磁性体和具有磁性体的线圈部件的制作方法

本发明涉及线圈、电感器等电子部件中能够主要用作磁芯的磁性体和具有该磁性体的线圈部件。

背景技术：

电感器、扼流圈、变压器等电子部件(所谓的线圈部件、电感部件)具有作为磁芯的磁性体和形成在上述磁性体的内部或表面的线圈。作为磁性体的材料一般使用ni-cu-zn类铁氧体等铁氧体。

近年来，对这种电子部件要求大电流化(表示额定电流的高值化)，为了满足该要求，正在研究将磁性体的材料从现有的铁氧体换为金属类的材料。作为金属类的材料有fe-cr-si合金和fe-al-si合金，例如在专利文献1中公开了以下结构，在包含以fe为主要成分的软磁性金属颗粒的软磁性压粉磁芯中，相邻的软磁性金属颗粒之间无遗漏(无空隙)地存在氧化物部。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2015-144238号公报

技术实现要素：

发明要解决的课题

根据电子部件的至今为止的小型化、高性能化的要求，希望提供同时实现高强度和高电阻而导磁率不会明显降低的磁性体。本发明以提供这样的磁性体为课题。而且，本发明也以提供包含上述磁性体的电子部件为课题。

用于解决课题的技术方案

本发明的磁性体具有多个软磁性合金颗粒、氧化膜、结合材料、第1和第2结合部。软磁性合金颗粒包含fe、元素l和元素m。元素l是si、zr、ti中的任一者。元素m是si、zr、ti以外的、比fe容易氧化的元素。氧化膜分别覆盖各个软磁性合金颗粒。结合材料由氧化膜以外的另外存在的氧化物构成。在第1结合部中，相邻的软磁性合金颗粒彼此经由覆盖各软磁性合金颗粒的氧化膜结合。在第2结合部中，分别覆盖相邻的软磁性合金颗粒的氧化膜彼此不直接接触地经由上述结合材料结合。

发明效果

根据本发明，提供同时实现高强度和高电阻而导磁率不明显降低的磁性体。

附图说明

图1是示意地表示本发明的磁性体的第2结合部附近的细微结构的截面图。

图2是示意地表示本发明的磁性体的第1结合部附近的细微结构的截面图。

图3是示意地表示本发明的磁性体的第3结合部附近的细微结构的截面图。

图4是示意地表示本发明的磁性体的多个磁性合金颗粒的截面图。

图5是示意地表示使用了本发明的磁性体的线圈部件的一例的立体图。

具体实施方式

适当参考附图详细说明本发明。其中，本发明不限于图示的方式，而且由于在附图中强调表现发明的特征部分，所以在附图各部分中比例尺的准确性不一定能保证。

图1和图2是示意地表示本发明的磁性体的细微结构的截面图。图1示意地表示本发明的尤其具有特征性的结合部即“第2结合部”附近，图2示意地表示与第2结合部不同的结合方式的“第1结合部”附近。对于两“结合部”在后文说明。

在本发明中，磁性体作为整体是由原本独立的多个软磁性合金颗粒彼此结合而成的集合体。磁性体也能够是多个软磁性合金颗粒构成的压粉体。参照图1可知，至少一部分软磁性合金颗粒11、12在其周围的至少一部分、优选在大致整体形成有氧化膜21、22，利用该氧化膜21、22来确保磁性体的绝缘性。

在本发明的磁性体中，相邻的软磁性合金颗粒的结合方式至少存在2种类型。将它们称为第1结合部和第2结合部。

图2表示第1结合部附近。在图2所示的第1结合部中，相邻的软磁性合金颗粒11、12彼此经由各软磁性合金颗粒11、12的周围的氧化膜21、22而结合。经由氧化膜结合是指在至少一部分中，2个软磁性合金颗粒11、12的周围的氧化膜共用化。

