像素阵列及其掩模结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明是有关于一种像素阵列及其掩模结构，且特别是有关于一种像素阵列的像素排列方式及其掩模结构。
【背景技术】
[0002]传统上，有机发光二极管的面板制作是利用精细金属掩模(fine metal mask ；FMM)隔开不同子像素，并通过蒸镀达成红光、绿光及蓝光的排列方式。目前主要的两种像素排列方式，一种是以红色像素、绿色像素及蓝色像素不断重复排列的条状(stripe)排列，其每英寸像素(pixel per inch ；ppi)以现有的金属掩模模式发展最高可达到257ppi。基于现有的像素排列方式下，由于精细金属掩模(FMM)的尺寸具有一定限制，因此，要达到增加面板的像素密度及分辨率的难度也随之增加。基于上述，如何提高面板的像素密度及分辨率为目前积极研究的重要课题之一。
【发明内容】
[0003]本发明提供一种像素阵列及其掩模结构，可用以提高有机发光二极管面板的像素密度及分辨率。
[0004]本发明的像素阵列包括基板、至少两个第一颜色子像素、至少两个第二颜色子像素以及至少两个第三颜色子像素。所述基板包括第一区域、第二区域以及第三区域。第一区域的长边与第三区域的长边之间的夹角为60度至120度，且第二区域的长边与所述第三区域的长边之间的夹角为60度至120度。至少两个第一颜色子像素沿着第一区域的长边方向而设置于第一区域中。至少两个第二颜色子像素沿着第二区域的长边方向而设置于第二区域中。至少两个第三颜色子像素沿着第三区域的长边方向而设置于第三区域中，其中，第一区域内的其中一个第一颜色子像素、第二区域内的其中一个第二颜色子像素以及第三区域内的其中一个第三颜色子像素构成一像素单元。
[0005]本发明另提供一种像素阵列，包括基板、多个第一颜色子像素、多个第二颜色子像素以及多个第三颜色子像素。所述基板具有多个第一区域、多个第二区域以及多个第三区域，以排列成多行以及多列。每一第一区域设置有至少两个第一颜色子像素；每一第二区域设置有至少两个第二颜色子像素；以及每一第三区域设置有至少两个第三颜色子像素，其中，第一行的排列依序为第一区域、第二区域以及第三区域，第二行的排列依序为第三区域、第一区域以及第二区域，第三行的排列依序为第一区域、第二区域以及第三区域。任相邻两行之中的任三个邻接的第一区域、第二区域以及第三区域中的其中一个第一颜色子像素、其中一个第二颜色子像素以及其中一个第三颜色子像素构成一像素单元。
[0006]本发明另提供一种掩模结构，包括板材、第一遮蔽图案以及第二遮蔽图案。所述板材具有多个第一区域、多个第二区域以及多个第三区域。第一区域的长边与第三区域的长边之间的夹角为60度至120度，且第二区域的长边与第三区域的长边之间的夹角为60度至120度。第一遮蔽图案对应第一区域设置。第二遮蔽图案对应第二区域设置，其中所述板材的多个第三区域为一开口图案。
[0007]基于上述，本发明的像素阵列是于基板上的第一区域、第二区域以及第三区域中分别设置了至少两个第一颜色子像素、至少两个第二颜色子像素以及至少两个第三颜色子像素，且各区域之间的排列方式及夹角做了特殊的设计。因此，本发明可以在符合现有精细金属掩模的限制下制作出更高像素密度(ppi)及分辨率的像素阵列。
[0008]为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附图式作详细说明如下。
【附图说明】
[0009]图1A以及图1B为本发明一实施例中像素阵列的示意图。
[0010]图2为本发明一实施例中各子像素的等效电路图。
[0011]图3为本发明一实施例中第一区域的两个子像素的剖面示意图。
[0012]图4A以及图4B分别为本发明一实施例中像素阵列的列、行示意图。
[0013]图5A以及图5B为本发明一实施例中像素阵列的像素单元的排列方式的示意图。
[0014]图6为本发明另一实施例中像素阵列的示意图。
[0015]图7为本发明一实施例中掩模结构的示意图。
[0016]符号说明:
[0017]100:基板
[0018]600:板材
