一种等离子高效刻蚀机的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种等离子高效刻蚀机，包括反应腔体和分子泵，反应腔体的顶端固定设有多个高压气体喷嘴，在反应腔体的底部设有分子泵，在反应腔体的内部设有静电吸附盘、吸附件以及多个气流调节装置，静电吸附盘两端通过吸附件活动安装在反应腔体的内壁，在静电吸附盘的上下端均设置有多个气流调节装置，本发明结构原理简单，采用多个气流调节装置，能够快速调节反应腔内的气流，确保刻蚀的均匀性，同时采用的高压气体喷嘴，能够均匀喷出高压气体，进一步提高刻蚀的均匀性，提高产品合格率。
【专利说明】
一种等离子高效刻蚀机
技术领域
[0001 ]本发明涉及光伏刻蚀技术领域，具体为一种等离子高效刻蚀机。
【背景技术】
[0002]等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是将暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。
[0003]中国专利号“201310597934.3”公开了一种等离子体刻蚀设备，其优点在于:通过在现有的悬臂上增加一定数量的通孔，增加了气体的均匀性，从而改善了局部气流速度偏慢的现状，进而避免了晶圆表面的刻蚀速率的不均匀性，并最终提高了产品的良率;其不足之处在于:仅仅增加一定数量的通孔，在提高气体均匀性上效果不明显，而且从喷嘴中喷入反应腔体内的气体流速不均匀，导致产品良率低。
【发明内容】
[0004]本发明的目的在于提供一种等离子高效刻蚀机，以解决上述【背景技术】中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本发明提供如下技术方案:一种等离子高效刻蚀机，包括反应腔体和分子栗，所述反应腔体的顶端固定设有多个高压气体喷嘴，在所述反应腔体的底部设有分子栗，在所述反应腔体的内部设有静电吸附盘、吸附件以及多个气流调节装置，所述静电吸附盘两端通过吸附件活动安装在反应腔体的内壁，在所述静电吸附盘的上下端均设置有多个气流调节装置。
[0006]优选的，所述高压气体喷嘴包括头盖和底座，所述头盖和底座的配合面相抵，所述底座的轴向穿设有第一出气口，在所述第一出气口的一侧设有第二出气口，所述底座的径向设有第三出气口，且所述第二出气口和第三出气口相通，所述头盖上设有孔，所述孔内设有底座上设有的针尖。
[0007]优选的，所述气流调节装置包括稳流体、进气口、蜂窝片、气体调整器、出气口和过滤片，所述稳流体的一端设有进气口，所述稳流体的另一端设有出气口，所述稳流体的内部设有蜂窝片、气体调整器，所述蜂窝片位于进气口的一端，所述蜂窝片连接气体调整器，所述气体调整器的出口通过过滤片连接出气口，所述气体调整器内包括多个气流调节格栅，且所述气流调节格栅呈锥形。
[0008]优选的，所述气流调节装置设置4-8个，且所述静电吸附盘的上下端的气流调节装置数量一致。
[0009]优选的，其使用方法包括以下步骤:
A、将待刻蚀的硅片放置在静电吸附盘的上表面，之后分别打开多个高压气体喷嘴；
B、高压气体进入反应腔体内通过静电吸附盘上方多个气流调节装置调节稳流，使稳流后的气体均勾轰击被刻蚀材料的表面分子；
C、高压气体通过静电吸附盘下方多个气流调节装置再次调节稳流，使整个反应腔内的气体呈稳流状态；
D、反应后的易挥发气体通过分子栗抽出反应腔体外。
[0010]与现有技术相比，本发明的有益效果是:
(I)本发明结构原理简单，采用多个气流调节装置，能够快速调节反应腔体内的气流，确保刻蚀的均匀性，而且气流调节装置中气体调整器采用锥形气流调节格栅，能够对气流起到导向作用。
[0011](2)本发明采用的高压气体喷嘴，能够均匀喷出高压气体，进一步提高刻蚀的均匀性，提尚广品合格率。