图1表示第2结合部附近。在图1所示的第2结合部中，氧化膜21、22不直接接触，这意味着结合方式完全不同于第1结合部。相邻的软磁性合金颗粒11、12的周围各自独立地形成有氧化膜21、22。在第2结合部中，存在以区别于氧化膜21、22的标记30表示的“结合材料”。结合材料30作为氧化膜21、22的连接部(桥梁)将两者连接。

上述的第1和第2结合部的存在通过例如放大约20000倍的sem观察像等能够看到。由于第1和第2结合部的存在，实现了机械强度和绝缘性的提高。优选磁性体的整体中相邻的软磁性合金颗粒彼此都经由第1或第2结合部来结合，但只要至少存在第1和第2结合部两者，则能够实现相应的机械强度和绝缘性的提高，这样的方式也可以说是本发明的一个方式。而且，也可以在一部分中存在不经由氧化膜的软磁性合金颗粒彼此的结合。进而，也可以局部地存在相邻的软磁性合金颗粒之间不存在第1或第2结合部、而软磁性合金颗粒彼此的结合部也不存在，只是物理地接触或接近的方式。

根据本发明，软磁性合金颗粒至少包含铁(fe)和fe以外的2种元素。上述“2种元素”中的一种为si、zr、ti中的任一种，将其称为“元素l”。上述“2种元素”中的另一种为si、zr、ti以外的、比fe更容易氧化的元素，将其称为“元素m”。

元素l优选为si。磁性体中元素l优选占3～6wt％。

元素m例如能够列举cr(铬)、al(铝)等。磁性体中元素m优选占3～6wt％。

软磁性合金颗粒除了fe、元素l和元素m外，还可以含有其它元素，作为这样的元素例如能够列举硫(s)、p(磷)、c(碳)等。

对于磁性体的整体组成，能够利用能量分散型x射线分析(eds)通过zaf法来测定。

各软磁性合金颗粒中的至少一部分在其周围的至少一部分形成有氧化膜。氧化膜可以在形成磁性体之前的原料颗粒的阶段形成，也可以在原料颗粒的阶段不存在氧化膜或存在极少而在磁性体的成形过程中生成氧化膜。优选氧化膜由软磁性合金颗粒自身氧化而成的物质构成。也可以在对成形前的软磁性合金颗粒进行热处理，使各个软磁性合金颗粒表面部分氧化，进而在得到磁性体的成形过程中，使软磁性合金颗粒的表面部分更强地被氧化来获得氧化膜。氧化膜的存在能够在扫描型电子显微镜(sem)拍摄到的20000倍程度的拍摄像中通过对比度(亮度)的不同来识别。通过氧化膜的存在来确保磁性体整体的绝缘性。

氧化膜中的与软磁性合金颗粒相邻接的部分优选含有元素l。测定氧化膜的化学组成的方法如下所述。首先，使磁性体断裂等来使其截面露出。接着，通过离子铣削而获得平滑面，用扫描型电子显微镜(sem)进行拍摄，利用能量分散型x射线分析(eds)通过zaf法计算氧化膜。能够从软磁性合金颗粒向颗粒外侧方向利用扫描型透射电子显微镜(stem)-eds通过线分析来识别氧化膜，能够知晓氧化膜中的各部分的组成。

通过这样的测定，首先能够根据从软磁性合金颗粒向颗粒外侧方向去氧的增加来确认颗粒表面与氧化膜的界面。接着，在上述氧化膜中，从与颗粒表面相邻接的部分向外侧方向确认元素l的存在。由于也存在氧，所以可知是元素l的氧化膜。该元素l的氧化膜除氧之外，相对于元素l和元素l以外的成分的合计，含有的元素l在50％以上的范围。而且，确认从与元素l的氧化膜相邻接的部分向外侧方向去存在元素m。该元素m的氧化膜除氧之外，相对于元素m和元素m以外的成分的合计，含有的元素m在50％以上的范围。氧化膜由软磁性合理颗粒自身形成。即在上述其它成分中包含软磁性合金颗粒的元素l和元素m以外的成分，例如包含fe等。在元素m的氧化膜的更外侧的一部分存在fe的氧化膜。该fe的氧化膜除了氧以外，相对于元素fe和fe以外的成分的合计，含有的fe的比例在50％以上的范围。

