修补显示装置中金属层短路的方法与流程

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种修补显示装置中金属层短路的方法。

背景技术：

显示装置，例如液晶显示装置，以其显示品质高、价格低廉、携带方便等优点，成为移动通讯设备、pc、tv等的显示装置。请参见图1和图2，目前显示装置在阵列基板上逐层形成第一金属层120、介电层130、第二金属层140，第一金属层120例如包括扫描线、薄膜晶体管的栅极；第二金属层140例如包括数据线、薄膜晶体管的源极和漏极。在制程中，如果介电层130中存在导电颗粒异物(particle，图1和图2中以导电颗粒异物为例进行说明)或者小孔(移除掉颗粒异物会产生小孔，第二金属层的金属材料流到小孔中)，导致第一金属层120和第二金属层140短路，从而造成此种液晶显示装置报废，提高了成本。

技术实现要素：

本发明实施例所要解决的技术问题在于，提供一种修补显示装置中金属层短路的方法。可改善显示装置的短路。

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种修补显示装置中金属层短路的方法，包括：

在阵列基板上形成第一金属层；

在所述第一金属层上形成介电层；

在所述介电层上沉积形成初始金属层；

在所述初始金属层上形成光阻层；

曝光、显影移除部分所述光阻层；

获得所述第一金属层与所述初始金属层短路的瑕疵点的信息；

移除所述瑕疵点上的所述光阻层；

蚀刻所述初始金属层以形成第二金属层。

在本发明一实施例中，所述介电层包括绝缘层，或者，所述介电层包括绝缘层和半导体层。

在本发明一实施例中，移除瑕疵点上的光阻层是通过激光打掉。

在本发明一实施例中，所述激光从所述光阻层远离所述阵列基板一侧射出。

在本发明一实施例中，所述蚀刻初始金属层以形成第二金属层的步骤具体包括：

蚀刻所述瑕疵点处的所述初始金属层；

蚀刻除所述瑕疵点处之外且未被所述光阻层遮住的所述初始金属层以形成第二金属层。

在本发明一实施例中，所述瑕疵点处存在导电颗粒异物；或者所述瑕疵点处存在初始金属层，所述初始金属层与所述第一金属层电连接，所述初始金属层与所述第二金属层断开。

在本发明一实施例中，所述第一金属层包括扫描线、薄膜晶体管的栅极和/或与扫描线同层的金属走线，所述第二金属层包括数据线、薄膜晶体管的源极、薄膜晶体管的漏极和/或与数据线同层的金属走线。

在本发明一实施例中，所述显示装置包括栅极驱动器，所述栅极驱动器位于阵列基板上，所述瑕疵点位于栅极驱动器所在的区域。

在本发明一实施例中，所述光阻为正光阻。

在本发明一实施例中，所述方法还包括：

在第二金属层上形成钝化层；

在钝化层上形成像素电极层。

实施本发明实施例，具有如下有益效果：

由于修补显示装置中金属线路短路的方法包括：获得第一金属层与初始金属层短路的瑕疵点的信息，移除瑕疵点上的光阻层，蚀刻初始金属层以形成第二金属层。从而，第一金属层和第二金属层之间的短路已经进行了修补，从而此种显示装置还可以继续使用，从而降低了成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是现有技术第一金属层和第二金属层短路的示意图；

图2是现有技术第一金属层和第二金属层短路的剖视图；

图3是本发明一实施例修补显示装置中金属层短路方法的流程图；

图4是对应图3中s104步骤的剖视图；

图5是对应图3中s105步骤的剖视图；

图6是对应图3中s107步骤的剖视图；

图7是对应图3中s108步骤的剖视图；

图8是本发明一实施例第一金属层和第二金属层修补后的示意图；

图示标号：

110、210-阵列基板；120、220-第一金属层；130、230-介电层；131、231-栅极绝缘层；132、232-半导体层；140、240-第二金属层(初始金属层)；180、280-颗粒异物。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本申请说明书、权利要求书和附图中出现的术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。此外，术语“第一”、“第二”和“第三”等是用于区别不同的对象，而并非用于描述特定的顺序。

本发明实施例提供一种修补显示装置中金属层短路的方法，请参见图3-图8，包括：

s101:在阵列基板210上形成第一金属层220；

在本实施例中，所述阵列基板210可以为玻璃基板，也可以为其他材料的基板，例如柔性基板、塑料基板等。在本实施例中，所述第一金属层220包括扫描线、薄膜晶体管的栅极和/或与扫描线同层的金属走线等。但本发明不限于此，在本发明的其他实施例中，所述第一金属层包括数据线和/或与数据线同层的金属走线等。

s102:在第一金属层220上形成介电层230；

在本实施例中，所述介电层230包括栅极绝缘层231、半导体层232，但本发明不限于此，在本发明的其他实施例中，所述介电层还可以只包括栅极绝缘层231或者其他绝缘层。在本实施例中，由于制程的原因，所述绝缘层中可能存在导电颗粒异物280(particle，图示中以颗粒异物为例进行说明)或者小孔(颗粒异物280去掉后产生小孔或者其他原因产生小孔)，这些位置就是后面提到的瑕疵点的位置。

s103：在介电层230上沉积初始金属层240；

在本实施例中，在介电层230上沉积初始金属层240，所述初始金属层240为一整层，所述初始金属层240的材料例如为钼、铝或者合金材料。如果介电层230上存在颗粒异物280，颗粒异物280可能导电，从而导致第一金属层220和初始金属层240短路；如果介电层230上存在小孔，则沉积初始金属层240时，初始金属层240会对小孔进行填充，从而导致初始金属层240与第一金属层220短路，该些短路的地方即为瑕疵点的位置。

