一种柔性基板制备方法、柔性基板、显示面板及显示装置与流程

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种柔性基板制备方法、柔性基板、显示面板及显示装置。

背景技术：

柔性显示装置是一种基于柔性基板制作形成的显示装置。由于显示装置具有可卷曲、宽视角、便于携带等特点，因此柔性显示装置具有广阔的应用前景及良好的市场潜力。

现有技术中，单层柔性基板包括一层柔性衬底以及位于柔性衬底之上的缓冲层，其制备工艺简单，但是阻水阻氧效果较差，水氧从柔性基板的底部慢慢渗入至显示面板的电致发光器件，使得电致发光器件中的电致发光(electroluminescent，el)材料失效，导致电致发光器件工作可靠性差。为了更好的阻隔水氧，一般采用双层柔性衬底膜的柔性基板，双层柔性衬底膜的柔性基板制备工艺如下：1、涂覆第一层柔性衬底材料，进行低压干燥处理以及退火处理，固化形成第一层柔性衬底膜层，对固化后的膜层进行清洗；2、采用等离子体增强化学气相沉积(plasmaenhancedchemicalvapordeposition，pecvd)方法在第一柔性衬底膜层之上依次沉积第一层氧化硅层和非晶硅层；3、在非晶硅层之上，涂覆第二层柔性衬底材料，进行低压干燥处理以及退火处理，固化形成第二层柔性衬底膜层，对固化后的膜层进行清洗；4、采用pecvd方法在第二层柔性衬底膜层之上沉积第二层氧化硅层。但是，采用上述工艺制备的双层柔性衬底的柔性基板，后续在设置显示器件的工艺中，例如高温条件下，第一层柔性衬底膜层的气体无法及时排出，容易在第二层柔性衬底处残留气泡，从而影响显示面板的制作良率。

技术实现要素：

本申请实施例提供了一种柔性基板制备方法、柔性基板、显示面板及显示装置，用以避免或减缓柔性基板内残留气泡的现象，进而提高产品的制作良率。

本申请实施例提供的一种柔性基板制备方法，该方法包括：

在玻璃基板之上设置第一柔性衬底层；

在所述第一柔性衬底层之上设置第一缓冲层；

在所述第一缓冲层上设置开孔；

在所述第一缓冲层之上设置第二柔性衬底层。

本申请实施例提供的柔性基板制备方法，由于在所述第一缓冲层上设置了开孔，在高温环境下，所述柔性基板中的气体可以通过开孔区域及时排出，从而可以避免或减缓柔性基板内残留气泡的现象，进而可以提高产品的制作良率。

较佳地，所述第二柔性衬底层和所述第一柔性衬底层通过所述开孔接触。

较佳地，所述开孔设置于所述柔性基板的非显示区。

较佳地，所述第一缓冲层包括：第一缓冲子层以及位于所述第一缓冲子层之上的粘结层，在垂直于所述柔性基板的方向上，所述第一缓冲子层和所述粘结层上的开孔的投影重叠。

较佳地，在所述第一缓冲层之上设置所述第二柔性衬底层之后，该方法还包括：在所述第二柔性衬底层之上设置第二缓冲层。

较佳地，所述第一柔性衬底层和所述第二柔性衬底层的材料包括下列材料之一或组合：聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、聚酰亚胺、聚碳酸酯、换烯烃共聚物、液晶聚合物；

所述第一缓冲子层和所述第二缓冲层的材料包括下列材料之一或组合：氧化硅、氮化硅；

所述粘结层的材料包括下列材料之一或组合：非晶硅、氧化铟锡；

较佳地，在所述第二柔性衬底层之上设置所述第二缓冲层之后，该方法还包括：在所述第二缓冲层之上设置平坦化层。

本申请实施例提供的一种柔性基板，采用本申请实施例提供的柔性基板制备方法制得。

本申请实施例提供的一种显示面板，包括本申请实施例提供的柔性基板，以及位于所述柔性基板之上的显示器件层。

本申请实施例提供的一种显示装置，包括本申请实施例提供的显示面板。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例提供的一种柔性基板制备方法流程示意图；

图2为本申请实施例提供的一种柔性基板结构示意图；

图3为本申请实施例提供的第一种柔性基板开孔设置位置示意图；

图4为本申请实施例提供的第二种种柔性基板开孔设置位置示意图；

图5为本申请实施例提供的第三种种柔性基板开孔设置位置示意图；

图6为本申请实施例提供的另一种柔性基板制备方法流程示意图；

图7为本申请实施例提供的另一种柔性基板结构示意图。

具体实施方式

本申请实施例提供了一种柔性基板制备方法、柔性基板、显示面板及显示装置，用以避免或减缓柔性基板内残留气泡的现象，进而提高产品的制作良率。

本申请实施例提供了一种柔性基板制备方法，如图1所示，该方法包括：

s101、在玻璃基板之上设置第一柔性衬底层；

s102、在所述第一柔性衬底层之上设置第一缓冲层；

s103、在所述第一缓冲层上设置开孔；

s104、在所述第一缓冲层之上设置第二柔性衬底层。

本申请实施例提供的柔性基板制备方法，由于在所述第一缓冲层上设置了开孔，使得所述柔性基板在高温环境下，所述柔性基板中的气体可以通过开孔区域及时排出，从而可以避免或减缓柔性基板内残留气泡的现象，进而可以提高产品的制作良率。

