制备导电薄膜使用的磁控溅射装置中的沉积腔体隔板及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明技术涉及磁控溅射装置中的沉积腔体隔板，具体地说，是一种制备导电薄膜使用的柔性、连续型磁控溅射多阴极沉积装置中的隔板。
【背景技术】
[0002]柔性、连续型多阴极磁控溅射装置广泛应用于柔性显示器件、柔性智能触摸屏、柔性薄膜太阳能电池的制造中。柔性、连续型、多阴极磁控溅射装置中，使用隔板将各阴极之间隔离，一是减少相互间离子作用的影响；二是阻挡非朝向沉积基底面的沉积物，并将其吸附，以免对被沉积基底的影响。
[0003]使用参见图1所示的磁控溅射装置，进行柔性、连续型磁控溅射多阴极沉积成膜的过程，柔性透明基材从放卷腔Cl内的放卷辊Al上放出后依次经过镀膜腔C2内的第一至第六沉积室Dl~ D6、并经冷鼓BI卷绕冷却，被收卷腔C3内的收卷辊A2收卷。放卷腔、镀膜腔和收卷腔内的真空状态是相互隔离的，使用该装置进行磁控溅射得到的柔性透明导电薄膜可以是无限连续均匀的。第一至第六沉积室的隔板S1~S6将沉积室内各阴极之间隔离，一是减少相互间离子作用的影响；二是阻挡非朝向沉积基底面的沉积物，并将其吸附。各阴极的靶材可以是单晶硅、银、无氧高导电铜、半导体氧化物(掺钛氧化锌锡或铟锡等等。
[0004]传统使用的隔板为不锈钢，或铝材。不锈钢隔板由于其膨胀系数和沉积物相差较大，吸附至一定厚度后，因磁控溅射温度影响极易产生剥落，对沉积质量和阴极靶均会产生不良影响，为此经常需要停机开舱对隔板进行清洁，不但误工，而且开舱后恢复真空增大了能源消耗。若使用铝材，其成本相对较高，且硬度低，操作中极易变形，，对沉积质量产生一定的影响。
【发明内容】
[0005]本发明的目的是提供一种硬度高，不易变形，无需清洁，耐用性好，使用成本低，节约能耗的制备导电薄膜使用的磁控溅射装置中的沉积腔体隔板。
[0006]本发明所述的制备导电薄膜使用的磁控溅射装置中的沉积腔体隔板，包括不锈钢基板及附着在不锈钢基板内表面的铝膜，铝膜厚度约0.2-0.5mm ;不锈钢基板内表面和铝膜表面粗糙、凹凸不平。
[0007]上述的沉积腔体隔板，铝膜表面的峰谷差值约30-40um，峰距约40_50um。
[0008]上述的沉积腔体隔板，不锈钢基板厚度l_3mm。
[0009]本沉积腔体隔板的有益效果:1、成本低。相对铝基板，本隔板具有不锈钢基板，硬度高，不易变形、耐用，成本费用低。2、减少能源消耗。基板上附着一层与沉积物亲和力较好的铝膜，且铝膜表面粗糙、凹凸不平，增加接触面积；提高沉积物在其表面的亲和力。同时减少隔板的清洁，节省清洁费用、清洁消耗的能源；同时也减少使用该隔板的磁控溅射腔体开舱次数，降低开舱后真空恢复的能源消耗，提高工时利用率。
[0010]本发明同时提供了一种制备导电薄膜使用的磁控溅射装置中的沉积腔体隔板的制备方法，以该方法制备的沉积腔体隔板，基板与铝膜结合牢固，不易剥离，同时铝膜表面凹凸不平，提高沉积物在其表面的亲和力。
[0011]该制备导电薄膜使用的磁控溅射装置中的沉积腔体隔板的制备方法，包括下述步骤:
a、粗化:将作为基板的不锈钢板内侧表面采用喷砂处理，砂粒为金刚砂，使得不锈钢板内表面形成凹凸不平；
b、清洗:对经喷砂处理的不锈钢基板内侧表面清洗，以清除表面异物、杂质及粉尘；然后烘干；
c、覆膜:使用融射喷铝装置，对经喷砂处理的不锈钢基板内侧表面熔射喷镀一层铝膜，铝膜厚度约0.2-0.5mm ；
d、去应力:对覆膜后的不锈钢基板升温至210-230°C，然后自然降温，消除应力。
[0012]上述沉积腔体隔板的制备方法，金刚砂粒为330-370目。
[0013]上述沉积腔体隔板的制备方法，在步骤c后、步骤d前有步骤:d0、清洗:将覆膜后的不锈钢基板清洗，以清除表面异物、杂质及粉尘。
[0014]上述沉积腔体隔板的制备方法，步骤b所述清洗是采用超声波清洗机、并以纯净水为清洗液进行清洗。
[0015]上述沉积腔体隔板的制备方法，步骤b所述烘干是采用烘箱进行烘干处理，烘干温度200度，保温时间lOmin。
[0016]该制备方法的有益效果:
该方法，对不锈钢板基板在沉积腔体的内侧表面经过(喷砂)粗化处理，形成微细凹凸不平面，增加了与铝膜的接触面积，结合力增大。表面经过粗化处理后的不锈钢板隔板表面(通过融射)覆有铝薄膜层，制备快捷方便，且铝膜表面凹凸不平，提高沉积物在其表面的亲和力。经过去应力处理，隔板在高温的使用状态，不会变形。
【附图说明】
图1是磁控溅射装置示意图；
图2是沉积腔体隔板示意图。
