半导体装置的制作方法

文档序号:11233065阅读:来源:国知局
技术总结
得到一种能够实现高可靠性的半导体装置。在主单元区域,在半导体衬底(1)的主面形成有第1扩散区域(2),在终端区域,在主面形成有第2扩散区域(3)。绝缘膜(5、6)形成于半导体衬底(1)的主面之上,在第1及第2扩散区域(2、3)之上分别具有第1及第2接触孔(7、8)。相同材质的第1及第2电极(9、10)分别形成于第1及第2接触孔(7、8)内。半绝缘性膜(11)将第2电极(10)覆盖。第1电极(9)不将第1接触孔(7)完全填埋。第2电极(10)将第2接触孔(8)完全填埋。第3电极(14)形成于第1电极(9)之上,将第1接触孔(7)完全填埋。

技术研发人员:藤井秀纪
受保护的技术使用者:三菱电机株式会社
文档号码:201710117505
技术研发日:2017.03.01
技术公布日:2017.09.08

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