较佳地，所述第二柔性衬底层和所述第一柔性衬底层通过所述开孔接触。

需要说明的是，所述第二柔性衬底层和所述第一柔性衬底层通过所述开孔接触，相当于在开孔部分，所述柔性基板只包括柔性衬底，气体在该区域容易排出，从而在高温环境中，在柔性基板尤其是第一层柔性衬底层的气体，可以及时的通过开孔区域排出，从而可以避免或减缓柔性基板内残留气泡的现象，进而可以提高产品制作良率。

较佳地，所述开孔设置于所述柔性基板的非显示区。

如图2所示，采用本申请实施例提供的柔性基板制备方法制得的柔性基板包括：玻璃基板1、位于玻璃基板1之上的第一柔性衬底层2、位于第一柔性衬底层2之上的第一缓冲层3以及位于所述第一缓冲层3之上的第二柔性衬底层5，第一缓冲层3上设置有开孔4。

本申请实施例提供的柔性基板制备方法，对在第一缓冲层上设置开孔的形状和面积并无限制，只要在第一缓冲层上设置开孔，即可实现在高温环境下，第一柔性衬底层2产生的气体可以通过开孔区域及时排出，从而可以避免或减缓柔性基板内残留气泡的现象。所述开孔设置在所述柔性基板的非显示区，开孔的形状，从正面看，如图3、4、5所示，图中露出第一柔性衬底层2的区域即为在第一缓冲层设置开孔的区域，开孔设置在柔性基板显示区6之外的区域，如图3、4所示，可以在显示区6之外的部分区域设置开孔，例如图3中所示，在第一缓冲层3的显示区6外围设置一围绕该显示区6的矩形开孔4(或者称为环形开孔)，图2所示即为沿着该图3中所示的aa’的剖面图。当然也可以在第一缓冲层3的显示区外围设置多个较小的圆形开孔15，例如图4中所示，或者，也可以如图5所示，将整个显示区6之外的第一缓冲层均处理掉，即相当于整个非显示区部分的第一缓冲层都设置为开孔，或者说是最后第一缓冲层仅覆盖显示区部分。需要说明的是，为了对开孔的形状和在柔性基板的设置位置进行举例说明，第二柔性衬底层在图3、4中未示出。此外，图2～5以在一块玻璃基板上制作一个显示面板的情况为例，对本申请实施例提供的柔性基板设置方式进行说明，当然，在实际生产中，可以在一块玻璃基板上制作多个显示面板，后续切割成独立的显示面板，当制作多个显示面板时，开孔设置方式与制作一个显示面板时本申请实施例提供的开孔设置方式相同。

需要说明的是，第一柔性衬底层和第一缓冲层均可以起到阻水阻氧的效果，本申请实施例提供的柔性基板制备方法，由于在第一缓冲层上设置有开孔，在开孔位置，第一柔性衬底层和第二柔性衬底层接触，即开孔区域没有第一缓冲层，但是开孔区域阻水阻氧的效果没有未设置开孔的区域的阻水阻氧效果好，所以将开孔设置于所述柔性基板的非显示区，后续利用柔性基板制备显示面板，由于显示面板成品只保留显示区部分的柔性基板，因此，将开孔设置在在柔性基板的非显示区，可以在显示面板制备的过程中避免或减缓柔性基板内残留气泡的现象，对显示面板的阻水阻氧效果也没有影响。

较佳地，所述第一缓冲层包括：第一缓冲子层以及位于所述第一缓冲子层之上的粘结层，在垂直于所述柔性基板的方向上，所述第一缓冲子层和所述粘结层上的开孔的投影重叠。

本申请实施例提供的柔性基板制备方法，在第一缓冲子层和第二柔性衬底层之间设置有粘结层，从而可以增强第一缓冲子层和第二柔性衬底层之间的粘结效果。

较佳地，在所述第一缓冲层之上设置所述第二柔性衬底层之后，该方法还包括：在所述第二柔性衬底层之上设置第二缓冲层。

较佳地，所述第一柔性衬底层和所述第二柔性衬底层的材料包括下列材料之一或组合：聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚醚砜、聚酰亚胺、聚碳酸酯、换烯烃共聚物、液晶聚合物。当然，第一柔性衬底层和第二柔性衬底层也可以采用其他柔性材料。需要说明的是，本申请实施例提供的柔性基板制备方法，第一柔性衬底层和第二柔性衬底层可以采用相同的柔性材料，也可以采用不同的柔性材料。

