本实用新型涉及一种半导体设备,尤其涉及一种提升化学气相沉积工艺设备的传送盘使用寿命的装置。
背景技术:
LAMC3VECTOR设备工艺是在腔体内的高温环境下,通过对特定的工艺气体在等离子体增强条件下在硅片表面进行化学气相沉积形成薄膜。它的特点是成膜速度快,薄膜均匀度好。
成膜过程是由四个气体喷嘴完成,每个气体喷嘴成膜25%。晶圆由承载环承载,承载环再通过传送盘携带,顺时针旋转来完成整个成膜过程中的传送部分。
现有工艺中的风险是晶圆在腔体内传送过程中传送盘一共有三个位置:升起位;传送位;降下位。
1.升起位:
位置过高,在传送过程中晶圆及承载环会刮蹭到气体喷嘴,过低则会导致传送盘刮蹭到底座。
2.传送位:
位置过高或过低会导致晶圆传送过程中,传送盘在高速状态放开承载环。晶圆与承载环有轻微的碰撞,从而导致晶圆损坏。
3.降下位:
位置过高会导致传送盘没有完全放开承载环,反之则会蹭到底座,导致传送盘变形。
为了确保以上三个位置都在可控范围内,因此已定义为生产维修(PM)中的检测设备检测项目。维护时使用专属的校准工具来量取传送盘与底座之间的高度。(Spec:0.120~0.160英寸)但由于PM过程中会涉及到升降温,从而导致传送盘形变。当形变量超出0.120~0.160英寸规格后,必须更换传送盘来确保以上三个位置都在可控范围内。当此情况发生时,会产生人力和零部件损耗。
技术实现要素:
本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术的缺陷,提供一种简单方便并能调节承载环传送高度的提升化学气相沉积工艺设备的传送盘使用寿命的装置。
本实用新型为解决上述技术问题采用以下技术方案:
一种提升化学气相沉积工艺设备的传送盘使用寿命的装置,其特征在于:所述传送盘包括:
一中心转动部,水平设置,呈十字型,每个十字型连接端设置有十字型连接端螺纹孔;
四个连接部,水平设置,与对应的十字型连接端适配,包括连接部连接端螺纹孔、连接部连接端调节螺纹孔、两个弧形侧面和弧形侧面上设置的高度固定柱;
四个调整块,设置有定位螺钉、调整块螺纹孔、调节螺钉和调节螺纹孔;
所述调整块、连接部、中心转动部从上到下依次经定位螺钉穿过调整块螺纹孔、连接部连接端螺纹孔和十字型连接端螺纹孔连接;调节螺钉依次穿过调节螺纹孔和连接部连接端调节螺纹孔,所述调节螺钉底端与所述中心转动部上表面相接触。
为了进一步优化上述技术方案,本实用新型所采取的技术措施为:
优选的,根据权利要求1所述的提升化学气相沉积工艺设备的传送盘使用寿命的装置,其特征在于:所述十字型连接端螺纹孔设置有四个。
优选的,所述连接部连接端螺纹孔设置有四个。
更优选的,所述调整块螺纹孔和连接部连接端调节螺纹孔设置有四个。
优选的,所述调节螺纹孔设置有两个。
优选的,所述十字型连接端设置有至少一个的长方体凹槽。
更优选的,所述连接部底端设置有与所述长方体凹槽适配的至少一个的长方体凸起。
再优选的,所述十字型连接端螺纹孔设置于长方体凹槽上;所述连接部连接端螺纹孔设置于所述长方体凸起上。
再优选的,所述长方体凹槽上设置有至少一个十字型连接端螺纹孔。
再优选的,所述高度固定柱为条状。
本实用新型采用以上技术方案,与现有技术相比,具有如下技术效果:
本实用新型将传送盘分割成两个部分:与马达连接的中心转动部和承载承载环的连接部。两个部分衔接处由三块固定面板,定位螺钉及调节螺钉组成。可通过调节螺钉调节连接部的高度,调节至0.120~0.160英寸,再使用定位螺钉将其调整完的位置固定,从而确保其在运动过程中不会有晃动。此设计可大大减少因传送盘形变而无法继续使用必须更换而产生的人力和零件耗损。
附图说明
图1为本实用新型的一种优选实施例的传送盘的结构示意图;
图2为本实用新型的一种优选实施例的连接部的结构示意图;
图3为本实用新型的一种优选实施例的中心转动部、连接部和调整块的连接关系示意图;
其中的附图标记为:
1中心转动部;2连接部;3调整块;11十字型连接端;12十字型连接端螺纹孔;13长方体凹槽;21连接部连接端螺纹孔;22连接部连接端调节螺纹孔;23弧形侧面;24高度固定柱;25长方体凸起;31定位螺钉;32调整块螺纹孔;33调节螺钉;34调节螺纹孔。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的技术方案做进一步的详细说明。
图1为本实用新型的一种优选实施例的传送盘的结构示意图;图2为本实用新型的一种优选实施例的连接部的结构示意图;图3为本实用新型的一种优选实施例的中心转动部、连接部和调整块的连接关系示意图。
如图1-3所示,本实施例的提升化学气相沉积工艺设备的传送盘使用寿命的装置,所述传送盘包括:
一中心转动部1,水平设置,呈十字型,每个十字型连接端11设置有十字型连接端螺纹孔12;
四个连接部2,水平设置,与对应的十字型连接端11适配,包括连接部连接端螺纹孔21、连接部连接端调节螺纹孔22、两个弧形侧面23和弧形侧面23上设置的高度固定柱24;
