一种真空吸碎膜装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开一种真空吸碎膜装置，用于吸取陶瓷元件叠层工序产生的碎膜，真空吸碎膜装置包括依次连接的真空泵、碎膜收集管道、抽风管道及吸附真空腔体，所述吸附真空腔体通过若干连杆连接于搬送装置的固定点，所述搬送装置侧边设置有一设备平刀，所述吸附真空腔体设置于设备平刀侧边。本实用新型通过设计真空腔体，安装在设备平刀附近，实时地对设备平刀切膜过程中产生的碎膜及碎丝进行清理，避免了对产品质量的影响，从而提高产品质量水平。
【专利说明】
一种真空吸碎膜装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及贴片元器件领域，尤其涉及一种真空吸碎膜装置。
【背景技术】
[0002]MLCCCMult1-1ayer Ceramic Chip Capacitors，片式多层陶瓷电容器)制造过程中，厚度为1.0-1.6um的陶瓷膜片在叠层时，需要将印有金属电极的陶瓷膜片从有机硅PET载体上剥离下来，平刀在切断陶瓷膜片过程中易产生细小的碎膜及碎丝，这些碎膜及碎丝被吸附在印有金属电极的陶瓷膜片上，进而夹入产品内部，造成产品质量下降或者失效。目前暂无有效的装置能够实时地对这些碎膜及碎丝进行清理。
[0003]因此，现有技术还有待于改进和发展。
【实用新型内容】
[0004]鉴于上述现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种真空吸碎膜装置，旨在解决陶瓷膜片在叠层时产生的碎膜及碎丝造成产品质量下降或者失效的问题。
[0005]本实用新型的技术方案如下:
[0006]—种真空吸碎膜装置，用于吸取陶瓷元件叠层工序产生的碎膜，其中，包括依次连接的真空栗、碎膜收集管道、抽风管道及吸附真空腔体，所述吸附真空腔体通过若干连杆连接于搬送装置的固定点，所述搬送装置侧边设置有一设备平刀，所述吸附真空腔体设置于设备平刀侧边。
[0007]所述的真空吸碎膜装置，其中，所述吸附真空腔体背面设置有若干抽气口，并均与抽风管道连接。
[0008]所述的真空吸碎膜装置，其中，所述抽气口设置有4个。
[0009]所述的真空吸碎膜装置，其中，所述连杆设置有2个。
[0010]所述的真空吸碎膜装置，其中，所述真空栗与所述碎膜收集管道可拆卸连接。
[0011]所述的真空吸碎膜装置，其中，所述碎膜收集管道中部设置有清料口以及安装在所述清料口上的密封盖。
[0012]有益效果:本实用新型通过设计真空腔体，安装在设备平刀附近，实时地对设备平刀切膜过程中产生的碎膜及碎丝进行清理，避免了对产品质量的影响，从而提高产品质量水平。
【附图说明】
[0013]图1为本实用新型一种真空吸碎膜装置较佳实施例的结构示意图。
[0014]图2为本实用新型一种真空吸碎膜装置工作前的结构示意图。
[0015]图3为本实用新型一种真空吸碎膜装置工作时的结构示意图。
【具体实施方式】
[0016]本实用新型提供一种真空吸碎膜装置，为使本实用新型的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下对本实用新型进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
[0017]请参阅图1，图1为本实用新型一种真空吸碎膜装置(用于吸取陶瓷元件叠层工序产生的碎膜)较佳实施例的结构示意图，如图所示，其包括依次连接的真空栗1、碎膜收集管道2、抽风管道3及吸附真空腔体7，所述吸附真空腔体7通过若干连杆11连接于搬送装置5的固定点4，所述搬送装置5侧边设置有一设备平刀6，所述吸附真空腔体7设置于设备平刀6侧边。