【具体实施方式】
[0017]一种柔性、连续型磁控溅射多阴极沉积腔体隔板的制备。
[0018]隔板的基板材质为不锈钢，不锈钢基板厚度2.5mm。
[0019]基板靠腔体内侧表面的覆膜制成方法:
表面保护，将成型不锈钢基板内侧不需要粗化、覆膜部分使用胶带类覆盖，避免喷砂处理破坏表面；
表面粗化处理，将成型不锈钢基板内表面未经保护处经过粗化处理形成微细凹凸面，采用喷砂处理，沙粒为金刚砂，沙粒约为350目；参见图2，经喷砂处理后表面形成粗糙不平的凹凸面，其峰谷差值X约25-30um，峰距Y约30_45um。
[0020]清洗，将内侧表面经喷砂处理后的不锈钢基板采用超声波清洗机、以清洗液清洗，清洗液为纯净水，以清除表面异物、杂质及粉尘；
烘干，使用烘箱对清洗后工件作烘干处理，去除水分。烘干温度200度，时间lOmin。
[0021]覆膜，使用融射喷铝装置，在经过喷砂处理的表面熔射喷镀一层铝膜，铝膜厚度约
0.2-0.5mm;
清洗，将覆膜后的不锈钢基板采用超声波清洗机、以清洗液清洗，清洗液为纯净水，以清除表面异物、杂质及粉尘；
应力消除及烘干，使用自动升温降温烘箱对清洗后工件作烘干处理，去除水分及应力消除。应力消除及烘干温度最高220°C，保温lOmin，升降温时8_10°C /min。
[0022]以该方法制备的沉积腔体隔板参见图2，包括不锈钢基板I及附着在不锈钢基板内表面的铝膜2，铝膜2表面凹凸不平，其峰谷差值H约30-40um，峰距L约40-50um。本发明的有益效果:
1、柔性、连续型磁控溅射多阴极沉积腔体隔板基板为不锈钢板与铝膜的结合体；
2、不锈钢板基板在沉积室内侧表面经过(喷砂)粗化处理，形成微细凹凸面，增加接触面积。
[0023]3、表面经过粗化处理后的不锈钢板隔板表面(通过融射)覆有铝薄膜层，且铝膜表面凹凸不平，提高沉积物在其表面的亲和力。
【主权项】
1.制备导电薄膜使用的磁控溅射装置中的沉积腔体隔板，其特征是:它包括不锈钢基板及附着在不锈钢基板内表面的铝膜，铝膜厚度约0.2-0.5mm ;不锈钢基板内表面和铝膜表面粗糙、凹凸不平。2.如权利要求1所述的沉积腔体隔板，其特征是:铝膜表面的峰谷差值约30-40um，峰距约 40_50um。3.如权利要求1所述的沉积腔体隔板，其特征是:不锈钢基板厚度l_3mm。4.制备导电薄膜使用的磁控溅射装置中的沉积腔体隔板的制备方法，其特征是:它包括下述步骤: a、粗化:将作为基板的不锈钢板内侧表面采用喷砂处理，砂粒为金刚砂，使得不锈钢板内表面形成凹凸不平； b、清洗:对经喷砂处理的不锈钢基板内侧表面清洗，以清除表面异物、杂质及粉尘；然后烘干； c、覆膜:使用融射喷铝装置，对经喷砂处理的不锈钢基板内侧表面熔射喷镀一层铝膜，铝膜厚度约0.2-0.5mm ； d、去应力:对覆膜后的不锈钢基板升温至210-230°C，然后降温，消除应力。5.如权利要求4所述的沉积腔体隔板的制备方法，其特征是:金刚砂粒为330-370目。6.如权利要求4所述的沉积腔体隔板的制备方法，其特征是:在步骤c后、步骤d前有步骤:d0、清洗:将覆膜后的不锈钢基板清洗，以清除表面异物、杂质及粉尘。7.如权利要求4所述的沉积腔体隔板的制备方法，其特征是:步骤b所述清洗是采用超声波清洗机、并以纯净水为清洗液进行清洗。8.如权利要求4所述的沉积腔体隔板的制备方法，其特征是:步骤b所述烘干是采用烘箱进行烘干处理，烘干温度200度，保温时间lOmin。
【专利摘要】本发明提供一种硬度高，不易变形，无需清洁，耐用性好，使用成本低，节约能耗的制备导电薄膜使用的磁控溅射装置中的沉积腔体隔板，它包括不锈钢基板及附着在不锈钢基板内表面的厚度约0.2-0.5mm的铝膜，不锈钢基板内表面和铝膜表面粗糙、凹凸不平。本发明还提供了上述沉积腔体隔板的制备方法，将不锈钢板内侧表面采用喷砂处理，砂粒为金刚砂，使得不锈钢板内表面形成凹凸不平，然后清洗，以清除表面异物、杂质及粉尘；然后烘干；使用融射喷铝装置，对经喷砂处理的不锈钢基板内侧表面熔射喷镀一层铝膜；对覆膜后的不锈钢基板升温至210-230℃，然后自然降温，消除应力。以该方法制备的沉积腔体隔板，基板与铝膜结合牢固，不易剥离，提高沉积物在其表面的亲和力。
【IPC分类】H01B5/14, H01B13/00, C23C14/35
【公开号】CN104992780
【申请号】CN201510389433
【发明人】王鲁南, 王建华, 窦立峰
【申请人】南京汇金锦元光电材料有限公司
【公开日】2015年10月21日
【申请日】2015年7月6日