层416的硬化程度提高过高，从而在处理相位延迟层410或偏振层400期间会在液晶层416中产生诸如裂纹的损坏。

下面的表1示出根据液晶层416中剩余的反应性液晶的量而液晶层416的相位差的变化的结果。图7示出根据反应性液晶的量来表示光穿过偏振层400的色彩感在色彩坐标系上的变化的结果。液晶层416可以包括向列相液晶和未硬化液晶。未硬化液晶可以包括比例为1:4的单丙烯酸酯型向列相反应性液晶和二丙烯酸酯型向列相反应性液晶。

在下面的表1中，未硬化液晶的含量表示最初包括在液晶层416中的未硬化液晶的量。剩余的未硬化液晶的量表示在硬化之后液晶层416中剩余的未硬化液晶的量。相位差的变化量表示将偏振层400在大约60℃的高温和大约93％的高湿度的条件下放置24小时时在透射波长为550nm的光期间相位差的变化值。

[表1]

剩余的未硬化液晶的量根据硬化条件是可调节的。如从上面的表1可以看出，随着液晶层416中剩余的未硬化液晶的含量增加，相位差的变化量增加。具体地，当剩余的未硬化液晶的量大于220ppm/inch²时，相位差的变化量大于4nm，从而会识别色彩感的变化。图7的箭头(a)表示剩余的未硬化液晶的量为大约153ppm/inch²的情况，图7的箭头(b)表示剩余的未硬化液晶的量为大约350ppm/inch²的情况。图7的箭头(b)可以表示色彩感朝向红色变化。

因此，在高温和高湿度环境下，为了减小液晶层416的相位差的变化，液晶层416中剩余的未硬化液晶的量保持为等于或小于220ppm/inch²。相反，当未硬化反应性液晶以小于100ppm/inch²的比率包括在液晶层416中时，液晶层416的硬化程度提高过高，从而在处理相位延迟层410或偏振层400期间会在液晶层416中产生诸如裂纹的损坏。因此，液晶层416中剩余的未硬化液晶的量可以在大约100ppm/inch²与大约220ppm/inch²之间。

在对比示例1的情况下，剩余的未硬化液晶的量为大约107ppm/inch²，相位差的变化量为大约2nm，因此，没有识别到色彩感的变化。然而，在对比示例1的情况下，由于最初包含的未硬化液晶的量为大约1wt％，因此液晶层416难以大致取向有一致的方向性。换言之，为了使液晶层416稳定地保持有一致的方向性，反应性液晶可以以大约3wt％至大约30wt％的比率包括在液晶层416中。

返回参照图5和图6，在液晶层416上形成第二取向膜414。在示例中，第二取向膜414可以形成为与第一取向膜412相同。换言之，可以通过在液晶层416上涂覆用于形成取向膜的复合物，然后对该复合物干燥并硬化来形成第二取向膜414。在另一示例中，可以通过在液晶层416上涂覆聚酰亚胺或聚酰胺并烘焙聚酰亚胺或聚酰胺来形成第二取向膜414，然后可以通过使用研磨辊研磨烧结的聚酰亚胺或聚酰胺来形成第二取向膜414的取向方向。

如此，可以通过在液晶层416上形成第二取向膜414来进一步改善液晶层416的取向性能。第二取向膜414可以执行阻挡层的功能，以防止液晶层416中的液晶朝将相位延迟层410和偏振膜440结合的结合层(未示出)的迁移。

偏振膜440和相位延迟层410可以在结合层上彼此结合。丙烯酸类、聚氨酯类、聚异丁烯类、丁苯橡胶(SBR)类、橡胶类、聚乙烯基醚类、环氧类、三聚氰胺类、聚酯类、苯酚类或硅类树脂或者它们的共聚物可以用于结合层。

在将偏振膜440与相位延迟层410彼此结合之后，去除基体构件450，从而制造偏振层400。

尽管图中未示出，但是偏振层400还可以包括λ/2相位延迟层。尽管λ/2相位延迟层可以与相位延迟层410具有相同的结构，但是液晶可以被取向为执行λ/2相位膜的功能。

返回参照图2，覆盖层500位于偏振层400上方并保护柔性显示装置10免受外部冲击并防止使用期间产生的划痕。覆盖层500可以包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚二甲基硅氧烷、聚酰亚胺、丙烯酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯。然而，本公开不限于此，覆盖层500可以包括诸如以金属构件为例的各种材料。在一些实施例中，可以通过使用诸如不锈钢(SUS)的薄金属箔来形成覆盖层500。

如上所述，偏振层可以具有薄的厚度以适用于柔性显示装置，可以在高温和高湿度环境下降低穿过相位延迟层的偏振分量之间的相位差的减小。

应理解的是，这里描述的实施例应被认为仅是描述性的含义，而不是用于限制的目的。每个实施例内的特征或方面的描述通常应被认为可用于其它实施例中的其它相似特征或方面。

尽管已经参照附图描述了一个或更多个实施例，但是本领域中的普通技术人员将理解的是，在不脱离如由权利要求限定的精神和范围的情况下，在这里可以做出形式上和细节上的各种改变。