一种双面ito导电膜的制作方法
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及导电膜领域领域，特别涉及一种双面ΙΤ0导电膜。
【背景技术】
[0002] 触摸式屏幕在手机和平板电脑等有着越来越多的应用，触摸屏作为一种新型的输 出设备已十分流行和普遍，因此作为触摸屏必不可少的透明导电膜需求量也越来也大。ΙΤ0 导电膜玻璃，即氧化铟锡(Indium-Tin Oxide)透明导电膜玻璃，多通过ΙΤ0导电膜玻璃生产 线，在高度净化的厂房环境中，利用平面磁控技术，在超薄玻璃上溅射氧化铟锡导电薄膜镀 层并经高温退火处理得到的高技术产品。产品广泛地用于液晶显示器(LCD)、太阳能电池、 微电子ΙΤ0导电膜玻璃、光电子和各种光学领域。在应用的过程中，导电膜的透光率、颜色b* 值和铅笔硬度等各项综合性能都较好的双面ΙΤ0导电膜。 【实用新型内容】
[0003] 综上所述，本实用新型有必要提供一种双面ΙΤ0导电膜。
[0004] -种双面ΙΤ0导电膜，包括基材，在所述基材的两面依次设置有折射率调整层，光 学调整层和ΙΤ0导电层;所述折射率调整层的厚度为0.5-2.5μπι;所述光学调整层的厚度为 10_40nm;所述ΙΤ0导电层的厚度为15_30nm。
[0005] 进一步地，所述基材选择PET基材、C0C基材、COP基材。
[0006] 进一步地，所述折射率调整层的折射率介于1.55-1.75之间，优选为1.6-1.7之间。
[0007] 进一步地，所述光学调整层的的折射率介于1.35-1.55之间，优选为1.4-1.5之间。
[0008] 进一步地，所述光学调整层的材质为二氧化硅。
[0009] 进一步地，所述折射率调整层的厚度优选为1.0-1.5μπι，所述光学调整层的厚度优 选为20-30nm，所述ΙΤ0导电层的厚度优选为20-25nm。
[0010] 进一步地，所述折射率调整层的厚度为Ι.Ομπι，所述光学调整层的厚度为20nm，所 述ΙΤ0导电层的厚度为23nm〇
[0011] 优选地，所述折射率调整层通过湿式涂布的方法制备，所述光学调整层和ΙΤ0导电 层通过干式镀膜的方法制备。
[0012] 相较现有技术，本实用新型制得的双面ΙΤ0导电膜透光率好，颜色b*值适中，铅笔 硬度较高，外观也好较好，且表面电阻小，且厚度较小，热稳定性较好。
【附图说明】
[0013] 图1为实施例的结构示意图。
【具体实施方式】
[0014] 下面结合一些【具体实施方式】对本实用新型做进一步描述。具体实施例为进一步详 细说明本实用新型，非限定本实用新型的保护范围。
[0015] 对本实用新型所用的材料的说明：
[0016] PET:聚对苯二甲酸乙二醇酯 [0017]实施例的原料来自市售。
[0018]测试方法
[0019]热稳定性测量方法为在150°C的空气中，加热60分钟后，计算ΙΤ0导电膜方块电阻 值与原方块电阻的比值。
[0020] 透光率用透射雾影仪测量。
[0021] 表面电阻量测方式：使用表面电阻量测仪搭配四点探针（Mitsubishi制造 MCP-7370)，量测薄膜表面之电阻。
[0022]铅笔硬度:用铅笔硬度测试仪测试。
[0023]颜色b*值:使用分光色差仪量测产品的Lab值，其中b*值越大代表颜色越篇黄。 [0024]外观评判:将膜已悬吊方式调挂于治具上，以三波段灯源观察膜面，检测是否有MD 向或部规则变形。
[0025] 有无 ΙΤ0时颜色差异：将部分ΙΤ0以类王水蚀刻掉留下Si02层，并于ΙΤ0表面贴附 0CA胶后，以三波段光源观察有无 ΙΤ0之区域，无颜色差异或轻微颜色差异时时则判定为0K。
[0026] 实施例1
[0027] 如图1所示，一种双面ΙΤ0导电膜，包括基材1，在所述基材的两面依次设置有折射 率调整层2,光学调整层3和ΙΤ0导电层4;
[0028]基材的材质为PET;
[0029] 折射率调整层的折射率为1.65，折射率调整层的厚度为0.5μπι;
[0030] 光学调整层的材质为二氧化硅材质，光学调整层的厚度为20nm;
[0031] 所述ΙΤ0导电层的厚度为20nm〇
