一种硅片清洗装置的制作方法

本实用新型涉及清洗设备技术领域，具体为一种硅片清洗装置。

背景技术：

随着科学技术的发展，硅片的应用越来越广，在各种领域中都得到了应用，半导体器件生产中硅片须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效，清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面，有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维，无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。

清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种，硅片清洗时需要用到清洗装置，但是现有技术中的清洗装置普遍存在以下几点缺陷：1、清洗效率低下，无法将硅片的清洗过程生产线化，通常都是将硅片一起直接放置在清洗装置内，同一洗好后取出，然后再放置下一批硅片，十分浪费时间；2、待硅片清洗取出后还要对硅片进行甩干，先清洗后甩开的方式操作起来比较浪费人力和时间。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种硅片清洗装置，以解决上述背景技术中提出的问题。所述的硅片清洗装置具有可以同时实现清洗和烘干两个功能，不需要分步进行，非常节约时间，而且多个凹槽的设置，使得硅片的清洗和烘干过程生产线化，每个硅片插设进入凹槽后，随着环形板旋转一周，可以完成两次清洗和烘干，清洗效果更好，旋转一周后将硅片取出，直接放置下一块硅片进行清洗，省时省力，而且可以同时进行多个硅片的清洗工作，十分方便，非常值得推广的特点。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种硅片清洗装置，包括基板、中心柱、环形板、凹槽、喷嘴以及出气管，所述中心柱转动插设于基板中，所述中心柱远离基板一端固定有大齿轮，所述中心柱一侧设置有电动机，所述电动机的电机主轴上固定有小齿轮，所述小齿轮与大齿轮啮合联动；

所述中心柱在基板和大齿轮之间固定有连接杆，所述连接杆远离中心柱一端固定连接于环形板的内侧壁上，所述环形板中开设有若干凹槽，所述凹槽中设置有若干夹片板，每块所述夹片板均通过弹簧与凹槽内侧壁相连接，所述环形板在每个所述凹槽下方均开设有漏液孔；

所述环形板下方还设置有储液道，所述储液道固定于基板上，所述环形板的两侧对称设置有若干组安装柱，所述安装柱上安装有喷嘴或出气管；

所述基板上设置有水泵，所述水泵进水口连接于储液道上，水泵出水口连接于喷嘴上，所述基板上还设置有空气压缩机，所述空气压缩机的出气端连接于出气管。

优选的，所述安装柱设置有四组，竖直设置的两组安装柱上安装喷嘴，水平设置的两组安装柱上安装出气管。

优选的，所述凹槽开设有不少于个，且凹槽均匀分布于环形板中。

优选的，所述夹片板设置有四块，所述夹片板远离凹槽底壁的一端设置为倾斜面，且每两块相邻的所述夹片板之间相互垂直，四块所述夹片板之间围成插片区。

优选的，所述储液道与环形板形状相同，且储液道的内腔开口与漏液孔相互对应。

优选的，所述空气压缩机与出气管之间还连接有空气加热器。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型通过电动机带动环形板绕着中心柱完成转动，环形板上开设有多个用来插设硅片的凹槽，环形板的两侧设置有多组用来安装喷嘴和出气管的安装柱，喷嘴和出气管分别用来对凹槽内插设的待洗硅片进行清洗和烘干，并且环形板下方设置有用来收集回收清洗液的储液道，使得清洗液可以循环利用。

本实用新型中环形板一边带动凹槽进行旋转运动，一边使得凹槽内的硅片被喷嘴清洗后被出气管烘干，可以同时实现清洗和烘干两个功能，不需要分步进行，非常节约时间，而且多个凹槽的设置，使得硅片的清洗和烘干过程生产线化，每个硅片插设进入凹槽后，随着环形板旋转一周，可以完成两次清洗和烘干，清洗效果更好，旋转一周后将硅片取出，直接放置下一块硅片进行清洗，省时省力，而且可以同时进行多个硅片的清洗工作，十分方便，非常值得推广。

附图说明

图1为本实用新型结构俯视示意图；

图2为本实用新型A-A截面的断面图；

图3为本实用新型凹槽内部结构示意图；

图4为本实用新型B区结构放大示意图。

图中：1基板、2中心柱、3大齿轮、4电动机、5小齿轮、6连接杆、7 环形板、71漏夜孔、8凹槽、81夹片板、82弹簧、9插片区、10储液道、11 安装柱、12喷嘴、13出气管、14水泵、15空气压缩机、16空气加热器。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：