四个调整块3,设置有定位螺钉31、调整块螺纹孔32、调节螺钉33和调节螺纹孔34;
所述调整块3、连接部2、中心转动部1从上到下依次经定位螺钉31穿过调整块螺纹孔32、连接部连接端螺纹孔21和十字型连接端螺纹孔12连接;调节螺钉33依次穿过调节螺纹孔34和连接部连接端调节螺纹孔22,所述调节螺钉33底端与所述中心转动部1上表面相接触。
上述实施例的具体工作流程为:
先将所述调整块3、连接部2、中心转动部1上的调整块螺纹孔32、连接部连接端螺纹孔21和十字型连接端螺纹孔12对准,将定位螺钉31穿过调整块螺纹孔32、连接部连接端螺纹孔21和十字型连接端螺纹孔12,先不旋紧;再将调节螺钉33依次穿过调节螺纹孔34和连接部连接端调节螺纹孔22,所述调节螺钉33底端与所述中心转动部1上表面相接触;调节螺钉33与调节螺纹孔34和连接部连接端调节螺纹孔22螺纹连接,将调整块3和连接部2连接到一起,但调节螺钉33不和中心转动部1连接,而是抵在中心转动部1上表面,通过旋转调节螺钉33即可调整与中心转动部1间的距离,从而调节连接部2的高度,而连接部2与承载环适配,承载环承载在高度固定柱24上,晶圆放置在承载环上,通过调节连接部2的高度来调节高度固定柱24的高度,从而实现调节承载环的高度的目的。
进一步的,在一种较佳的实施例中,所述十字型连接端螺纹孔12设置有四个。
更进一步的,在一种较佳的实施例中,所述连接部连接端螺纹孔21设置有四个。
再进一步的,在一种较佳的实施例中,所述调整块螺纹孔32设置有四个。
进一步的,在一种较佳的实施例中,所述调节螺纹孔34和连接部连接端调节螺纹孔22设置有两个。
进一步的,在一种较佳的实施例中,所述十字型连接端11设置有至少一个的长方体凹槽13。
再进一步的,在一种较佳的实施例中,所述连接部2底端设置有与所述长方体凹槽13适配的至少一个的长方体凸起25。
更进一步的,在一种较佳的实施例中,所述十字型连接端螺纹孔12设置于长方体凹槽13上;所述连接部连接端螺纹孔21设置于所述长方体凸起25上。
更进一步的,在一种较佳的实施例中,所述调整块螺纹孔32有13个,12个分3排4列分布,还有一个设置于两个调节螺纹孔34中间组成一排。
还有,进一步的,在一种较佳的实施例中,所述长方体凹槽13上设置有至少一个十字型连接端螺纹孔12。
并且,进一步的,在一种较佳的实施例中,所述高度固定柱24为条状。
带长方体凹槽的的具体工作流程为:
先将所述调整块3、连接部2、中心转动部1上的调整块螺纹孔32、连接部连接端螺纹孔21和十字型连接端螺纹孔12对准,将定位螺钉31穿过调整块螺纹孔32、连接部连接端螺纹孔21和十字型连接端螺纹孔12,先不旋紧;再将调节螺钉33依次穿过调节螺纹孔34和连接部连接端调节螺纹孔22,所述调节螺钉33底端与所述中心转动部1上表面相接触;调节螺钉33与调节螺纹孔34和连接部连接端调节螺纹孔22螺纹连接,将调整块3和连接部2连接到一起,但调节螺钉33不和中心转动部1连接,而是抵在中心转动部1上表面,通过旋转调节螺钉33即可调整与中心转动部1间的距离,从而调节连接部2的高度,而连接部2与承载环适配,承载环承载在高度固定柱24上,晶圆放置在承载环上,通过调节连接部2的高度来调节高度固定柱24的高度,从而实现调节承载环的高度的目的。在长方体凹槽13上设置有不止一个的十字型连接端螺纹孔12时,每个长方体凹槽13的间隔位置是相等的,长方体凹槽13设置为3个-5个,在需要将中心转动部1和连接部2连接形成的环形圈进行内径调整时,将相邻的两个连接部2的长方体凸起25与长方体凹槽13错开连接,即只将部分长方体凹槽13与长方体凸起25适配,其余的不连接,这样能实现环形圈的内径的调整;当然也可以将长方体凹槽13上的十字型连接端螺纹孔12设置成竖排的2个-5个,当需要进行长度调整时,只将长方体凹槽13一部分十字型连接端螺纹孔12与连接部连接端螺纹孔21连接,部分十字型连接端螺纹孔12并不连接,错位螺钉连接,这样能方便调节长度。
综上所述,将传送盘分割成两个部分:与马达连接的中心转动部和承载承载环的连接部。两个部分衔接处由三块固定面板,定位螺钉及调节螺钉组成。可通过调节螺钉调节连接部的高度,调节至0.120~0.160英寸,再使用定位螺钉将其调整完的位置固定,从而确保其在运动过程中不会有晃动。长方体凹槽上设置的十字型连接端螺纹孔能使连接部与中心转动部的连接位置进行变化,使连接部与中心转动部形成的环形圈的内径和面积也一并发生改变,此设计可大大减少因传送盘形变而无法继续使用必须更换而产生的人力和零件耗损。
以上对本实用新型的具体实施例进行了详细描述,但其只作为范例,本实用新型并不限制于以上描述的具体实施例。对于本领域技术人员而言,任何对该实用进行的等同修改和替代也都在本实用新型的范畴之中。因此,在不脱离本实用新型的精神和范围下所作的均等变换和修改,都应涵盖在本实用新型的范围内。