[0032] 实施例2
[0033] 如图1所示，一种双面ΙΤ0导电膜，包括基材1，在所述基材的两面依次设置有折射 率调整层2,光学调整层3和ΙΤ0导电层4;
[0034]基材的材质为PET;
[0035] 折射率调整层的折射率为1.65，折射率调整层的厚度为2.5μπι;
[0036] 光学调整层的材质为二氧化硅材质，光学调整层的厚度为20nm;
[0037] 所述ΙΤ0导电层的厚度为20nm〇
[0038] 实施例3
[0039] 如图1所示，一种双面ΙΤ0导电膜，包括基材1，在所述基材的两面依次设置有折射 率调整层2,光学调整层3和ΙΤ0导电层4;
[0040] 基材的材质为PET;
[0041 ]折射率调整层的折射率为1.65，折射率调整层的厚度为Ιμπι;
[0042] 光学调整层的材质为二氧化硅材质，光学调整层的厚度为25nm;
[0043] 所述ΙΤ0导电层的厚度为25nm〇
[0044] 实施例4
[0045] 如图1所示，一种双面ΙΤ0导电膜，包括基材1，在所述基材的两面依次设置有折射 率调整层2,光学调整层3和ΙΤ0导电层4;
[0046] 基材的材质为PET;
[0047] 折射率调整层的折射率为1.7,折射率调整层的厚度为1.5μπι;
[0048] 光学调整层的材质为二氧化硅材质，光学调整层的厚度为40nm;
[0049] 所述ΙΤ0导电层的厚度为30nm〇
[0050] 实施例1至实施例4中的折射率调整层通过湿式涂布的方法制备，光学调整层和 ΙΤ0导电层通过干式镀膜的方法制备。
[0051] 表 1
[0052] _
[0053] 以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是 利用本实用新型说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相 关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
【主权项】
1. 一种双面ITO导电膜，其特征在于： 包括基材，在所述基材的两面依次设置有折射率调整层，光学调整层和ΙΤ0导电层； 所述折射率调整层的厚度为0.5-2.5μπι; 所述光学调整层的厚度为l〇-40nm; 所述ITO导电层的厚度为15-30nm。2. 如权利要求1所述的双面ITO导电膜，其特征在于： 所述基材选择PET基材、C0C基材或COP基材。3. 如权利要求2所述的双面IT0导电膜，其特征在于： 所述折射率调整层的折射率介于1.55-1.75之间，优选为1.6-1.7之间。4. 如权利要求3所述的双面IT0导电膜，其特征在于： 所述光学调整层的折射率介于1.35-1.55之间，优选为1.4-1.5之间。5. 如权利要求3所述的双面IT0导电膜，其特征在于： 所述光学调整层的材质为二氧化硅。6. 如权利要求2所述的双面IT0导电膜，其特征在于： 所述折射率调整层的厚度优选为1.〇-1.5以111，所述光学调整层的厚度优选为2〇-3〇11111， 所述IT0导电层的厚度优选为20-25nm〇7. 如权利要求2所述的双面ITO导电膜，其特征在于： 所述折射率调整层的厚度为Ι.Ομπι，所述光学调整层的厚度为20nm，所述IT0导电层的 厚度为23nm〇
【专利摘要】本实用新型提供一种双面ITO导电膜，包括基材，在所述基材的两面依次设置有折射率调整层，光学调整层和ITO导电层；所述折射率调整层的厚度为0.5-2.5μm；所述光学调整层的厚度为10-40nm；所述ITO导电层的厚度为15-30nm，所述ITO导电膜，其透光率好，颜色b*值适中，铅笔硬度较高，外观也好较好，且表面电阻小，且厚度较小，热稳定性较好。
【IPC分类】H01B5/14, G06F3/041
【公开号】CN205384882
【申请号】CN201620046793
【发明人】胡文玮
【申请人】汕头万顺包装材料股份有限公司, 汕头万顺包装材料股份有限公司光电薄膜分公司
【公开日】2016年7月13日
【申请日】2016年1月16日