而且，如图2所示，形成有上述氧化膜产生的第1结合部。第1结合部由位于软磁性合金颗粒各自的表面上的氧化膜形成。而且，该第1结合部经由元素m的氧化膜彼此来结合。通过该元素m的氧化膜的结合，能够获得磁性体的机械强度。而且，在第1结合部中不存在元素l的氧化膜的结合。因此，第1结合部在颗粒与颗粒之间，存在一个颗粒的元素l的氧化膜与各颗粒的元素m的氧化膜和另一个颗粒的元素m的氧化膜。在该颗粒与颗粒之间，存在元素l的2个氧化膜，所以能够获得良好的绝缘。

而且，本发明的磁性体如图1所示，氧化膜21、22以外另外存在结合材料30。结合材料是氧化物。结合材料与氧化膜“另外存在”是指由于结晶形态(两者的结晶相不同，一者为结晶质，另一者为非晶质等)、化学组成不同等，由此能够确认是形成在软磁性合金颗粒11、12周围的不同于氧化膜21、22的形态。这样的确认例如能够通过sem、tem和上述的化学组成的测定来进行。

结合材料30是氧化物。对构成结合材料的氧化物的组成没有特别限定，可以是不同于合金颗粒的元素l的元素，优选为包含元素l的氧化物。由于这样的包含元素l的氧化物的存在，实现了磁性体的高电阻和高强度，而且耐电压也变高。尤其是，元素l为si时进一步提高耐电压。这是因为在颗粒表面的氧化膜薄的情况下，氧化膜容易产生微小的缺陷，但是由于存在结合材料30，所以能够修补该缺陷部分，特别是能够将第2结合部周边的氧化膜的缺陷消除。由此，由于氧化膜薄而能够维持导磁率，并且由于结合材料的存在而能够提高耐电压。对于结合材料的存在，确认了从与元素m的氧化膜相邻接的部分向外侧方向去元素l的存在。由于也存在氧，所以可知存在元素l的氧化膜。该结合材料的范围是除氧之外，相对于元素l和元素l以外的成分的合计，含有的元素l在50％以上的范围。即，第2结合部是经由元素l的氧化膜结合的部分。在该第2结合部中，颗粒与颗粒之间存在一个颗粒的元素l的氧化膜、另一个颗粒的元素m的氧化膜、结合材料、另一个颗粒的元素m的氧化膜和另一个颗粒的元素l的氧化膜。在该颗粒与颗粒之间，存在元素l的2个氧化膜和结合材料，所以能够获得良好的绝缘。

而且，如图3所示，在第1和第2结合部之外，也可以存在软磁性合金颗粒彼此之间的结合。在颗粒与颗粒的金属部分中不含氧化物，结晶相连续地继续。可知在该部分中，结晶连相续的排列。例如，通过扫描型透射电子显微镜(stem)以100000倍的倍率观察与氧化膜的评价相同的试样，能够根据图像中平行地取向来判断。通过该颗粒的金属部分的结合，能够获得高的导磁率。

在本发明中，上述第1、第2、第3结合部各自存在的比例为依照第1结合部、第2结合部、第3结合部的顺序，所以能够获得更高绝缘、高强度且高耐压的特性。

本发明的磁性体也可以部分地具有空隙，优选气孔率为1～2％。气孔率由jis-r1634规定。由于具有这样的适量的空隙，所以氧化膜稳定能够以高水准兼顾机械强度和导磁率。这是指第2结合部的周围具有空隙的状态。在没有空隙的状态的情况下，由于存在填补空隙的物质，所以无法提高磁性颗粒的填充率，而且在磁性体内部难以供给来自磁性体外侧的氧，产生氧化膜的形成不充分的部分，结果导致导磁率下降，绝缘性和强度也下降。即，上述空隙的气孔率表示开放小孔，表示能够确保填充率并使氧化膜的形成稳定。

