阵列基板的制备方法与流程

文档序号:11252628阅读:来源:国知局
技术总结
本发明提供一种阵列基板的制备方法,包括:提供基板;在所述基板上形成栅绝缘层;在所述栅绝缘层上形成第一钝化层;在所述第一钝化层上形成有机层;在所述有机层上形成第一导体层;在所述第一导体层上沉积光刻胶;以所述光刻胶和所述第一导体层为双重掩模刻蚀所述有机层。本发明提供的阵列基板的制备方法,以光刻胶和导体层制成的硬掩模层为双重掩模进行刻蚀,降低了刻蚀难度,减少了对光刻胶的依赖,降低了工艺复杂性。

技术研发人员:刘清召;曹占锋;王久石;王珂;赵磊;路达;董水浪;王国强
受保护的技术使用者:京东方科技集团股份有限公司
文档号码:201710448475
技术研发日:2017.06.14
技术公布日:2017.09.15

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