Oled像素图案蒸镀方法及系统的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及0LED显示技术领域，特别是涉及一种0LED像素图案蒸镀方法及系统。
【背景技术】
[0002]0LED(Organic Light-Emitting D1de，有机发光二极管)显示技术具有自发光的特性，采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基板，因其具有显示屏幕可视角度大，并且能够节省电能的优势，已广泛应用于手机、数码摄像机、DVD机、个人数字助理(PDA)、笔记本电脑、汽车音响和电视等产品中。在传统的0LED像素图案蒸镀技术中，利用精细金属掩膜版(FMM)通过开孔将有机材料蒸镀至玻璃基板上，以形成像素图案。
[0003]然而，由于市场对显示屏提出了越来越高的分辨率要求，显示屏的像素图案越来越密集。那么在传统的0LED像素图案蒸镀技术中，设计的FMM开孔的密度也越来越大，从而使得传统的0LED像素图案蒸镀技术由于FMM的工艺限制而不能够满足高分辨率的要求。
【发明内容】
[0004]基于此，针对上述传统的0LED像素图案蒸镀技术由于FMM的工艺限制而不能够满足高分辨率的要求的问题，本发明提供一种0LED像素图案蒸镀方法及系统，能够提高显示屏的分辨率。
[0005]—种0LED像素图案蒸镀方法，用于向TFT背板蒸镀像素图案，所述TFT背板包括基板、薄膜晶体管阵列及透明的阳极，所述阳极和薄膜晶体管阵列分布于所述基板的正面，且所述阳极的表面为待蒸镀像素图案的分布区域;所述0LED像素图案蒸镀方法包括:
[0006]将所述TFT背板置于所述有机材料上方，且所述阳极面向所述有机材料；
[0007]用激光向所述基板的背面扫描，且所述激光扫描的区域至少包括所述阳极覆盖的所有区域。
[0008]在其中一个实施例中，还包括:将所述有机材料涂布于平台基板上。
[0009]在其中一个实施例中，还包括:在所述TFT背板上方设置激光器。
[0010]在其中一个实施例中，所述像素图案包括若干子像素图案，所述阳极表面为待蒸镀子像素图案的分布区域，且用激光向所述基板的背面扫描的步骤前还包括:
[0011 ]在所述激光器和所述TFT背板之间设置包括若干开孔的光刻掩膜版;其中，各所述开孔均对应同种颜色的子像素图案的分布区域，所述开孔的面积大于对应子像素图案分布区域的面积，且所述开孔的面积小于或等于位于与所述对应子像素图案相邻的所有子像素图案之间的区域的面积。
[0012]在其中一个实施例中，在所述激光器和所述TFT背板之间设置包括若干开孔的光刻掩膜版的步骤后还包括:调整所述光刻掩膜版的位置，使得所述开孔对准颜色与所述有机材料颜色一致的子像素图案的分布区域。
[0013]在其中一个实施例中，所述像素图案包括若干子像素图案，所述阳极表面为待蒸镀子像素图案的分布区域，用激光向所述基板的背面扫描的步骤前还包括:
[0014]在所述TFT背板的背面涂布光刻胶；
[0015]利用光刻掩膜版对所述光刻胶进行曝光及显影，且所述光刻掩膜版的图形，满足使得所述光刻胶中溶于显影液的各区域均对应同种颜色的子像素图案分布区域的条件。
[0016]在其中一个实施例中，所述光刻胶中溶于显影液的所有区域对应的子像素图案的颜色与所述有机材料的颜色一致。
[0017]一种0LED像素图案蒸镀系统，用于向TFT背板蒸镀像素图案，所述0LED像素图案蒸镀系统包括用于涂布有机材料的平台基板、TFT背板及激光器;所述TFT背板包括基板、薄膜晶体管阵列及透明的阳极，所述阳极和薄膜晶体管阵列分布于所述基板的正面，且所述阳极表面为待蒸镀像素图案的分布区域；
[0018]所述激光器，在所述阳极面向所述有机材料时，用激光向所述基板的背面扫描，且所述激光扫描的区域至少包括所述阳极覆盖的所有区域。
[0019]在其中一个实施例中，所述像素图案包括若干子像素图案，所述阳极表面为待蒸镀子像素图案的分布区域;在所述激光器和TFT背板之间还设有包括若干开孔的光刻掩膜版;其中，各所述开孔均对应同种颜色的子像素图案的分布区域，所述开孔面积大于对应子像素图案分布区域的面积，且所述开孔的面积小于或等于位于与所述子像素图案相邻的所有子像素图案之间的区域的面积。
