一种花篮结构的制作方法

本实用新型涉及太阳能电池技术领域，更具体地说，本实用新型涉及一种花篮结构。

背景技术：

随着全球能源的需求日益增加和传统化石能源的日趋枯竭，太阳能电池在全球能源供应方面所占比重越来越大。目前以硅片为主体的电池是太阳能电池领域的主流产品，而硅片的碱腐、制绒、清洗工艺是整个晶硅电池制造工艺中最为基础的制作工艺，是做好晶硅电池的基础。

清洗花篮是硅片碱腐、制绒、清洗工艺过程中必不可少的载体，目前常用的清洗花篮的类型主要包括卡槽式和点接触式两种。如图1所示，卡槽式清洗花篮主要包括以下几部分结构：侧板101，卡槽102，底部支撑103。如图2所示，点接触式清洗花篮主要包括以下几部分结构：侧板202、横杆203、锯齿205、底部支撑204。

上述两种花篮在使用过程中需要分别将硅片插入到相邻卡槽102或相邻锯齿205之间，在卡槽式清洗花篮中通过卡槽102将硅片的两侧边缘位置隔离固定，在点接触式清洗花篮中通过锯齿205将硅片的两侧边缘位置隔离固定；由于硅片为平板形状，为了最大化利用硅料硅片在太阳能电池制造过程中越来越薄片化，而只隔离、固定硅片的两端边缘位置的话，硅片在溶液中或离开溶液时由于受到水表面张力的作用很容易造成硅片的粘连，从而容易导致碱腐、制绒过程中硅片的制绒不均匀，以及清洗过程中硅片的粘连处清洗不干净和有溶液残留等问题，进而影响成品的形貌及器件的性能；另外，如果增加卡槽102和锯齿205间距以达到避免硅片粘连问题，但是这样会减少单个花篮的转载量，降低产能。

综上所述，现有的清洗花篮具有以下缺陷：

1、做薄硅片易粘连，导致碱腐、制绒、化学抛光过程中硅片的制绒不均匀，以及清洗过程中硅片的粘连处清洗不干净和有溶液残留等问题，进而影响成品的形貌及器件的性能；

2、增加硅片间距之后造成花篮长度增加，设备槽体提价增大；对花篮材料、设备材料、水、化学品用量更多对环境不友好，电池制造成本也会有所提升；

3、花篮齿做成倾斜状的时候对硅片上料自动化插片时会产生困扰，不易实现自动化上下料。

因此，本领域技术人员亟需提供一种花篮结构，解决做薄硅片易粘连，导致碱腐、制绒、化学抛光过程中硅片的制绒不均匀，以及清洗过程中硅片的粘连处清洗不干净和有溶液残留等问题，提高成品的形貌及器件的性能。

技术实现要素：

为了克服现有技术的上述缺陷，本实用新型的提供一种花篮结构，解决做薄硅片易粘连，导致碱腐、制绒过程中硅片的制绒不均匀，以及清洗过程中硅片的粘连处清洗不干净和有溶液残留等问题，提高成品的形貌及器件的性能。

为实现上述目的，本实用新型提供一种花篮结构，包括左侧板、右侧板、底杆、第一固定齿杆、第二固定齿杆、第一可旋动齿杆以及第二可旋动齿杆；所述左侧板和右侧板之间的底部连接有表面光滑的底杆，所述底杆用于承载硅片的底部，所述第一固定齿杆和第二固定齿杆固定安装在所述左侧板和右侧板之间且用于隔离和固定硅片，所述第一可旋动齿杆和第二可旋动齿杆可做水平方向上预设距离的位移运动，以带动所述硅片从竖直状态调整为倾斜状态。

优选的，所述第一可旋动齿杆或第二可旋动齿杆包括外部齿杆、滑动轴承以及内部螺杆，所述内部螺杆的其中一端部设有用于连接所述左侧板的螺纹结构，另一端部设有用于带动内部螺杆旋转的手柄，所述滑动轴承为两个，同时安装在外部齿杆和内部螺杆之间且位于所述内部螺杆的左右两侧，所述外部齿杆的外表面具有若干锯齿。

优选的，所述外部齿杆的两端分别具有凸台结构用于容纳滑动轴承。

优选的，所述凸台结构的外表面具有一条形限位凸起部。

优选的，所述左侧板上设有用于容纳所述凸台结构的凹形腔体和用于容纳所述螺纹结构的螺纹腔体。

优选的，所述凹形腔体内设有与条形限位凸起部相适配的条形限位凹槽；当所述内部螺杆的螺纹结构旋转时，带动所述外部齿杆的条形限位凸起部沿着所述凹形腔体的条形限位凹槽做水平方向的运动。

优选的，花篮结构还包括压杆，所述压杆可拆卸的安装在所述左侧板和右侧板的顶部，以防止硅片上浮。

优选的，所述压杆的两端均具有手柄结构且其下表面具有若干锯齿结构。

优选的，当所述硅片调整为倾斜状态时，所述硅片和右侧板之间形成1～10°的夹角。

优选的，所述第一固定齿杆、第二固定齿杆、第一可旋动齿杆、第二可旋动齿杆以及压杆上的锯齿呈菱形、鲨鱼鳍型或矩形结构。

本实用新型的技术效果和优点：

1、本实用新型通过将硅片从竖直状态调整为倾斜状态，改善硅片在花篮里的角度，在清洗过程中始终保持倾斜状态，在溶液里由于重力作用硅片会统一向一侧倾斜，硅片与硅片之间的距离就是齿杆上齿与齿之间的距离，从而避免硅片之间的粘连；