所述第一缓冲子层和所述第二缓冲层的材料例如可以是无机材料，较佳地，所述第一缓冲子层和所述第二缓冲层的材料包括下列材料之一或组合：氧化硅(sio2)、氮化硅。当然，第一缓冲子层和第二缓冲子层也可以采用其他可以阻水阻氧的无机材料。需要说明的是，本申请实施例提供的柔性基板制备方法，第一缓冲子层和第二缓冲子层可以采用相同的材料，也可以采用不同的材料。

较佳地，所述粘结层的材料包括下列材料之一或组合：非晶硅(a-si)、氧化铟锡(ito)。当然，所述粘结层也可以采用其他可以增强第一缓冲子层和第二柔性衬底层粘结力的材料。

较佳地，在所述第二柔性衬底层之上设置所述第二缓冲层之后，该方法还包括：在所述第二缓冲层之上设置平坦化层。

较佳地，所述平坦化层包括氮化硅(sin)层以及位于所述氮化硅层之上的sio2层。

下面，以所述第一柔性衬底层和所述第二柔性衬底层的材料为聚酰亚胺、第一缓冲子层和第二缓冲层的材料为氧化硅、粘结层的材料为非晶硅、平坦化层包括氮化硅和氧化硅为例，对本申请实施例提供的柔性基板制备方法进行举例说明，如图6所示，制备柔性基板包括如下步骤：

s601、在玻璃基板上涂覆聚酰亚胺胶液，对聚酰亚胺胶液进行低压干燥(h-vcd)处理，然后在温度为300～400℃范围进行退火处理，固化形成第一层聚酰亚胺薄膜，清洗第一层聚酰亚胺薄膜；

其中，聚酰亚胺薄膜的厚度为5um～15um；

s602、采用pecvd工艺沉积厚度范围在5500～6000a的第一层sio2膜层，在第一层sio2膜层之上采用pecvd工艺沉积厚度范围在50～100a的a-si膜层；

s603、对第一层sio2膜层和a-si膜层采用一次构图工艺，形成开孔；

s604、涂覆第二层聚酰亚胺胶液，对第二层聚酰亚胺胶液进行h-vcd处理，然后在温度为300～400℃范围进行退火处理，固化形成第二层聚酰亚胺薄膜，清洗第二层聚酰亚胺薄膜；

其中，聚酰亚胺薄膜的厚度为5um～15um；

s605、采用pecvd方法沉积厚度范围在5500～6000a的第二层sio2膜层；

s606、采用pecvd方法沉积厚度范围在500a～1500asin膜层；

s607、在sin膜层之上沉积厚度范围在2500a～3000a的第三层sio2膜层。

本申请实施例提供的一种柔性基板，采用本申请实施例提供的柔性基板制备方法制得。

例如，当采用如图6所示的柔性基板制备方法，本申请实施例提供的柔性基板，如图7所示，包括：玻璃基板1、位于玻璃基板1之上的第一聚酰亚胺薄膜7、位于所第一聚酰亚胺薄膜7之上的第一层sio2膜层8、位于第一层sio2膜层8之上的a-si膜层9、位于a-si膜层9之上的第二聚酰亚胺薄膜10、位于第二聚酰亚胺薄膜10之上的第二层sio2膜层11、位于所述第二层sio2膜层11之上的sin膜层12、以及位于sin膜层12之上的第三层sio2膜层13，其中在第一层sio2膜层8和a-si膜层9设置有开孔4，使得第二聚酰亚胺薄膜10和第一聚酰亚胺薄膜7在开孔区域接触。

本申请实施例提供的一种显示面板，包括本申请实施例提供的柔性基板，以及位于所述柔性基板之上的显示器件层。

需要说明的是，在制作显示面板时，在如图6所示的柔性基本制备步骤s607之后，需要在缓冲层之上设置薄膜晶体管(tft)器件、完成电致发光工艺以及后续封装工艺，之后需要将柔性基板从玻璃基板上剥离，例如可以通过激光照射将柔性基板从玻璃基板上剥离。

例如，本申请实施例提供的显示面板，可以是有机发光二极管(oled)显示面板。

本申请实施例提供的一种显示装置，包括本申请实施例提供的显示面板。

例如，本申请实施例提供的显示装置可以是手机、电脑、电视等装置。

综上所述，本申请实施例提供的一种柔性基板制备方法、柔性基板、显示面板及显示装置，由于在所述第一缓冲层上设置了开孔，使得所述柔性基板在高温环境下，所述柔性基板中的气体可以通过开孔区域及时排出，从而可以避免或减缓柔性基板内残留气泡的现象，进而可以提高产品的制作良率。

显然，本领域的技术人员可以对本申请进行各种改动和变型而不脱离本申请的精神和范围。这样，倘若本申请的这些修改和变型属于本申请权利要求及其等同技术的范围之内，则本申请也意图包含这些改动和变型在内。