图4是示意地表示由氧化膜5覆盖软磁性合金颗粒1，相邻的软磁性合金颗粒1彼此经由氧化膜彼此的结合部2接合的磁性体的状态的局部图。磁性体包括不经由氧化膜5的软磁性合金颗粒彼此的直接结合部3，另外，典型的是，连续的空隙4存在于由氧化膜5覆盖的颗粒之间。在一个实施方式中，各结合部2包括第一结合(富元素m氧化膜彼此的结合)或者第二结合(经由富元素l氧化膜的结合)，直接结合部3为第三结合，即金属与金属的直接结合。在本实施方式中，氧化膜5含有富元素l氧化膜(21a、22a)、富元素m氧化膜(21b、22b)、富fe氧化膜(在图1至图3中未图示)。

用作原料的软磁性合金颗粒的组成反映到最终获得的磁性体的组成。因此，能够根据最终要获得的磁性体的组成来适当选择原料颗粒的组成，其优选组成范围与上述磁性体的优选组成范围相同。

各原料颗粒的尺寸实质上等于最终获得的磁性体中的构成磁性体的颗粒的尺寸。作为原料颗粒的尺寸，若考虑导磁率和颗粒内涡流损耗，则平均粒径d50优选为2～30μm。原料颗粒的d50能够通过基于激光衍射、散射的测定装置来测定。

用作原料的磁性颗粒优选由雾化法制造。在雾化法中，在高频熔炉添加作为主原材料的fe、cr、si和作为添加料的s并熔解，能够通过雾化法获得磁性颗粒。

接着，在这里所获得的磁性颗粒的表面进行成为结合材料的基础的前处理。前处理是指使得在磁性颗粒的表面附着si、ti、zr的任一种元素l的微粒的涂覆处理。这里所使用的材料为胶体溶液。元素l的微粒的平均粒径为1～20nm、添加量为20～30wt％，作为分散介质为水和甲苯中的任一者。涂覆处理的方法有在胶体溶液中浸渍的方法或者将胶体溶液喷雾的方法等。例如，要在磁性颗粒表面形成薄的均匀的涂覆材料时使用浸渍的方法，要形成不均匀的涂覆材料时使用喷雾的方法。特别是，不均匀的膜能够抑制膜的存在导致的填充率的降低。在该喷雾的方法中，通过设定液滴的大小和分散介质的干燥，能够不产生极端的磁性颗粒的聚集地形成不均匀的膜。

通过进行该前处理，颗粒与颗粒之间存在涂覆材料，成为颗粒与颗粒经由涂覆材料聚集的状态。在该聚集的状态下，颗粒与颗粒之间存在涂覆材料，但在此以外的部分不附着涂覆材料为佳。即，理想的是成为上述聚集的状态而不存在多余的涂覆材料，能够抑制填充率的降低。该前处理通过后述的热处理而成为结合材料的基础。使用该方法能够不损失填充率来制作磁性体。

对于由经过了上述前处理的原料颗粒获得成形体的方法没有特别限定，能够适当引入颗粒成形体制造领域的公知方案。以下作为典型的制造方法，说明在非加热条件下成形原料颗粒之后进行加热处理的方法。在本发明中不限定于该制法。

