技术总结
本发明公开一种提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室,包括金属真空腔室、若干个依次同轴设置、直径不同的石英介质桶,最上端的所述石英介质桶上端密封,最下端的所述石英介质桶和所述金属真空腔室连通,相邻两所述石英介质桶之间相互连通,每个石英介质桶外均缠绕有射频线圈,每个石英介质桶及射频线圈外均设置有屏蔽室,每相邻两石英介质桶之间相互屏蔽隔离,所述每个石英介质桶上均设置有进气口,所述金属真空腔室底部设置出气口。本发明可以提高腔室内中心区域的等离子体密度,从而提高等离子体的径向均匀性。
技术研发人员:高飞;王友年
受保护的技术使用者:大连理工大学
文档号码:201610962640
技术研发日:2016.11.04
技术公布日:2017.01.04