一种显示器的制备方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及计算机硬件技术领域，特别是涉及一种显示器的制备方法。
【背景技术】
[0002] 显示器的概念还没有统一的说法，但对其认识却大都相同，顾名思义它应该是将 一定的电子文件通过特定的传输设备显示到屏幕上再反射到人眼的一种显示工具。从广 义上讲，街头随处可见的大屏幕、电视机、BSV液晶拼接的荧光屏、手机和快译通等的显示 屏都算是显示器的范畴，一般指与电脑主机相连的显示设备。它的应用非常广泛，大到卫 星监测，小至看V⑶，可以说在现代社会里，它的身影无处不在，其结构一般为圆型底座加机 身，随着彩显技术的不断发展，出现了一些其他形状的显示器，但应用不多。如申请号为CN 102637577A公开了一种显示器的制备工艺件的制备方法，能提高显示器件制备的成品率， 但是这种技术的显示器没有设有氧化物保护层，不能有效防止因为屏幕高压放电带来的危 害，以及不能有效提高屏幕的发光效率低问题。
【发明内容】
[0003] 针对现有技术上存在的不足，本发明提供一种新的显示器的制备方法。
[0004] 为实现本发明的目的，本发明的技术方案如下： 一种显示器的制备方法，该显示器包括基板、显示器件层和氧化物保护层，所述基板上 进行显示器件层的制备，然后，再在显示器件层上采用间歇式通氧工艺制备氧化物保护层， 其中，所述氧化锌保护层含有掺杂成分，其组分及质量百分比为：纳米中空纤维管氧化镁 38%-45%，纳米氧化锌颗粒27%-33%，8 6元素5-8%，0&元素6%-13%，余量为碳化硅颗粒。
[0005] 优选的，所述基板为玻璃基板或者ITO涂覆的玻璃基板。
[0006] 优选的，所述显示器件层在真空条件下通过双面粘结材料、或单面粘结材料、或利 用静电将超薄玻璃基板贴附于基板上。
[0007] 优选的，所述间歇式通氧工艺分为两个阶段：进行无氧生长阶段，生长时间为 30-480S;通入氧气30-480S，氧气的通入量为30-50SCCM，进行有氧生长阶段。这种间歇式 通氧工艺能制备出较为致密的氧化物保护层。
[0008] 优选的，所述无氧生长和所述有氧生长的方法为离子镀法、电子束蒸镀法、溅射法 或化学气相沉积法。
[0009] 优选的，所述氧化物保护层的厚度为300-500nm。
[0010] 有益效果：本发明提供了一种新的显示器的制备方法，其制得的显示器能有效防 止高压放电和发光效率低问题。
[0011] 下面结合具体实施例对本发明作进一步说明。
【具体实施方式】
[0012] 为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合
【具体实施方式】，进一步阐述本发明。
[0013] 实施例1: 一种显示器的制备方法，显示器包括基板、显示器件层和氧化物保护层，所述基板上进 行显示器件层的制备，然后，再在显示器件层上采用间歇式通氧工艺制备氧化物保护层，所 述氧化锌保护层含有掺杂成分，其组分及质量百分比为：纳米中空纤维管氧化镁39%，纳米 氧化锌颗粒29%，Be元素6%，Ca元素8%，余量为碳化娃颗粒。
[0014] 实施例2 : 一种显示器的制备方法，显示器包括基板、显示器件层和氧化物保护层，所述基板上进 行显示器件层的制备，然后，再在显示器件层上采用间歇式通氧工艺制备氧化物保护层，所 述氧化锌保护层含有掺杂成分，其组分及质量百分比为：纳米中空纤维管氧化镁40%，纳米 氧化锌颗粒27%，Be元素6%，Ca元素7%，余量为碳化娃颗粒。
[0015] 实施例3: 一种显示器的制备方法，显示器包括基板、显示器件层和氧化物保护层，所述基板上进 行显示器件层的制备，然后，再在显示器件层上采用间歇式通氧工艺制备氧化物保护层，所 述氧化锌保护层含有掺杂成分，其组分及质量百分比为：纳米中空纤维管氧化镁43%，纳米 氧化锌颗粒30%，Be元素7%，Ca元素10%，余量为碳化娃颗粒。
[0016] 经过以上工艺处理后，获得以下结果：
【主权项】
1. 一种显示器的制备方法，该显示器包括基板、显示器件层和氧化物保护层，其特征在 于，所述基板上进行显示器件层的制备，然后，再在显示器件层上采用间歇式通氧工艺制备 氧化物保护层，所述氧化锋保护层含有惨杂成分，其组分及质量百分比为；纳米中空纤维管 氧化镇38%-45%，纳米氧化锋颗粒27%-33%，Be元素5- 8%，Ca元素6%-13%，余量为碳化 娃颗粒。
2. 根据权利要求1所述的显示器的制备方法，其特征在于，所述基板为玻璃基板或者 ITO涂覆的玻璃基板。
3. 根据权利要求1所述的显示器的制备方法，其特征在于，所述显示器件层在真空条 件下通过双面粘结材料、或单面粘结材料、或利用静电将超薄玻璃基板贴附于基板上。
4. 根据权利要求1所述的显示器的制备方法，其特征在于，所述间歇式通氧工艺分为 两个阶段；进行无氧生长阶段，生长时间为30-480S ;通入氧气30-480S，氧气的通入量为 30- 50SCCM，进行有氧生长阶段。
5. 根据权利要求1或4所述的显示器的制备方法，其特征在于，所述无氧生长和所述有 氧生长的方法为离子锻法、电子束蒸锻法、姗射法或化学气相沉积法。
6. 根据权利要求1所述的显示器的制备方法，其特征在于，所述氧化物保护层的厚度 为 300-500 nm。
【专利摘要】本发明提供了一种显示器的制备方法，该显示器包括基板、显示器件层和氧化物保护层，所述基板上进行显示器件层的制备，然后，再在显示器件层上采用间歇式通氧工艺制备氧化物保护层，所述氧化锌保护层含有掺杂成分，其组分及质量百分比为：纳米中空纤维管氧化镁38%-45%，纳米氧化锌颗粒27%-33%，Be元素5-8%，Ca元素6%-13%，余量为碳化硅颗粒；显示器件层在真空条件下通过双面粘结材料、或单面粘结材料、或利用静电将超薄玻璃基板贴附于基板上，在真空条件下可以有效提高粘附效果，封装性好，间歇式通氧工艺分为两个阶段：进行无氧生长阶段，生长时间为30-480s，显示器有效防止高压放电和发光效率低的问题。
【IPC分类】H01L21-02
【公开号】CN104599951
【申请号】CN201510011977
【发明人】肖守柏
【申请人】江西科技学院
【公开日】2015年5月6日
【申请日】2015年1月12日