改善了散热性及轻量化的2段式电容器用沉积膜的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及增大发热特性及自愈性的2段式电容器用沉积膜。
【背景技术】
[0002] 就非图案沉积膜而言，通常对沉积阻抗进行沉积并使用，但当在薄膜电介质中存 在WeakPoint时，瞬间发生PN极间短路，沉积的金属被炭化并消失，把恢复绝缘并继续保 持电容器功能的功能称为自愈（SelfHealing)。自愈的部分非常小，具有容量几乎不减小 的优点，但如果在WeakPoint未自愈，那么在PN极间，绝缘力下降，存在发生耐压不良的缺 点。图1是说明自愈现象（SelfHealing)的概念的图。图la的白色部分被炭化，是带有 非传导性的部分，如果在相向的部分被炭化，则在该区域实现自愈（与周边绝缘），成为非 活动区域。
[0003] 如果非图案沉积膜的电容器未自愈，则发生耐压不良，为了解决发生第二次灾害 的问题，内置了如下安全装置。如果薄膜电容器在发生自愈现象时未自愈，那么绝缘力下 降，在PN极间短路，薄膜熔融，在内部发生气体压力，压力熔丝（安全装置）断开，防止第二 次灾害。该方法虽然性能优秀，但需要内置压力熔丝所需的空间，存在尺寸增大、单价上升 的缺点。
【发明内容】
[0004](要解决的技术问题）
[0005] 就沉积膜而言，如果沉积阻抗低，则在WeakPoint发生自愈现象时，需要更多能 量，大能量在自愈时对电容器损害大，发生反复现象时，存在发生耐压不良的缺点，但如果 沉积阻抗低，则具有沉积金属不被氧化的优点。相反，如果沉积阻抗高，则自愈性优秀，在 WeakPoint自愈时，对电容器损害弱，具有电容器耐久性寿命延长的优点，但在处置高沉积 阻抗的沉积膜时，当暴露于外部潮气或长时间保管时，沉积阻抗被氧化，存在电容器耐久性 低下的问题。本发明旨在提供一种2段式电容器用沉积膜及电容器，以多段式实现，具有作 为当阻抗高时（厚度薄时）优秀的自愈性和阻抗低时的发热量减小及氧化现象减少的优 点。
[0006] 本发明旨在提供一种2段式电容器用沉积膜及电容器，不使用图案薄膜，而是在 使自愈性优秀的同时，能够减小电容器的温度上升，能够减小与自愈性增加成反比的因沉 积膜处置时沉积阻抗被氧化导致的电容器耐久性下降。
[0007] 本发明把着眼点置于全部解决如下问题而开发的，S卩，以往的图案薄膜电容器 (PatternFilmCapacitor)存在器材费及尺寸需要再增加4~10%的缺点，以及以往的非 图案薄膜电容器（NonPatternFilmCapacitor)如果不自愈（SelfHealing)，则发生耐压 不良，为了防止第二次灾害而内置安全装置，因而器材费上升及尺寸增大的问题。
[0008](解决问题的手段）
[0009] 一种2段式电容器用沉积膜，在沉积有金属且2片1组相向地重叠构成的电容器 用沉积膜中，
[0010] 上部沉积膜1〇〇与下部沉积膜200以薄膜的中心线为基准，以对称的形状相向地 摆放；
[0011] 上部沉积膜100的第1运转区域30和与所述上部沉积膜100在宽度方向上相向 地位于下部的下部沉积膜200的第1运转区域30相互不重叠地形成，形成有未重叠区域B， 在所述上部沉积膜100的第1运转区域30末端30a的下部，摆放有下部沉积膜200的第2 运转区域40;
[0012] "喷镀金属接触部10的宽度（W3) +第1运转区域30的宽度（W1) "为全体宽度（W) 的0. 3~0. 49倍；
[0013] 未重叠区域B的宽度满足
[0014] 未重叠区域⑶+ 2 = (0· 01~0· 2)X全体宽度（W)。
[0015](发明效果）
[0016] 根据本发明，提供一种多段式电容器用沉积膜及电容器，以2段式实现沉积膜，选 择性地具有作为当阻抗高时（厚度薄时）优秀的自愈性和阻抗低时的发热量减小及氧化现 象减少的优点。
[0017] 根据本发明，提供一种多段式电容器用沉积膜及电容器，不使用图案薄膜，而是借 助于较薄结构的第2运转区域（40,沉积阻抗高，自愈良好，耐压特性提高）而使自愈性优 秀，同时，借助于相对较厚的作为阻抗的第1运转区域（30,沉积阻抗低，电容器发热量减 少）而能够减小电容器的温度上升，能够减小与自愈性增加成反比的因沉积膜处置时沉积 部被氧化导致的电容器耐久性下降。