[0020]在其中一个实施例中，所述像素图案包括若干子像素图案，所述阳极表面为待蒸镀子像素图案的分布区域;所述0LED像素图案蒸镀系统还包括光刻掩膜版、曝光设备及显影设备，且在所述TFT背板的背面涂布光刻胶;所述曝光设备，用于将所述光刻掩膜版与所述TFT背板对准并曝光;所述显影设备，用于将所述光刻胶显影;所述光刻掩膜版的图形，满足使得所述光刻胶中溶于显影液的各区域均对应同种颜色的子像素图案分布区域的条件。
[0021]上述0LED像素图案蒸镀方法及系统具有的有益效果为:该0LED像素图案蒸镀方法及系统，用于在TFT背板上蒸镀像素图案。同时在TFT背板中，阳极表面为待蒸镀像素图案的分布区域，且仅有阳极透光。在此基础上，将TFT背板置于有机材料上方，且阳极面向有机材料后，再用激光向基板的背面扫描，由于仅有阳极透光，因此激光通过阳极即可将有机材料蒸镀于阳极表面。另外，由于激光扫描的区域至少包括阳极覆盖的所有区域，当激光扫描完成后即可将有机材料蒸镀于阳极的全部分布区域，从而形成完整的像素图案。
[0022]因此，该0LED像素图案蒸镀方法及系统只需利用激光对TFT背板进行扫描即可完成蒸镀，无需考虑在高分辨率要求下因使用FMM而带来的一系列工艺难度，克服了传统技术中因FMM工艺受限而不能够满足高分辨率的要求的问题，提高了显示屏的分辨率。
【附图说明】
[0023]图1为第一实施例的0LED像素图案蒸镀方法的步骤流程图。
[0024]图2为与图1所示实施例的0LED像素图案蒸镀方法对应的结构示意图。
[0025]图3为第二实施例的0LED像素图案蒸镀方法的流程图。
[0026]图4为与图3所示实施例的0LED像素图案蒸镀方法对应的结构示意图。
[0027]图5为第三实施例的0LED像素图案蒸镀方法的流程图。
[0028]图6为与图5所示实施例的0LED像素图案蒸镀方法中步骤S340对应的结构示意图。
[0029]图7为与图5所示实施例的0LED像素图案蒸镀方法对应的结构示意图。
【具体实施方式】
[0030]为了更清楚的解释本发明提供的OLED像素图案蒸镀方法及系统，以下结合实施例作具体的说明，其中，0LED均采用主动驱动方式，即每一个像素图案均配备具有开关功能的薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)，从而对各像素独立进行调节。
[0031]在第一实施例中，图1为第一实施例的0LED像素图案蒸镀方法的流程图。图2为与图1所示实施例的0LED像素图案蒸镀方法对应的结构示意图。
[0032]如图1、图2所示，该0LED像素图案蒸镀方法，用于向TFT背板110蒸镀像素图案。该TFT背板110包括基板、薄膜晶体管阵列及透明的阳极。其中，薄膜晶体管阵列及阳极均分布于基板的正面111，且薄膜晶体管阵列及阳极通过光刻的方式形成。需要说明的是，基板的正面111与背面112，分别为基板上方向相反且相互平行的两侧面。同时，在该TFT背板110上，阳极表面为待蒸镀像素图案的分布区域，即阳极的分布区域与待蒸镀像素图案的分布区域一一对应，且仅有阳极透光。
[0033]第一实施例提供的0LED像素图案蒸镀方法具体包括以下步骤。
[0034]S110、将有机材料120涂布于平台基板130上。
[0035]可以理解的是，步骤S110并非上述一种情况，例如若在执行该0LED像素图案蒸镀方法前，已经将有机材料120涂布于平台基板130上，则可将步骤S110略掉。
[0036]S120、如图2所示，将TFT背板110置于有机材料120上方，且阳极面向有机材料120，即基板的正面111朝向有机材料120，而基板的背面112远离有机材料120，以使得有机材料120能够蒸镀至阳极表面。
[0037]S130、在TFT背板110上方设置激光器140，也就是说激光器140是与基板的背面112相对。
[0038]可以理解的是，步骤S130并非上述一种情况，例如若在执行该0LED像素图案蒸镀方法前，已经在TFT背板110上方设置有激光器140，则可以将步骤S130省略。
[0039]S140、用激光向基板的背面112扫描，且激光扫描的区域至少包括阳极覆盖的所有区域。
[0040]当激光照射到TFT背板110中基板的背面112后，由于TFT背板110上仅有阳极透光，因此激光只能通过阳极的分布区域，并直射至有机材料120中与阳极正对的部分。之后，有机材料120在激光的作用下即可蒸镀至阳极表面，从而形成像素图案。同时由于激光扫描的区域至少包括阳极覆盖的所有区域，因此当激光扫描完成后，即可遍历所有的阳极分布区域，从而使得有机材料120最终蒸镀