2、在上下料时，插硅片实现硅片与侧板保持平行状态，便于实现自动化上料及下料，插片完毕通过可旋动齿杆将硅片调整成统一倾斜角度，达到更好的清洗效果；同时，不改变现有花篮的主体结构，可以通用当前机台。

附图说明

图1为现有技术中卡槽式清洗花篮的结构示意图；

图2为现有技术中点接触式清洗花篮的结构示意图；

图3为本实用新型中花篮结构的结构示意图；

图4为图3中花篮结构的左视角的结构示意图；

图5为图3中花篮结构的右视角的结构示意图；

图6为第一可旋动齿杆或第二可旋动齿杆的结构示意图；

图7为第一可旋动齿杆或第二可旋动齿杆的爆炸图；

图8为本实用新型中左侧板的结构示意图；

图9为本实用新型中右侧板的结构示意图。

附图标记为：

10、左侧板；11、凹形腔体；12、螺纹腔体；13、条形限位凹槽；14、弧形槽；20、右侧板；30、第一固定齿杆；40、第二固定齿杆；50、底杆；60、第一可旋动齿杆；61、外部齿杆；611、凸台结构；612、限位凸起部；62、滑动轴承；63、内部螺杆；70、第二可旋动齿杆；80、压杆、90、硅片。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图3-5所示的一种花篮结构，包括左侧板10、右侧板20、底杆50、第一固定齿杆30、第二固定齿杆40、第一可旋动齿杆60、第二可旋动齿杆70以及压杆80。

其中，左侧板10和右侧板20之间的底部连接有表面光滑的底杆50，底杆50用于承载硅片90的底部，底杆50可以为一根或两根，表面无锯齿结构。第一固定齿杆30和第二固定齿杆40固定安装在左侧板10和右侧板20之间且用于隔离和固定硅片90。第一可旋动齿杆60和第二可旋动齿杆70可做水平方向上预设距离的位移运动，以带动硅片90从竖直状态调整为倾斜状态。压杆80可拆卸的安装在左侧板10和右侧板20的顶部，以防止硅片90上浮。

本实用新型通过将硅片从竖直状态调整为倾斜状态，改善硅片在花篮里的角度，在清洗过程中始终保持倾斜状态，在溶液里由于重力作用硅片会统一向一侧倾斜，硅片与硅片之间的距离就是齿杆上齿与齿之间的距离，从而避免硅片之间的粘连。

值得说明的是，本实用新型中的硅片可以是晶圆或是其他半导体材料，本实用新型对清洗/制绒对象不做限定，本领域技术人员可根据需要进行选择。

如图6-7所示，第一可旋动齿杆60或第二可旋动齿杆70包括外部齿杆61、滑动轴承62以及内部螺杆63，内部螺杆63的其中一端部设有用于连接左侧板10的螺纹结构，螺纹结构的长度可根据需要而设定。另一端部设有用于带动内部螺杆63旋转的手柄，此外，滑动轴承62为两个，同时安装在外部齿杆61和内部螺杆63之间且位于内部螺杆63的左右两侧，外部齿杆61的外表面具有若干锯齿。

具体的，本实施例中，外部齿杆61的两端分别具有凸台结构611用于容纳滑动轴承62，两个凸台结构611的外表面具有一条形限位凸起部612。

如图8-9所示，左侧板10上设有用于容纳凸台结构的凹形腔体11和用于容纳螺纹结构的螺纹腔体12。凹形腔体11内设有与条形限位凸起部612相适配的条形限位凹槽13；当内部螺杆63的螺纹结构旋转时，带动外部齿杆61的条形限位凸起部612沿着凹形腔体的条形限位凹槽13做水平方向的运动。

本实施例中的压杆80的两端均具有手柄结构且其下表面具有若干锯齿结构，左侧板10和右侧板20的顶部设有用于放置压杆80的弧形槽14。

当硅片90竖直状态调整为倾斜状态时，硅片和右侧板之间形成1～10°的夹角。

本实施例中的第一固定齿杆30、第二固定齿杆40、第一可旋动齿杆60、第二可旋动齿杆70以及压杆80上的锯齿呈菱形、鲨鱼鳍型、矩形、圆柱或多边形等结构，锯齿的结构和形状在此不做限定，本领域技术人员根据需要进行选择。

本实用新型的工作原理为:

1.当上料时，硅片90与左侧板10或右侧板20保持平行竖直状态，当所有硅片90插入齿间距内，安装压杆80，以防止硅片90在溶液中上浮。

2.浸泡至溶液内，旋动第一可旋动齿杆60和/或第二可旋动齿杆70，当内部螺杆63端部的螺纹结构往左侧板旋进时，在滑动轴承62的作用下，带动外部齿杆61的条形限位凸起部612沿着凹形腔体11的条形限位凹槽13做水平方向的运动，使第一可旋动齿杆60和/或第二可旋动齿杆70产生预设长度的位移，从而硅片90和右侧板20之间形成1～10°的夹角，避免硅片之间的粘连。

3.当下料时，硅片90与左侧板10或右侧板20保持平行竖直状态，拆卸压杆80，对所有硅片90进行下料。

综上所述，在上下料时，插硅片实现硅片与侧板保持平行状态，便于实现自动化上料及下料，插片完毕通过可旋动齿杆将硅片调整成统一倾斜角度，达到更好的清洗效果；同时，不改变现有花篮的主体结构，可以通用当前机台。

最后，以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。