用于制造严密密封的腔的设备和方法

文档序号:8324049阅读:446来源:国知局
用于制造严密密封的腔的设备和方法
【技术领域】
[0001] 不同的实施例涉及用于制造严密密封的腔的设备和方法。
【背景技术】
[0002] 面状的有机器件、例如有机发光二极管或者有机光伏模块应被保护(封装)以免 有害材料侵入、例如以免氧和水侵入,否则会产生有机层的有机材料或者材料混合物的不 受控的老化或者退化。
[0003] 面状的器件的传统的封装方法是腔封装,其中腔玻璃借助于吸气剂粘接到面状的 器件上。该方法是相对昂贵的并且仅适合于机械刚性的面状的器件。
[0004] 此外通常用于面状的器件的是原位的薄层封装,其中薄的封装层直接在面状的器 件上制造(封装部)并且必要时也在器件下方的衬底上制造(阻挡部)。封装在此必须原 位进行从而延长了工艺流并且提高了关于构件的深加工。
[0005] 此外,具有阻挡薄膜的面状的构件的层叠是常用的。在此,通过下方的阻挡薄膜直 接粘接在上部的阻挡薄膜上的方式,面状的阻挡薄膜通常在构成保护边缘的条件下粘接到 面状的器件上和面状的器件下。阻挡薄膜例如是塑料薄膜,所述塑料薄膜设有例如由Si02、 SiN或者金属膜构成的阻挡层。然而在阻挡薄膜的棱边处,水和氧的侵入仅由层叠粘接剂限 制。然而迄今为止已知的粘接剂仅具有关于水和氧受限的密封性。此外,在层压的面状的 器件的边缘处产生在层压的构件的阻挡作用方面的薄弱部位,所述薄弱部位会导致边缘泄 漏。

