技术特征：
技术总结
本发明提供一种阵列基板的制作方法、阵列基板和显示装置，该方法包括：形成平坦化层；在平坦化层上形成透明导电氧化物层和金属层；在金属层上涂布光刻胶，并对光刻胶进行构图，形成光刻胶全保留区、光刻胶半保留区和光刻胶全去除区；刻蚀掉光刻胶全去除区内的金属层；采用灰化工艺，去除光刻胶半保留区内的全部光刻胶以及光刻胶全保留区域的部分光刻胶；刻蚀掉光刻胶全去除区内的透明导电氧化物层，形成透明导电氧化物层图形；刻蚀掉光刻胶半保留区内的金属层，形成金属层图形；剥离光刻胶全保留区内的光刻胶。本发明中，在进行灰化工艺之前，并不湿刻掉光刻胶全去除区内的透明导电氧化层，在进行灰化工艺时，透明导电氧化层对平坦化层进行保护。
技术研发人员：李海旭;曹占锋;姚琪
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：2017.05.11
技术公布日：2017.09.08