一种基于树脂材料绝缘的高压干式铁芯串联电抗器的制作方法

文档序号:11099221阅读:486来源:国知局
一种基于树脂材料绝缘的高压干式铁芯串联电抗器的制造方法与工艺

本发明属于电抗器技术领域,具体涉及一种基于树脂材料绝缘的高压干式铁芯串联电抗器。



背景技术:

在电力建设迅猛发展的今天,无功补偿在电网中变得越来越重要。无功补偿的主要作用就是提高功率因数,以减少设备容量和功率损耗、稳定电压和提高供电质量,在长距离输电中提高系统输电稳定性和输电能力以及平衡三相负载的有功和无功功率。安装并联电容器进行无功补偿,可限制无功功率在电网中的传输,减小线路的电压损耗,提高配电网的电压质量。而串联电抗器正是与并联电容器组串联组成无功补偿装置,其用途如下:补偿系统无功,从而限制乃至消除不装设串联电抗器时对系统谐波的放大作用;降低电容器组的合闸涌流和涌流频率,保护电容器组。

由于具有近十年生产树脂浇注干式变压器产品的经验和历史,因此近些年来,树脂浇注串联电抗器获得了长足的发展。此种结构电抗器具有机械性能好、阻燃、防爆的优点,而现有的树脂材料绝缘的高压干式铁芯串联电抗器往往存在树脂不能完全浸透绕组的层间、匝间和段间,内部存在空穴,固化后树脂容易开裂等缺陷,从而大大的影响了电抗器耐冲击性能和抗短路能力。



技术实现要素:

本发明的目的在于克服上述现有技术的不足,提供一种基于树脂材料绝缘的高压干式铁芯串联电抗器。

一种基于树脂材料绝缘的高压干式铁芯串联电抗器,包括:在真空环境下浇筑树脂绝缘材料的上铁轭、线圈、铁饼、下铁轭,其特征在于:所述上铁轭与下铁轭形状相同,上铁轭与下铁轭之间设有三列铁饼叠加成的铁芯柱,每两组铁饼之间、铁饼与上铁轭之间、铁饼与下铁轭之间均设有浇筑间隙,三组线圈设置在三组铁芯柱的外侧,所述树脂绝缘材料为环氧树脂、玻璃纤维、甲基四氧苯酐、增韧剂、二甲胺基甲基按1:0.25:0.8:0.08:0.01~0.03的质量比例混合后制成。

优选地,所述增韧剂为活性端基橡胶、聚醚、聚酯或单官能度环氧活性稀释剂。

优选地,所述线圈在浇筑前采用玻璃纤维包绕增强。

优选地,所述浇筑步骤为:

1)固定上铁轭、线圈、铁饼、下铁轭;

2)按质量比例为1:0.25:0.8:0.08:0.01~0.03对环氧树脂、玻璃纤维、甲基四氧苯酐、增韧剂、二甲胺基甲基进行称重、备料,并置入恒温箱55℃环境下恒温15min;

3)甲基四氧苯酐、增韧剂、二甲胺基甲基倒入搅拌罐中搅拌30-40分钟后,向搅拌罐倒入环氧树脂,并搅拌均匀;

4)在真空环境下对固定的上铁轭、线圈、铁饼、下铁轭进行浇筑;

5)浇筑完成后,置于75℃保温箱中预固化2h,再升温至140℃固化1h;

6)以降温速率为1.3℃/min进行冷却,直至冷却至室温。

与现有技术相比,本发明的有益效果:

本发明中通过绝缘树脂浇筑方式将上铁轭、线圈、铁饼、下铁轭浇筑在一起,同时在绝缘树脂中添加玻璃纤维和增韧剂,从而大大的增强了浇筑后绝缘树脂的强度和韧性,避免绝缘浇筑层开裂,能够有效提高电抗器耐冲击性能、抗短路能力和绝缘性能。

附图说明

图1为本发明一种基于树脂材料绝缘的高压干式铁芯串联电抗器的结构示意图。

图中,1、上铁轭,2、线圈,3、铁饼,4、下铁轭。

具体实施方式

参见图1,一种基于树脂材料绝缘的高压干式铁芯串联电抗器,包括:在真空环境下浇筑树脂绝缘材料的上铁轭1、线圈2、铁饼3、下铁轭4,其特征在于:所述上铁轭1与下铁轭4形状相同,上铁轭1与下铁轭4之间设有三列铁饼3叠加成的铁芯柱,每两组铁饼3之间、铁饼3与上铁轭1之间、铁饼3与下铁轭4之间均设有浇筑间隙,三组线圈2设置在三组铁芯柱的外侧,所述树脂绝缘材料为环氧树脂、玻璃纤维、甲基四氧苯酐、增韧剂、二甲胺基甲基按1:0.25:0.8:0.08:0.01~0.03的质量比例混合后制成。

所述增韧剂为活性端基橡胶、聚醚、聚酯或单官能度环氧活性稀释剂。

所述线圈2在浇筑前采用玻璃纤维包绕增强。

所述浇筑步骤为:

1)固定上铁轭1、线圈2、铁饼3、下铁轭4;

2)按质量比例为1:0.25:0.8:0.08:0.01~0.03对环氧树脂、玻璃纤维、甲基四氧苯酐、增韧剂、二甲胺基甲基进行称重、备料,并置入恒温箱55℃环境下恒温15min;

3)甲基四氧苯酐、增韧剂、二甲胺基甲基倒入搅拌罐中搅拌30-40分钟后,向搅拌罐倒入环氧树脂,并搅拌均匀;

4)在真空环境下对固定的上铁轭1、线圈2、铁饼3、下铁轭4进行浇筑;

5)浇筑完成后,置于75℃保温箱中预固化2h,再升温至140℃固化1h;

6)以降温速率为1.3℃/min进行冷却,直至冷却至室温。

本发明技术方案在上面结合附图对发明进行了示例性描述,显然本发明具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性改进,或未经改进将发明的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本发明的保护范围之内。

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