在非加热条件下成形原料颗粒时，优选加入有机树脂作为粘合剂。作为有机树脂使用热分解温度在500℃以下的丙烯酸树脂、缩丁醛树脂、乙烯基树脂等构成的有机树脂，优选在热处理后难以残留粘合剂。成形时也可以添加公知的润滑剂。作为润滑剂，可列举有机酸盐等，具体可列举硬脂酸锌、硬脂酸钙等。润滑剂的量优选为相对于原料颗粒100重量份为0～1.5重量份。润滑剂的量为零表示不使用润滑剂。向原料颗粒任意地添加粘合剂和/或润滑剂并进行搅拌后成形为要求的形状。成形时例如施加1～30t/cm²的压力。

对热处理的优选方式进行说明。

优选热处理在氧化气氛下进行。更具体而言，加热中的氧浓度优选为1％以上，由此容易生成经由氧化膜的第1结合部和经由结合材料的第2结合部。氧浓度的上限没有特别规定，考虑制造成本等能够列举空气中的氧浓度(约21％)。对于加热温度，从通过对软磁性合金颗粒自身的表层部分进行氧化来生成氧化膜而容易产生第1结合的观点、和通过生成结合材料而容易产生第2结合的观点出发，优选600～800℃。而且，从容易生成第1结合和第2结合部的观点出发，加热时间优选3.5～6小时。通过使加热时间在上述范围内，在磁性体内部也能够充分形成氧化膜，能够形成包含元素l的氧化膜及其外侧的包含元素m的氧化膜。而且，越延长加热时间或越提高加热温度，能够形成元素m(例如cr)的存在比例越高的氧化膜。即，有在磁性颗粒表面元素l的存在比例高的氧化膜，在其外侧有元素m的存在比例高的氧化膜，再在其外侧存在fe的存在比例高的氧化膜。其中，元素l的氧化膜形成为比元素m的氧化膜薄，第1结合部为元素m的氧化膜的一部分。这些氧化膜分别对导磁率和绝缘性以及强度作出贡献。

能够将这样获得的磁性体1用作各电子部件的磁心。例如，本发明的磁性体的周围可以通过卷曲绝缘覆盖导线而形成线圈。或者，通过公知的方法形成包含上述原料颗粒的生片，在其上通过印刷等形成规定图案的导体膏之后，将已印刷完成的生片层叠并加压来成形，接着在上述条件下实施热处理，由此能够获得在本发明的磁性体的内部形成线圈而构成的电子部件(电感器)。而且，使用本发明的磁性体作为磁芯，在其内部或表面形成线圈从而能够获得各种电子部件。电子部件可以是表面安装型和通孔安装型等各种安装方式的电子部件，对于从磁性体获得电子部件的方案，也能够参考后述的实施例的记载，而且能够适当引入电子部件的领域中公知的制造方法。图5是表示具有将这里所公开的磁性体的任一者作为磁芯使用，上部凸缘52和下部凸缘53一体地安装在磁芯的两端，将绝缘覆膜导线作为线圈51卷绕而成的结构的基于实施方式的线圈部件的概略图。在下部凸缘53设置有用于连接上述导线的各端部的2个端子54。

[实施例]

以下通过实施例更具体地说明本发明。但是，本发明不限于这些实施例记载的方式。

(原料颗粒)

将fe－cr－si、fe－zr－cr、fe－si－al中的任一者的合金粉末用作原料颗粒。合金粉末的组成利用能量分散型x射线分析(eds)通过zaf法来测定。合金的化学组成如下所述。

比较例1si(3wt％)、cr(6wt％)、fe(余下部分)

比较例2si(3wt％)、cr(6wt％)、fe(余下部分)

比较例3si(3wt％)、cr(6wt％)、fe(余下部分)

比较例4si(3wt％)、cr(6wt％)、fe(余下部分)

实施例1si(3wt％)、cr(6wt％)、fe(余下部分)

实施例2si(6wt％)、cr(1.5wt％)、fe(余下部分)

实施例3si(6wt％)、cr(1.5wt％)、fe(余下部分)

实施例4si(6wt％)、cr(1.5wt％)、fe(余下部分)