一种硅片清洗装置，包括基板1、中心柱2、环形板7、凹槽8、喷嘴12 以及出气管13，中心柱2转动插设于基板1中，使得中心柱2可以在基板1 中完成转动，中心柱2远离基板1一端固定有大齿轮3，中心柱2一侧设置有电动机4，电动机4的电机主轴上固定有小齿轮5，小齿轮5与大齿轮3啮合联动，使得电动机4可以带动中心柱2一起转动，而且大齿轮3安装在中心柱2上，小齿轮5安装在电动机4上，使得大齿轮3和小齿轮5的啮合可以使得中心柱2的转速远小于电动机4，并且可以自主调整转速来控制清洗过程时间长短。

中心柱2在基板1和大齿轮3之间固定有连接杆6，连接杆6远离中心柱 2一端固定连接于环形板7的内侧壁上，连接杆6用来将环形板7固定于中心柱2上，连接杆6设置有四根，均匀的固定于中心柱2上，使得中心柱2带动环形板7转动时可以更加稳定，环形板7中开设有若干凹槽8，凹槽8开设有不少于4个，可以根据一次需要清洗的硅片数量和硅片大小来设定，且凹槽8均匀分布于环形板7中，使得每两个凹槽8之间的距离相同，环形板7 的侧壁可以设置的比中间高，这样就可以有效的防止清洗液喷洒出去造成浪费。

凹槽8中设置有若干夹片板81，每块夹片板81均通过弹簧82与凹槽8 内侧壁相连接，使得夹片板81可以对不同尺寸大小的硅片进行夹持，方便调节，夹片板81用来对待洗硅片进行夹持，夹片板81设置有四块，四块夹片板81中的每两块相邻的夹片板81之间相互垂直，使得四块夹片板81之间围成插片区9，插片区9就是用来插接硅片，而且夹片板81远离凹槽8底壁的一端设置为倾斜面，倾斜面的设置，使得硅片在插接时，不需要对夹片板81 进行人工拨动，直接将待洗硅片向插片区9内插设，当插片区9大小不够插设待洗硅片时，硅片就会对夹片板81的倾斜面进行挤压，从而对弹簧82提供一个力，使得插片区9区域扩大，从而夹持住待洗硅片，环形板7在每个凹槽8下方均开设有漏液孔71，使得对硅片进行清洗的清洗液顺着硅片流下时，从漏夜孔71流出，从而方便对清洗液进行循环利用。

环形板7下方还设置有储液道10，储液道10固定于基板1上，储液道 10与环形板7形状相同，使得储液道10位于环形板7的正下方，且储液道 10的内腔开口与漏液孔71相互对应，在能够很好的完成对漏夜孔71内流下清洗液的回收任务时，减小储液道10的占地面积，节约储液道10的制作材料，非常有效，环形板7的两侧对称设置有若干组安装柱11，安装柱11上安装有喷嘴12或出气管13，安装柱11设置有四组，竖直设置的两组安装柱11 上安装喷嘴12，水平设置的两组安装柱11上安装出气管13，安装柱11上安装喷嘴12和出气管13的方式采用间隔安装的方式，这样的设置也就可以在环形板7完成一个圆周转动时，可以对硅片进行先后两次清洗和烘干，提高了清洗效率，使得清洗效果更好，而且喷嘴12的喷液方向朝着环形板7，出气管13的出气方向也必须朝着环形板7的方向，使得清洗液可以直接对硅片进行高压清洗，也可以使得烘干气体可以直接对清洗后的硅片进行直接烘干。

基板1上设置有水泵14，水泵14进水口连接于储液道10上，水泵14出水口连接于喷嘴12上，水泵14用来抽取储液道10内的清洗液，从而使得清洗液可以循环利用，基板1上还设置有空气压缩机15，空气压缩机15的出气端连接于出气管13，空气压缩机15与出气管13之间还连接有空气加热器16，空气压缩机15压缩空气后，通过空气加热器16加热后，向出气管13内输送，从而对硅片进行气流烘干，水泵14、空气压缩机15和空气加热器16均连接于外接电源。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。