[0019]Rl、Rbl 第一区域
[0020]R2、Rb2:第二区域
[0021]R3、Rb3:第三区域
[0022]C1:第一颜色子像素
[0023]C2:第二颜色子像素
[0024]C3:第三颜色子像素
[0025]Ll、L2、L3、Lbl、Lb2、Lb3:长边
[0026]Wl、W2、W3、Wb 1、Wb2、Wb3:短边
[0027]angl、ang2:夹角
[0028]CP:接触点
[0029]PU:像素单元
[0030]PU1:第一像素单元
[0031]HJ2:第二像素单元
[0032]PU3:第三像素单元
[0033]PU4:第四像素单元
[0034]T1、T2:薄膜晶体管
[0035]C:电容器
[0036]DL:数据线
[0037]SL:扫描线
[0038]PL:电源线
[0039]SgL:信号线
[0040]OLED:有机发光二极管
[0041]DE:驱动元件
[0042]PV:覆盖层
[0043]EL1:第一电极
[0044]EL2:第二电极
[0045]LEL:发光层
[0046]S:间隙区域
[0047]Ml:第一遮蔽图案
[0048]M2:第二遮蔽图案
[0049]Op:开口图案
【具体实施方式】
[0050]图1A、图1B为本发明一实施例中像素阵列的示意图。请同时参照图1A及图1B，本实施例的像素阵列包括设置于基板100上的至少两个第一颜色子像素C1、至少两个第二颜色子像素C2以及至少两个第三颜色子像素C3。所述基板100包括多个第一区域R1、多个第二区域R2以及多个第三区域R3。在本实施例中，第一区域R1的长边L1与短边W1之间的比例为2:1，第二区域R2的长边L2与短边W2之间的比例为2:1，且第三区域R3的长边L3与短边W3之间的比例为2:1。于图1A、图1B的实施例中，第一区域R1的短边W1与第三区域R3的长边L3切齐，连接成一直线，但本发明不限于此。另外，基于现有精细金属掩模(FMM)的尺寸限制，第一区域R1、第二区域R2以及第三区域R3的宽度为40微米。然，本发明不限定第一区域R1、第二区域R2以及第三区域R3的比例以及尺寸。举例来说，为了因应不同的像素单元排列，使用者可对上述第一区域R1、第二区域R2以及第三区域R3的比例及尺寸进行调整以达到下文所提出的技术效果。
[0051]于本实施例中，第一区域R1的长边L1与第三区域R3的长边L3之间的夹角angl为60度至120度，较佳为90度至120度。第二区域R2的长边L2与第三区域R3的长边L3之间的夹角ang2为60度至120度，较佳为90度至120度。如图1A、图1B的实施例所示，第一区域R1的长边L1与第三区域R3的长边L3之间的夹角angl较佳为90度，而第二区域R2的长边L2与第三区域R3的长边L3之间的夹角ang2较佳为90度，但是本发明不限于此。另外，第一区域R1的长边L1与X方向之间的夹角为Θ，第二区域R2的长边L2与X方向之间的夹角为Θ，且第三区域R3的长边L3与X方向之间的夹角为90-Θ，其中Θ大于0且小于90度。于图1A、图1B的实施例中，所述夹角Θ为45度，但本发明不限于此。
[0052]另外，在第一区域R1中，至少两个第一颜色子像素C1是沿着第一区域R1的长边L1方向设置。于第二区域R2中，至少两个第二颜色子像素C2是沿着第二区域R2的长边L2方向设置。于第三区域R3中，至少两个第三颜色子像素C3是沿着第三区域R3的长边L3方向设置。虽然于图1A及图1B中，仅针对其中一个第一区域R1、其中一个第二区域R2以及其中一个第三区域R3各自标示了两个子像素(C1、C2、C3)，但值得注意的是，图1A及图1B的各个相同图案标示的区域亦会有相同的结构。也就是说，每一个第一区域R1、每一个第二区域R2以及每一个第三区域R3中都至少会有两个相对应的子像素(R1对应两个Cl，R2对应两个C2，且R3对应两个C3)。在本实施例中，第一颜色子像素C1可为红色像素、第二颜色子像素C2可为蓝色像素而第三颜色子像素C3可为绿色像素。但是本发明不限于此，本领域技术人员可依据需求而选择合适的子像素颜色来设置于第一区域R1、第二区域R2或是第三区域R3中。
[0053]接着