[0018] 根据本发明，提供一种多段式电容器用沉积膜及电容器，全部解决如下问题，即， 以往的图案薄膜电容器存在器材费及尺寸需要再增加4~10%的缺点，以及以往的非图案 薄膜电容器如果不自愈，则发生耐压不良，为了防止第二次灾害而内置安全装置，因而器材 费上升及尺寸增大的问题。
[0019] 以往技术在为了增加自愈性而提高金属沉积阻抗时，当暴露于外部潮气或长时间 保管时，金属沉积阻抗被氧化，存在阻抗值上升的问题，而就本技术而言，在金属沉积时，沉 积金属充分粘合于塑料薄膜，改善了以往在潮气下及长时间保管时被氧化的现象。
【附图说明】
[0020] 图1是自愈现象概念说明图。
[0021 ] 图2 (a,b)是以往技术的沉积膜构成图。
[0022] 图3a是本发明第1实施例的2段式电容器用沉积膜理想状态剖面图。
[0023] 图3b是本发明第1实施例的2段式电容器用沉积膜实际状态剖面图。
[0024] 图4是以往的图案薄膜剖面图。
[0025] 符号说明
[0026] 1:电介质 la: -侧端
[0027]lb:另一侧端 10:喷镀金属接触部
[0028] 20:边缘部 30:第1运转区域
[0029] 30a:末端 40:第2运转区域
[0030] 100:上部沉积膜200:下部沉积膜
[0031]A:运转区域 B:未重叠区域
[0032]t:沉积厚度 W:全体宽度
【具体实施方式】
[0033] 下面参照附图，对本发明一个实施例的多段式电容器用沉积膜及电容器进行详细 说明。图2是以往技术的沉积膜构成图，图3是本发明第1实施例的多段式电容器用沉积膜 剖面图。在本发明中，喷镀金属接触部作为惯用语，与Heavy Edge Area或下降部分通用。
[0034] 如图1至图3所示，本发明一个实施例的多段式电容器用沉积膜涉及沉积有金属 且2片1组相向地重叠构成的电容器用沉积膜。在电介质1的宽度方向一侧端la，通过金 属沉积而形成有与电容器的喷镀金属（熔丝金属部，即，介于汇流条与电介质的侧面之间 的恪丝金属部，metalizedcontact)通电的喷镀金属接触部10,在所述电介质1的宽度方 向另一侧端1b，形成有未沉积金属的边缘部20。在喷镀金属接触部10与边缘部20之间沉 积金属，形成有运转区域A。运转区域A沉积成从所述喷镀金属接触部10越向边缘部20， 沉积厚度越逐渐变薄的多段形状。
[0035] 如图1至图3所示，本发明一个实施例的2段式电容器用沉积膜，在电介质1的宽 度方向一侧端la，通过金属沉积而形成有与电容器的喷镀金属通电的喷镀金属接触部10 ; 在所述电介质1的宽度方向另一侧端lb，形成有未沉积金属的边缘部20,在所述喷镀金属 接触部10与边缘部20之间沉积金属，形成有运转区域A;而且，运转区域A由第1运转区 域和第2运转区域40构成，所述第1运转区域30位于电介质1的宽度方向一侧，邻接所述 喷镀金属接触部10,所述第2运转区域40位于电介质1的宽度方向另一侧，邻接所述边缘 部20 ;第2运转区域40的沉积厚度t2比所述第1运转区域30的沉积厚度tl薄。
[0036] 在本发明实施例的2段式电容器用沉积膜中，沉积金属是在铝、锌或铝与锌合金、 铝与锌与铜合金、或者铝与锌与银合金中选择的一种。另外，所述喷镀金属接触部10的沉 积金属是在铝、锌、铝与锌合金、铝与锌与铜合金、铝与锌与银合金中选择的一种，第1运转 区域30及第2运转区域40的沉积金属是在铝、铝与锌合金、铝与锌与银合金中选择的一 种。
[0037] 如图3(a，b)所示，在本发明第1实施例的2段式电容器用沉积膜中，上部沉积膜 100与下部沉积膜200以对称的形状，以薄膜的中心线为基准相向地摆放，上部沉积膜100 的第1运转区域30和与所述上部沉积膜100在宽度方向上相向地位于下部的下部沉积膜 200的第1运转区域30相互不重叠地形成，形成有未重叠区域B，在所述上部沉积膜100的 第1运转区域30末端30a的下部，摆放有下部沉积膜200的第2运转区域40。优选"喷镀 金属接触部10的宽度（W3) +第1运转区域30的宽度（W1) "超过10mm，"喷镀金属接触部 10的宽度（