有机绝缘材料及包括其的柔性显示器的制造方法

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有机绝缘材料及包括其的柔性显示器的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及有机绝缘材料及包括其的柔性显示器,更具体地,涉及其中形成有包 括具有自愈能力的新的有机绝缘材料的有机绝缘膜的柔性显示装置。
【背景技术】
[0002] 最近开发了能够减少重量和体积(其为阴极射线管(CRT)的缺点)的各种显示装 置。这样的显示装置可包括例如液晶显示器(IXD)、场发射显示器(FED)、等离子显示面板 (TOP)和有机发光显示装置(0LED)。此外,出现了柔性显示装置,其使用柔性材料例如塑料 代替现有不具有柔性的玻璃基板来制造,使得虽然该柔性显示装置像纸一样弯曲,但仍保 持显示性能不变。
[0003] 所述柔性显示装置由多个薄膜晶体管元件和有机绝缘膜形成。所述有机绝缘膜包 含由诸如光敏丙烯酸类物质(PAC)、粘合剂和溶剂等组分形成的光敏树脂组合物。丙烯酸树 脂通常用作粘合剂。对于绝缘层,常规光敏树脂存在难以实现高透射率的问题,这是因为光 敏树脂在硬化后会着色。常规光敏树脂还存在硬化之后体积减少的问题。为了抑制这样的 着色或体积减少,使用了利用不含苯基官能团的单体的方法或者提高有机绝缘膜玻璃化转 变温度Tg的方法。这些方法的问题在于:显示装置的寿命降低,这是因为如果在完成的显 示装置中产生弯曲则在有机绝缘膜中产生裂纹,并且随着时间的推移所产生的裂纹会进一 步增长。

