一种柔性显示基板及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明属于柔性显示领域，具体涉及一种柔性显示基板，及其柔性显示基板结构，以及该柔性显示基板的制造方法。
【背景技术】
[0002]柔性显示装置是通过在柔性基板上形成若干个显示元件来制造，通常在制造过程中需先将柔性基板通过粘结剂贴合到一个刚性基板上，使得柔性基板在后续的制程中保持良好的平整度。待各种后续制程完成后，再将柔性基板从刚性基板上分离，从而完成柔性显示装置的制备。
[0003]例如，图1是传统柔性显示装置的制备流程图，首先提供一刚性基板S11，为了制造柔性显示装置，在刚性基板上形成粘结层S12，接着在粘结层上沉积形成或贴付一层柔性基板S13，在柔性基板表面上形成显示元件S14，最后将刚性基板与柔性基板进行分离S15，由此完成柔性显示装置的制造。
[0004]然而，在传统柔性显示装置制备过程中，由于采用聚对二甲苯等传统有机粘结剂，该类材料在后续显示元件制备过程中，由于制程温度影响，材料的稳定性下降，产生鼓气现象，影响柔性基板平整度。柔性基板若出现鼓泡现象，可导致显示元件的膜层不平整，影响显示元件的电性，继而影响良率。
【发明内容】
[0005]为解决上述技术问题，本发明一方面提供了一种柔性显示基板，该柔性显示基板包括:柔性基板；设置在所述柔性基板第一表面上的显示元件；以及设置在所述柔性基板第二表面上的离型层结构，所述离型层结构包括至少一层离型层；所述离型层为含有分子间氢键的无机物材料。
[0006]可选地，所述无机物材料为氮化硅，且所述氮化硅材料中分子间氢键的含量为8mol % ?lGmol %。
[0007]可选地，所述离型层的厚度为10?lOOnm。
[0008]本发明另一方面还提供了一种柔性显示基板结构，所述基板结构包括支撑载体、柔性显示基板，其中，所述柔性显示基板采用上述的柔性显示基板；所述离型层结构位于所述柔性基板和所述支撑载体之间。
[0009]可选地，所述离型层结构还包括至少一层阻水层，并且至少一层所述阻水层与所述柔性基板直接结合。
[0010]可选地，在所述离型层结构中，至少一层所述离型层与所述支撑载体直接结合。[0011 ] 可选地，在所述离型层结构中，所述离型层和所述阻水层交替设置。
[0012]可选地，所述阻水层的厚度为10?300nm。
[0013]可选地，所述阻水层包括无机物材料。
[0014]可选地，所述阻水层包括二氧化硅。
[0015]本发明再一方面提供了一种柔性显示基板的制造方法，所述柔性显示基板的制造方法包括以下步骤:提供一支撑载体；在所述支撑载体上形成离型层结构，所述离型层结构包括至少一层离型层，其中，所述离型层为含有分子间氢键的无机物材料；在所述支撑载体上形成柔性基板，所述离型层结构形成于所述柔性基板和所述支撑载体之间；在所述柔性基板远离所述支撑载体的一侧形成显示元件；对所述离型层结构进行光照，将所述柔性基板从所述的支撑载体上剥离。
[0016]可选地，所述将所述柔性基板从所述的支撑载体上剥离包括，对所述支撑载体远离所述柔性基板的表面进行光照。
[0017]可选地，所述光照为激光照射，并且所述激光照射的能量为200?350mj/cm2。
[0018]可选地，所述在所述支撑载体上形成离型层结构包括:所述离型层通过PECVD方法沉积形成。
[0019]可选地，在所述沉积过程中，将原料3迅、順3和1引入沉积室中进行反应，所述沉积室内的反应温度在350摄氏度?450摄氏度范围内，反应压强在1.5Torr?2.5Torr范围内，以及引入所述原料3迅、順3和1的流速摩尔比为1:5:20?1:4:12。
[0020]可选地，所述在所述支撑载体上形成离型层结构包括:至少形成一层阻水层，并且至少一层所述阻水层与所述柔性基板直接结合。
[0021]可选地，至少一层所述离型层与所述支撑载体直接结合。
[0022]可选地，所述在所述支撑载体上形成离型层结构包括:所述离型层和所述阻水层交替形成。
[0023]可选地，所述阻水层包括无机物材料。
[0024]可选地，所述阻水层包括二氧化硅。
[0025]可选地，所述在所述柔性基板远离所述支撑载体的一侧形成显示元件包括:在所述支撑载体上制作有机发光二极管显示器件。
[0026]采用本发明的柔性显示基板及其结构和制造方法，其中的离型层采用含有分子间氢键的无机物材料，当其接受足够能量的光照辐射时，材料中的分子间氢键被破坏，氢元素溢出，造成离型层破碎从而转变成被剥离的结构，实现柔性基板的剥离；一方面，该离型层不会在后续的制作过程中因温度的影响产生气泡，从而可以保证柔性基板在整个柔性显示装置的制作过程中保持平整；另一方面，离型层的剥离过程也不会影响到柔性基板上的显示元件等；可以大大提高柔性显示装置的良率；再者，离型膜的成膜操作简单，且造价比现有技术的有机粘结剂低，可以节约成本。
【附图说明】
[0027]图1为现有技术中传统柔性显示装置的制备流程图；
[0028]图2为根据本发明实施例1的柔性显示基板的剖视示意图；
[0029]图3为根据本发明实施例1的柔性显示基板结构的剖视示意图；
[0030]图4为根据本发明实施例1的柔性显示基板的制造方法中的剥离步骤的示意图；
[0031]图5为根据本发明实施例2的离型层结构的剖视示意图。
【具体实施方式】
[0032]以下将结合附图所示的【具体实施方式】对本发明进行详细描述。但这些实施方式并不限制本发明，本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本发明的保护范围内。
[0033]现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本发明将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略对它们的重复描述。
[0034]所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本发明的实施方式的充分理解。然而，本领域技术人员应意识到，没有特定细节中的一个或更多，或者采用其它的方法、组元、材料等，也可以实践本发明的技术方案。在某些情况下，不详细示出或描述公知结构、材料或者操作以避免模糊本发明。
[0035]本文中所述的“形成于/位于/设置在/在…(之)上”应当理解为包括直接接触的“形成于/位于/设置在/在…(之)上”和不直接接触的“形成于/位于/设置在/在…(之)上”。
[0036]本发明的附图仅用于示意相对位置关系和电连接关系，某些部位的层厚采用了夸示的绘图方式以便于理解，附图中的层厚并不代表实际层厚的比例关系。
[0037]实施例1
[0038]如图2所示，为根据本发明实施例1的柔性显示基板200的剖视示意图，包括柔性基板203 ;
[0039]设置在所述柔性基板203第一表面(即如图2所示的上表面)上的显示元件204;以及
[0040]设置在所述柔性基板第二表面(即如图2所示的下表面)上的离型层结构202，
[0041]离型层结构202包括至少一层离型层2021 ；
[0042]离型层2021为含有分子间氢键的无机物材料。
[0043]本实施例所提供的柔性显示基板的离型层2021为含有分子间氢键的无机物材料，具有很好的粘着力，易与柔性基板或其他载体结合，制程简单，且不会在后续的制作过程中因温度的影响产生气泡，保证了显示器件在制作过程中的平整性要求。另一方面，离型层2021在光照的条件下容易剥离，能够实现柔性基板和其他载体的快速分离。
[0044]可选的，在本实施例中，离型层2021所使用的无机物材料为含有分子间氢键的氮化娃材料，且该