实施例5si(6wt％)、cr(1.5wt％)、fe(余下部分)

实施例6si(6wt％)、cr(1.5wt％)、fe(余下部分)

实施例7si(6wt％)、cr(1.5wt％)、fe(余下部分)

实施例8zr(6wt％)、cr(1.5wt％)、fe(余下部分)

实施例9si(6wt％)、al(1.5wt％)、fe(余下部分)

实施例10si(8wt％)、cr(1.5wt％)、fe(余下部分)

实施例11si(8.5wt％)、cr(1wt％)、fe(余下部分)

(对颗粒喷雾)

使用上述合金粉末，在各合金粉末的表面进行涂覆。使用si、zr、ti中的任一者的元素l即微粒的材料，使用甲苯作为溶剂。微粒的材料都是平均粒径5nm、添加量25wt％的液状的胶体溶液。作为涂覆处理的方法，一边搅拌合金粉末一边以比合金粉末的平均粒径更小的方式用喷嘴将胶体溶液的液滴喷雾，在喷雾的同时或喷雾后进行干燥，以反复实施该喷雾与干燥的方法进行。以该方法进行涂覆处理，能够获得成形时的填充率降低少的成形体。而且，使涂覆材料中的微粒为元素l，由此在热处理时元素l的微粒与氧化膜的形成同时或者在氧化膜形成后被烧制而能够形成结合材料。

比较例1无喷雾

比较例2无喷雾

比较例3无喷雾

比较例4无喷雾

实施例1si的涂覆材料、20分钟

实施例2si的涂覆材料、20分钟

实施例3si的涂覆材料、30分钟

实施例4si的涂覆材料、40分钟

实施例5si的涂覆材料、60分钟

实施例6si的涂覆材料、40分钟

实施例7zr的涂覆材料、30分钟

实施例8zr的涂覆材料、30分钟

实施例9si的涂覆材料、30分钟

实施例10si的涂覆材料、30分钟

实施例11si的涂覆材料、30分钟

(磁性体的制造)

根据需要将进行了上述涂覆的合金粉末100重量份与热分解温度300℃的pva粘合剂1.5重量份一起搅拌混合来制造颗粒。之后，以下述成形压力(单位：ton/cm²)进行按压加工来构成用于后述各评价的形状，对所获得的成形体的粘合剂进行脱脂后，在21％的氧浓度的氧化气氛中以650℃温度进行了各比较例为1小时、各实施例为4小时的保持时间的热处理。通过该热处理获得各磁性体。通过上述涂覆处理、成形、烧制的工艺能够获得具有空隙的磁性体。

比较例13.7

比较例24.3

比较例35.0

比较例46.0

实施例16.0

实施例210

实施例310

实施例412

实施例514

实施例614

实施例712

实施例812

实施例912

实施例1014

实施例1114

(sem观察)

对于所获得的磁性体，通过放大20000倍的sem观察像，在所有实施例、比较例中，观察到在大致所有的各合金颗粒覆盖有氧化膜，相邻的合金颗粒经由各自的氧化膜结合的样子。而且，观察到在所有的实施例中，相邻的合金颗粒不是经由氧化膜结合，而是夹着不同于氧化膜的另外的颗粒状的氧化物，在局部是金属颗粒-氧化膜-氧化物颗粒(结合材料)-氧化膜-金属颗粒这样的结合的样子。上述氧化物颗粒在实施例1～6、9、10、11是si的氧化物，实施例7、8是zr的氧化物。夹着不同于氧化膜的另外的颗粒状的氧化物的结合在比较例中没有被观察到。

(氧化膜的组成)

利用放大了20000倍的tem观察像研究了氧化膜的组成。

在比较例1～4和实施例1中，与合金颗粒相邻接的部分形成有cr的氧化膜，而且在其外侧形成有fe的氧化膜。能够确认cr的氧化膜的内侧存在si的氧化物，但是无法连续地确认能被称为氧化膜的si的存在，其为不连续的。连续的是指在研磨后的观察面中在磁性颗粒表面的1/3以上连续存在。该连续能够以上述倍率在元素图的图像中通过像素相连接来确认。

