技术特征：
技术总结
提供一种基板处理装置。本发明的目的是抑制自由基的失活、实现蚀刻的均匀性。本发明提供一种基板处理装置，其通过高频的能量从气体生成等离子体，通过所生成的等离子体中的自由基在处理容器的内部对基板进行蚀刻处理，所述基板处理装置具有：高频电源，其向所述处理容器的内部供给高频的能量；气体供给源，其向所述处理容器的内部导入气体；载置台，其载置所述基板；以及分隔板，其设置在所述处理容器的内部，将所述处理容器的内部分隔为等离子体生成空间和基板处理空间，该分隔板抑制离子的穿过，其中，所述分隔板以及所述处理容器的内壁表面中的至少比所述载置台靠上的部分被再结合系数为0.002以下的电介质覆盖。
技术研发人员：土场重树;小川裕之;内藤啓;清水昭贵;松土龙夫
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：2017.02.20
技术公布日：2017.09.12