s104：在初始金属层240上形成光阻层；

请参见图4，为了对初始金属层240进行图案化，本实施例中在初始金属层240上形成光阻层，所述光阻层为正光阻。所述光阻层在初始金属层240上形成一整层。当所述瑕疵点存在颗粒异物280时，所述光阻层在瑕疵点的位置会轻微往上拱起来，当所述瑕疵点是存在小孔时，所述光阻层在瑕疵点的位置会轻微向下沉。

s105:曝光、显影移除部分光阻层；

在本实施例中，请参见图5，通过在光阻层上方设置光罩(mask)，对光阻层进行曝光，其后进行显影，从而移除部分光阻层以对光阻层图案化，方便后续对初始金属层240的图案化。

s106：获得第一金属层220与初始金属层240短路的瑕疵点的信息；

为了修补第一金属层220和初始金属层240短路，需要获得第一金属层220与初始金属层240短路的瑕疵点的信息，该信息为瑕疵点的位置信息。该瑕疵点的信息可以通过检测机台自动检测获得，也可以通过人工识别获得。

s107：移除瑕疵点上的光阻层；

请参见图6，由于有些瑕疵点上还存在光阻层，为了防止最终的显示装置中两层金属层的短路，在本实施例中，移除瑕疵点上的光阻层可以通过激光打掉，激光打掉光阻层比较精准，范围也比较集中，效果较好，而且成本也较低。在本实施例中，所述激光从光阻远离阵列基板210一侧射出，也即从图示中的上侧射出。在本实施例中，通过激光打掉瑕疵点上光阻层可以通过机器自动打掉，也可以通过人工手动打掉。

s108：蚀刻初始金属层240以形成第二金属层240；

请参见图7和图8，在本实施例中，蚀刻初始金属层240以形成第二金属层240，所述第二金属层240包括数据线、薄膜晶体管的源极、薄膜晶体管的漏极和/或与数据线同层的金属走线等。在本发明的其他实施例中，所述第二金属层包括像素电极层和/或与像素电极层同层的金属走线等。在本实施例中，由于瑕疵点上的光阻层被移除，从而瑕疵点处的初始金属层240被蚀刻掉或者与初始金属层240的其他部分断开，也即与第二金属层240断开，从而第一金属层220上的电信号不会经由瑕疵点传到第二金属层240上，第二金属层240上的电信号也不会经由瑕疵点传到第一金属层220上，从而修补了第一金属层220和第二金属层240的短路，从而此种显示装置还可以正常使用，降低了生产成本。在本实施例中，初始金属层240的蚀刻可以一次制程进行蚀刻也可以分两次制程进行蚀刻，一次制程进行蚀刻时，瑕疵点的初始金属层240和未被光阻遮挡的初始金属层240可以同一制程中进行蚀刻；两次制程进行蚀刻时，未被光阻遮挡的初始金属层240(瑕疵点处的光阻还未打掉)首先进行蚀刻，其后，将瑕疵点处的光阻移除掉，然后对瑕疵点处的初始金属层240进行蚀刻。进而，在本实施例中，蚀刻初始金属层240的步骤具体包括：

蚀刻瑕疵点处的初始金属层240；

在本实施例中，通过蚀刻瑕疵点处的初始金属层240，从而可以修补第一金属层220和后续形成的第二金属层240的短路。

蚀刻除瑕疵点处之外且未被光阻遮住的初始金属层240以形成第二金属层240。

在本实施例中，通过蚀刻除瑕疵点处之外且未被光阻遮住的初始金属层240以图案化初始金属层240，以形成第二金属层240。

在本实施例中，由于修补显示装置中金属线路短路的方法包括：获得第一金属层220与初始金属层240短路的瑕疵点的信息，移除瑕疵点上的光阻层，蚀刻初始金属层240以形成第二金属层240。从而，第一金属层220和第二金属层240之间的短路已经进行了修补，从而此种显示装置还可以继续使用，从而降低了成本。

目前液晶显示装置驱动技术逐渐趋向于采用goa技术，goa技术能简化显示装置的制作工序，省去扫描线方向的接合(bonding)工艺，可提升产能、降低产品成本，同时可以提升显示面板的集成度使之更适合制作窄边框或无边框显示产品，满足现代人们的视觉追求。goa技术，即gatedriveronarray技术，也就是将栅极驱动器制作在阵列基板210上，在本实施例中，所述瑕疵点位于栅极驱动器所在的区域。

在本实施例中，所述方法还包括：在第二金属层240上形成钝化层；其后，还包括：在钝化层上形成像素电极层。

另外，在本实施例中，上述步骤s101-s109的步骤不限于与上述顺序，例如，s106、s107可以位于s105的前面。

需要说明的是，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其它实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。对于装置实施例而言，由于其与方法实施例基本相似，所以描述的比较简单，相关之处参见方法实施例的部分说明即可。

通过上述实施例的描述，本发明具有以下优点：

由于修补显示装置中金属线路短路的方法包括：获得第一金属层与初始金属层短路的瑕疵点的信息，移除瑕疵点上的光阻层，蚀刻初始金属层以形成第二金属层。从而，第一金属层和第二金属层之间的短路已经进行了修补，从而此种显示装置还可以继续使用，从而降低了成本。

以上所揭露的仅为本发明较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此依本发明权利要求所作的等同变化，仍属本发明所涵盖的范围。