1.一种引入廉价添加剂制备高质量钙钛矿薄膜的方法，其特征在于，该高质量钙钛矿材料在制备过程中引入铵盐添加剂；所述添加剂可引入到钙钛矿前驱体溶液中或反溶剂中；所述高质量钙钛矿材料结构式为AMX3，其中A为有机阳离子，所述有机阳离子为CH3NH3、NH2-CH＝NH2、CH3CH2NH3、CH3(CH2)2NH3、CH3(CH2)3NH3中的一种或两种的混合物，M为二价金属离子Pb2+或Sn2+中的一种或两种的混合物，X为一价卤素离子Cl-，Br-，I-或SCN-中的一种或多种的混合物。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该方法步骤如下：
步骤1：将基底通过基片清洗工艺洗涤，氮气吹干备用；
步骤2：将经过步骤1处理后的基底经氧等离子体刻蚀处理，10-40min；
步骤3：将一定比例的AX和MX2溶于二甲基亚砜和二甲基甲酰胺的混合溶剂中，得到配钙钛矿前驱体溶液；
步骤4：在经过步骤3处理后的钙钛矿前驱体溶液中加入铵盐添加剂；
步骤5：利用经过步骤4处理后的前驱体溶液一步旋涂到经过步骤2处理后的基底上，旋涂转速为100-5000rpm，涂期间滴加反溶剂，在湿度低于30％条件下进行操作；
步骤6：将经过步骤5处理后钙钛矿材料退火处理，退火温度为80-150℃，在湿度低于30％条件下进行操作。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该方法步骤如下：
步骤1：将基底通过基片清洗工艺洗涤，氮气吹干备用；
步骤2：将经过步骤1处理后的基底经氧等离子体刻蚀处理，10-40min；
步骤3：将一定比例的AX和MX2溶于二甲基亚砜和二甲基甲酰胺的混合溶剂中，得到配钙钛矿前驱体溶液；
步骤4：将铵盐添加剂加入反溶剂中，磁力搅拌至铵盐全部溶解，经过滤塞过滤后放置在在湿度低于30％的环境中；
步骤5：将步骤3得到的前驱体溶液一步旋涂到经过步骤2处理后的基底上，旋涂转速为100-5000rpm，旋涂期间滴加步骤4处理后的反溶剂，在湿度低于30％条件下进行操作；
步骤6：将经过步骤5处理后钙钛矿材料退火处理，退火温度为80-150℃，在湿度低于30％条件下进行操作。
4.根据权利要求1-3任意一项所述方法，其特征在于，所述铵盐浓度为0.1-20％，所述铵盐为NH4I，NH4Cl，NH4Br或NH4F。
5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述反溶剂为甲苯，氯苯，二甲苯，氯仿，丙醇，乙醚或乙二醇。
6.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述的钙钛矿前驱体溶液的质量分数为30％-60％。
7.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述的衬底为FTO玻璃、ITO玻璃、柔性PET基底、玻璃或石墨烯导电基底。
8.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述AX和MX2的质量比为1:1-3。
9.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述AX和MX2；其中A为有机阳离子，所述有机阳离子为CH3NH3、NH2-CH＝NH2、CH3CH2NH3、CH3(CH2)2NH3、CH3(CH2)3NH3中的一种或两种的混合物，M为二价金属离子Pb2+或Sn2+中的一种或两种的混合物，X为一价卤素离子Cl-，Br-，I-或SCN-中的一种或多种的混合物。