在实施例2～7、9～11中，与合金颗粒相邻接的部分形成有si的氧化膜，而且在其外侧形成有cr或al的氧化膜，再在其外侧形成有fe的氧化膜。

在实施例8中，与合金颗粒相邻接的部分形成有zr的氧化物，而且在其外侧形成有cr的氧化膜，再在其外侧形成有fe的氧化膜。

而且，上述氧化膜连续地存在能够提高绝缘。这是因为，假设颗粒的大小即粒径相同，考虑组合该颗粒时的3相点，各颗粒以角度120°相邻接。即，将角度120°置换到颗粒表面时相当于1/3的范围。因此，上述连续的si的氧化膜在该1/3以上的范围存在，则表示颗粒与颗粒之间si的氧化膜存在的概率高。由此，在上述观察中，在颗粒表面的1/3以上的范围中si的氧化膜连续存在，则能够实现高绝缘。

(气孔率)

所获得的磁性体的气孔率按照jis-r1634来测定。测定结果如下。

比较例13.1％

比较例22.5％

比较例32.3％

比较例42.2％

实施例12.3％

实施例22.0％

实施例31.8％

实施例41.0％

实施例50.8％

实施例60.7％

实施例72.0％

实施例82.0％

实施例92.0％

实施例101.9％

实施例111.9％

(导磁率)

为了测定导磁率μ，制造了外径14mm、内径8mm、厚度3mm的环状的磁性体。该磁性体通过将由直径0.3mm的聚氨酯包覆的铜线构成的线圈卷绕20圈来获得测定用试样。使用l精密仪表(安捷伦科技有限公司制：4285a)，以测定频率100khz测定了磁性体的导磁率。

(机械强度)

机械强度按照jis-r1601进行了测定。具体而言，制造长度50mm、宽度4mm、厚度3mm的板状的磁性体作为测定试料，测定了3点弯曲断裂应力。在下述测定结果栏作为[强度]记载了单位为kgf/cm²的测定结果。

(电阻)

体积电阻率按照jis-k6911进行了测定。具体而言，制造了外形φ9.5mm×厚度4.2～4.5mm的圆板状的磁性体作为测定试样。在上述热处理时，圆板状的两底面(底面的整个面)通过溅射形成了au膜。在au膜的两面施加了25v(60v/cm)的电压。从此时的电阻值计算出体积电阻率。在下述测定结果栏作为[电阻]记载了单位为ω·cm的测定结果。

(耐电压)

为了测定耐电压，制造了外形φ9.5mm×厚度4.2～4.5mm的圆板状的磁性体作为测定试样。在上述热处理时，圆板状的两底面(底面的整个面)通过溅射形成了au膜。在au膜的两面施加电压进行了i-v测定。施加的电压逐渐上升，将电流密度成为0.01a/cm²的时刻的施加电压视为击穿电压。在下述测定结果栏作为[耐电压]，击穿电压小于250v则为1，250v以上而小于500v则为2，500v以上则为3。

(测定结果)

上述各物性的测定结果如下所述。

对于所有的实施例，导磁率没有显著降低而同时实现了高强度与高电阻。在与合金颗粒相邻接的部分形成有si的氧化物的实施例2～7、9中，还实现了耐电压的提高。同样，在与合金颗粒相邻接的部分形成有zr的氧化物的实施例8中也提高了耐电压。而且，例如比较导磁率相同的实施例3与实施例7、8，实施例3的耐电压变高，zr比si的氧化物更能提高效果。而实施例10中电阻和耐电压都高，在实施例11中看到了电阻和耐电压都低。由此可以说cr在1.5wt％以上，元素l比元素m多是较好的。