【发明内容】

[0004] 本发明的一个实施方案提供一种新的有机绝缘材料以及包括该新的有机绝缘材 料的柔性显示装置,所述新的有机绝缘材料能够使在有机绝缘膜中产生的裂纹愈合并且通 过形成包括新的有机绝缘材料的有机绝缘膜能够提高装置的寿命。
[0005] 在一个方面中,提供了包含具有肉桂酰基部分的丙烯酸类聚合物的有机绝缘材 料。
[0006] 在另一方面中,提供了一种柔性显示装置,该柔性显示装置包括:基板;在所述基 板上的薄膜晶体管;在所述薄膜晶体管上的有机绝缘膜;以及在所述有机绝缘膜上的像素 电极,其中所述有机绝缘膜包含有机绝缘材料,所述有机绝缘材料包含具有肉桂酰基部分 的丙烯酸类聚合物。
【附图说明】
[0007] 本发明包括附图来提供本发明的进一步理解,并且附图被并入并且构成本申请的 一部分,附图示出本发明的实施方案并与描述一起用于说明本发明的原理。
[0008] 图1为示出根据本发明一个实施方案的柔性显示装置的平面图。
[0009] 图2为示出根据本发明一个实施方案的柔性显示装置的子像素的截面图。
[0010] 图3A为示出根据本发明的实施方案1制造的有机绝缘膜的光学图案的照片;图 3B为示出根据本发明的实施方案7制造的有机绝缘膜的光学图案的照片;以及3C为示出 根据本发明的实施方案10制造的有机绝缘膜的光学图案的照片。
[0011] 图4A为示出根据本发明的实施方案7制造的有机绝缘膜的划痕的照片;图4B为 示出根据本发明的实施方案7制造的有机绝缘膜的SEM照片;图4C为示出未辐照光的区域 的划痕部分的放大的照片;以及图4D为示出辐照光的区域的划痕部分的放大的照片。
[0012] 图5为示出根据本发明的实施方案13至实施方案18制造的有机绝缘膜组合物的 照片。
[0013] 图6A为示出通过光学相机监测的根据本发明的对比例的有机绝缘膜的划痕的照 片;以及图6B为示出使用光学相机监测的根据本发明的实施方案18的有机绝缘膜的划痕 的照片。
【具体实施方式】
[0014] 在下文中,参照附图详细描述本发明的实施方案。
[0015] 图1为根据本发明一个实施方案的柔性显示装置的平面图;以及图2为示出根据 本发明一个实施方案的柔性显示装置的子像素的截面图。下面描述有机发光显示器作为根 据本发明一个实施方案的柔性显示装置的示例,但本发明不限于此。本发明可以应用于所 有的柔性显示装置,例如液晶显示器和电泳显示装置。
[0016] 参照图1,根据本发明一个实施方案的柔性显示装置100包括:设置在基板110上 的显示单元DA,该显示单元DA配置为在其中形成有多个子像素SP且显示图像。在基板110 上设置有驱动单元30,该驱动单元30用于将驱动信号施加至设置在显示单元DA内的多个 子像素SP。根据本发明一个实施方案的柔性显示装置100包括多个子像素SP,但为了便于 描述,下面仅描述单个子像素SP。
[0017] 参照图2,根据本发明一个实施方案的柔性显示装置100包括设置在基板110上的 栅电极115。栅电极115可以由选自钼(Mo)、铝(A1)、铬(Cr)、金(Au)、钛(Ti)、镍(Ni)和 铜(Cu)中任一者或其合金制成,并且可以具有单层或多层。在栅电极115上形成用于使栅 电极115绝缘的栅绝缘层120。栅绝缘层120可以由硅氧化物层(SiOx)或硅氮化物(SiNx) 或者上述两者的双层形成。基板110和栅绝缘层120两者可以由使如下波长范围的光透射 的材料制成,上述波长范围包括280nm,通常还包括显示装置100配置为在操作期间发射的 可见波段范围。
[0018] 在栅绝缘层120上对应于栅电极115设置半导体层125。半导体层125可以由非 晶硅制成或者可以由从非晶硅结晶的多晶硅制成。在一些实施方案中,半导体层125可以 由锌氧化物(ZnO)、铟锌氧化物(InZnO)、铟镓锌氧化物(InGaZnO)和锌锡氧化物(ZnSnO) 中任一者制成。此外,半导体层125可以由低聚物系列或聚合物系列有机物质制成,例如部 花青、酞菁、并五苯或噻吩聚合物。
[0019] 在半导体层125上设置连接至半导体层125的源电极130a和漏电极130b。源电 极130a和漏电极130b可以由选自钼(Mo)、铝(A1)、铬(Cr)、金(Au)、钛(Ti)、镍(Ni)和铜 (Cu)中任一者或其合金制成。此外,源电极130a和漏电极130b中的每一者可以具有双层。 该双层可以为由钼(Mo)/铝-钕、钼(M0)/铝(A1)、或钛(Ti)/铝(A1)制成的层。此外,源 电极130a和漏电极130b中的每一者可以具有多层。该多层可以为由钼(Mo) /铝-钕/钼 (M0)、或钛(Ti)/铝(A1)/钛(Ti)制成的层。
[0020] 此外,在包括栅电极115、半导体层125、源电极130a和漏电极130b的薄膜晶体管 T上设置有机绝缘膜140。有机绝缘膜140可以为用于减小下部结构的台阶并且还保护下部 结构的平坦化的膜。有机绝缘膜140包含有机绝缘材料作为正型或负型光敏有机绝缘膜。
[0021] 在根据本发明一个实施方案的有机绝缘膜140中包含的有机绝缘材料包含具有 肉桂酰基部分的丙烯酸类聚合物。稍后更详细地描述有机绝缘材料。
[0022] 在有机绝缘膜140上设置用于使源电极130a或漏电极130b的一部分露出的通 孔145。在有机绝缘膜140上设置电连接至源电极130a或漏电极130b的像素电极150。 像素电极150可以由能够使光透射的透明导电层形成,例如铟锡氧化物(IT0)、铟锌氧化物 (IZ0)、铟锡锌氧化物(ITZ0)、锌氧化物(ZnO)、铟镓锌氧化物(IGZnO)或石墨烯。在像素电 极150上设置堤坝层155,堤坝层155包括使像素电极150露出的开口 156。堤坝层155可 以为减小下部结构的台阶并且限定发光区的像素限定层。堤坝层155可以由与有机绝缘膜 140相同的材料制成,但不限于此。
[0023] 在像素电极150上设置发光层160。发光层160由发射白光的有机物制成,从而能 够发射白光。在所有的子像素中,发光层160形成在像素电极150上。因此,发光层160所 发射的光穿过滤色器,从而能够实现红光、绿光以及蓝光。此外,为了促进电子朝着发光层 160移动,还可以在发光层160与像素电极150之间包括电子注入层(EIL)和电子传输层 (ETL)中的一个或更多个。此外,为了促进空穴朝着发光层160移动,还可以在发光层160 与对电极170之间包括空穴注入层(HIL)和空穴传输层(HTL)中的一个或更多个。
[0024] 对电极170设置在包括发光层160的基板110上。对电极170可以由功函数低的 金属制成,例如铝(A1)、银(Ag)、镁(Mg)或钙(Ca)或其合金。此外,对电极170可以具有 §00I至20關I的厚度,使得发光层160可以发光。如上所述,根据本发明一个实施方 案的柔性显示装置100可以具有背发光结构,其中通过发光层160发射的光朝着在其中设 置有下部像素电极150的基板110发射。
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