【发明内容】

[0006] 在不同的实施方式中提供用于制造关于水和氧严密密封的腔的设备和方法,借助 于所述设备和方法例如可行的是,在没有传统的粘接剂的情况下以严密密封地封装对于水 和氧敏感的材料、材料混合物或者具有阻挡薄膜的器件。
[0007] 在本说明书的范围中,能够不考虑相应的聚集态将有机材料理解成以化学一致的 形式存在的、特征在于特征性的物理和化学特性的碳化合物。此外,在本说明书的范围中, 能够不考虑相应的聚集态将无机材料理解成以化学一致的形式存在的、特征在于特征性的 物理和化学特性的不具有碳的化合物或单碳化合物。在本说明书的范围中,能够不考虑相 应的聚集态将有机-无机材料(杂化材料)理解成以化学一致的形式存在的、特征在于特 征性的物理和化学特性的具有包含碳的化合物部分和不具有碳的化合物部分的化合物。在 本说明书的范围中,术语"材料"包括全部上述材料,例如有机材料、无机材料和/或杂化材 料。此外,在本说明书的范围中,能够如下理解材料混合物:组成部分由两种或更多种不同 的材料构成,其组成部分例如非常精细地分布。将由一种或多种有机材料、一种或多种无机 材料或一种或多种杂化材料组成的材料混合物或材料理解为材料类。术语"物质"能够与 术语"材料"同义地应用。
[0008] 借助于用于原子层沉积(ALD:atomiclayerdeposition)的方法在不同的技术领 域中可复现地制造非常薄的功能层,例如在光学中、在半导体生产中并且在光电子学中。
[0009] 在术语"原子层沉积"下已知如下方法,其中,为了制造层,将为此所需要的原材料 (前驱体)并非同时地、而是相继交替地输送给在也称作为反应器的、具有待覆层的衬底的 覆层室中。原始材料在此能够交替地聚集在待覆层的衬底的表面上或者之前已聚集的原始 材料上从而形成一种化学化合物。由此可行的是,对于每次重复循环、即对于在相继的子步 骤中输送必要的原材料,分别最多生长单层的待施加的层。借助于循环的数量可以良好地 控制层厚度。首先输送的原始材料仅聚集在待覆层的表面上并且随后输送的第二原始材料 才能够与第一原始材料形成化学反应。原材料的化学反应借助于表面上的反应参与者的数 量来限制、即自限制。
[0010] 类似的自限制性的表面反应能够用于构成有机膜、例如聚合物膜、例如聚酰胺。有 机膜的这种构成能够被称作为分子层沉积(molecularlayerdepositionMLD),因为每次 循环,分子的一部分就被施加在表面上。MLD前驱体能够具有同双官能的反应物,换句话说, 原材料能够分别具有两个相同的官能团。每个层的自终止的MLD反应能够借助于异双官能 的反应物构成,也就是说,每个原材料具有两个不同的官能团。官能团中的一个能够与表面 的化学基团反应并且官能团中的另一个不能与其反应。异双官能的反应物由此能够仅单官 能地构成从而防止彼此间的双重反应,所述双重反应例如能够导致聚合物链的终止。
[0011] 除了异双官能的反应物,双重反应还能够借助于掩蔽的或者受保护的官能性来实 现,其中掩蔽的或者受保护的官能性仅在反应时开放。
[0012] 存在多个开环反应,所述开环反应产生羟基(-0H)、胺基(_NH2)或者羧基 (-C00H)。环氧环例如能够与胺基基团在衬底表面上进行反应,以便产生羟基基团。环状氮 杂硅烷(zyklischesAzasilan)、例如2, 2-二甲氧基-1,6-二氮杂-2-娃杂环辛烧,能够与 衬底表面上的羟基基团产生胺基基团。环状碳酸酯、例如碳酸乙烯酯能够与衬底表面上的 胺基基团产生羟基基团。
[0013] 有机聚合物和有机无机混合聚合物的分子层沉积也能够借助于三阶段法来构成。 三阶段法能够提高分子层沉积的灵活性并且包括不同的有机成分。附加地,能够借助于三 阶段法提高可能的异双官能的反应物的不同组合的数量,所述异双官能的反应物能够用于 限定MLD法。三阶段法的一个实例例如是三甲基铝、乙醇胺和马来酸酐的序列反应。该方 法具有金属烷基反应物、异双官能的反应物和开环反应物。该三阶段的方法避免双重反应 的可能性并且能够引起非常鲁棒的且线性的分子层生长。其它可行的具有异双官能的反应 物、开环反应物和带有掩蔽的或者受保护的官能性的反应物的三阶段方法能够实现用于有 机的MLD膜和有机无机的混合MLD膜的分子层沉积的广泛可行性。此外,通常具有四个或 更多个阶段的方法也是可行的。四阶段法的一个实例例如能够具有三甲基铝/水/二甲基 甲氧基氯硅烷/水以产生聚二甲基硅氧烷膜(硅酮)。
[0014] 借助于ALD和MLD能够实现非常一致的层生长,其中具有大的长宽比的表面也能 够被均匀地覆盖。
[0015] 在不同的实施方式中,提供一种设备,所述设备具有:第一载体,所述第一载体用 至少一种ALD前驱体和/或至少一种MLD前驱体占据;第二载体,所述第二载体用与第一 载体的ALD前驱体和/或MLD前驱体互补的至少一种ALD前驱体和/或至少一种MLD前驱 体占据;其中第一载体与第二载体至少部分地借助于第一载体的ALD前驱体和第二载体的 ALD前驱体之间的或者第一载体的MLD前驱体和第二载体的MLD前驱体之间的原子键合部 来连接,使得形成ALD层或者MLD层。
[0016] 在一个设计方案中,第一载体能够机械弹性地构成。
[0017] 在又一个设计方案中,第一载体能够是面状的。
[0018] 在又一个设计方案中,第一载体能够具有在几何上复杂的三维形状。
[0019] 在又一个设计方案中,第一载体能够具有关于有害材料例如水和/或氧的扩散阻 挡部。
[0020] 在又一个设计方案中,第一载体的材料或者材料混合物能够具有关于有害材料例 如水和/或氧的固有的扩散阻挡部。
[0021] 在又一个设计方案中,第一载体能够具有第一系统载体和第一封装层或者由其形 成,并且第一载体的关于有害材料例如水和/或氧的扩散阻挡部能够借助于第一封装层构 成。系统载体在此能够被理解为自承式的衬底,例如薄膜或者玻璃衬底,其中系统衬底也能 够仅借助于封装层严密密封从而能够成为严密密封的载体。
[0022] 在又一个设计方案中,第一载体能够具有无机材料或者由其形成。
[0023] 在又一个设计方案中,第一载体的材料能够具有出自下述材料中的材料或合金: 铁、钢、错、铜、银、金、?巴、镁、钛、钼、镍、锡、锌。
[0024] 在又一个设计方案中,第一载体的材料能够具有出自下述的材料中的材料:玻璃、 石英玻璃、蓝宝石、碳化硅、石墨烯、金刚石。
[0025] 在又一个设计方案中,第一载体的材料
当前第1页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1