[0018]本实用新型的吸附真空腔体7靠近所述设备平刀6设置，这样当设备平刀6在切断陶瓷膜片过程中产生的碎膜及碎丝，将会被吸附真空腔体7所吸附，进而最大化的提高吸附效率，同时也提高设备安全性。叠层过程中产生的碎膜/丝有效被吸到碎膜收集管道2中，产品夹膜不良率大大降低。
[0019]进一步，所述固定点4设置有两个，这样所述连杆11设置有两个，所述真空吸附腔体7通过这两个连杆11连接在对应的固定点4并保持固定，该固定点4靠近所述设备平刀6。
[0020]所述吸附真空腔体7背面设置有若干抽气口，并均与抽风管道3连接，通过设置多个抽气口，从而保证真空吸力的均匀性，以保证多个位置的碎膜及碎丝均能被吸附，提高吸碎膜均匀性。例如，如图1所示，可设置4个抽气口，并且等距设置，从而确保每个位置的碎膜都能被充分吸取。
[0021]所述真空栗I与所述碎膜收集管道2可拆卸连接。这样做的好处是，当碎膜收集管道2中填充满了碎膜和碎丝之后，可拆开碎膜收集管道2，清理其中的碎膜和碎丝，便于后续碎膜吸取工作顺利进行，而不会发生堵塞。
[0022]上述方式虽然能够清理碎膜，但是使用起来较不方便，所以在碎膜收集管道2中部设置有清料口以及安装在所述清料口上的密封盖。这样就不用拆开碎膜收集管道2，只需要打开密封盖，然后从清理口清理碎膜即可。该清理口也可设置多个，但不宜设置过多，以便降低密封效果，例如设置2个或3个，当然每个清理口均需要安装密封盖，密封盖与清理口之间还可设置密封垫，以确保密封效果，所述清理口以及密封盖可设置为圆形。
[0023]工作时，设备平刀6将印刷有金属电极8的陶瓷膜片9从有机硅PET膜10上剥离，再通过搬送装置5堆叠在一起。而当设备平刀6切断印刷有金属电极8的陶瓷膜片9时，产生碎膜和碎丝(如图2所示，标记为12)，现有技术中因设备连续运转，且不易发现，这些碎膜和碎丝极易夹入产品中，造成产品质量下降。现使用了本实用新型的真空吸碎膜装置，通过真空吸力将产生的碎膜和碎丝吸入吸附真空腔体7(如图3所示)中，碎膜及碎丝吸入抽风管道3后，集中到碎膜收集管道2中，定期对碎膜收集管道2进行清理，以保证本装置顺畅地运行。
[0024]综上所述，本实用新型通过设计真空腔体，安装在设备平刀附近，实时地对设备平刀切膜过程中产生的碎膜及碎丝进行清理，避免了对产品质量的影响，从而提高产品质量水平。同时本实用新型中，真空栗为设备自带(真空度不足的话，可外接大功率真空栗)，资源充分利用，相当于降低了能耗，尤其对超薄厚度的陶瓷膜片(1.0-1.6um)的叠层有重要意义。
[0025]应当理解的是，本实用新型的应用不限于上述的举例，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，所有这些改进和变换都应属于本实用新型所附权利要求的保护范围。
【主权项】
1.一种真空吸碎膜装置，用于吸取陶瓷元件叠层工序产生的碎膜，其特征在于，包括依次连接的真空栗、碎膜收集管道、抽风管道及吸附真空腔体，所述吸附真空腔体通过若干连杆连接于搬送装置的固定点，所述搬送装置侧边设置有一设备平刀，所述吸附真空腔体设置于设备平刀侧边。2.根据权利要求1所述的真空吸碎膜装置，其特征在于，所述吸附真空腔体背面设置有若干抽气口，并均与抽风管道连接。3.根据权利要求2所述的真空吸碎膜装置，其特征在于，所述抽气口设置有4个。4.根据权利要求1所述的真空吸碎膜装置，其特征在于，所述连杆设置有2个。5.根据权利要求1所述的真空吸碎膜装置，其特征在于，所述真空栗与所述碎膜收集管道可拆卸连接。6.根据权利要求1所述的真空吸碎膜装置，其特征在于，所述碎膜收集管道中部设置有清料口以及安装在所述清料口上的密封盖。
【文档编号】H01G13/00GK205723175SQ201620628449
【公开日】2016年11月23日
【申请日】2016年6月23日
【发明人】苏海龙, 初殿生, 敖宏, 邓国平, 肖剑波
【申请人】深圳市宇阳科技发展有限公司