【附图说明】
[0012]图1为本发明的整体结构示意图；
图2为本发明的高压气体喷嘴结构示意图；
图3为本发明的气流调节装置结构示意图；
图中:1、反应腔体;2、分子栗;3、高压气体喷嘴;4、静电吸附盘;5、吸附件;6、气流调节装置;7、头盖;8、底座;9、第一出气口； 10、第二出气口； 11、第三出气口； 12、孔；13、针尖;14、稳流体;15、进气口；16、蜂窝片；17、气体调整器;18、出气口；19、过滤片;20、气流调节格栅。
【具体实施方式】
[0013]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0014]请参阅图1-3，本发明提供一种技术方案:一种等离子高效刻蚀机，包括反应腔体I和分子栗2，反应腔体I的顶端固定设有多个高压气体喷嘴3，在反应腔体I的底部设有分子栗2，在反应腔体I的内部设有静电吸附盘4、吸附件5以及多个气流调节装置6，静电吸附盘4两端通过吸附件5活动安装在反应腔体I的内壁，在静电吸附盘4的上下端均设置有多个气流调节装置6。，气流调节装置6设置4-8个，且所述静电吸附盘4的上下端的气流调节装置6数量一致。
[0015]本实施例中，高压气体喷嘴3包括头盖7和底座8，头盖7和底座8的配合面相抵，底座8的轴向穿设有第一出气口 9，在第一出气口 9的一侧设有第二出气口 1，底座8的径向设有第三出气口 11，且第二出气口 10和第三出气口 11相通，头盖7上设有孔12，孔12内设有底座8上设有的针尖13，本发明采用的高压气体喷嘴，能够均匀喷出高压气体，进一步提高刻蚀的均匀性，提高产品合格率。
[0016]本实施例中，气流调节装置6包括稳流体14、进气口15、蜂窝片16、气体调整器17、出气口 18和过滤片19，稳流体14的一端设有进气口 15，稳流体14的另一端设有出气口 18，稳流体14的内部设有蜂窝片16、气体调整器17，蜂窝片16位于进气口 15的一端，蜂窝片16连接气体调整器17，气体调整器17的出口通过过滤片19连接出气口 18，气体调整器17内包括多个气流调节格栅20，且气流调节格栅20呈锥形。气体从进气口进入后，通过蜂窝片实现降低气体的速度，气体通过气体调整器实现稳压流动，而且气流调节装置中气体调整器采用锥形气流调节格栅，能够对气流起到导向作用，确保刻蚀的均匀性本发明的使用方法包括以下步骤:
A、将待刻蚀的硅片放置在静电吸附盘4的上表面，之后分别打开多个高压气体喷嘴3;
B、高压气体进入反应腔体I内通过静电吸附盘4上方多个气流调节装置6调节稳流，使稳流后的气体均勾轰击被刻蚀材料的表面分子；
C、高压气体通过静电吸附盘4下方多个气流调节装置6再次调节稳流，使整个反应腔体I内的气体呈稳流状态；
D、反应后的易挥发气体通过分子栗2抽出反应腔体I外。
[0017]各位技术人员须知:虽然本发明已按照上述【具体实施方式】做了描述，但是本发明的发明思想并不仅限于此发明，任何运用本发明思想的改装，都将纳入本专利专利权保护范围内。
【主权项】
1.一种等离子高效刻蚀机，包括反应腔体(I)和分子栗(2)，其特征在于:所述反应腔体(I)的顶端固定设有多个高压气体喷嘴(3)，在所述反应腔体(I)的底部设有分子栗(2)，在所述反应腔体(I)的内部设有静电吸附盘(4)、吸附件(5)以及多个气流调节装置(6)，所述静电吸附盘(4)两端通过吸附件(5)活动安装在反应腔体(I)的内壁，在所述静电吸附盘(4)的上下端均设置有多个气流调节装置(6)。2.根据权利要求1所述的一种等离子高效刻蚀机，其特征在于:所述高压气体喷嘴(3)包括头盖(7)和底座(8)，所述头盖(7)和底座(8)的配合面相抵，所述底座(8)的轴向穿设有第一出气口(9)，在所述第一出气口(9)的一侧设有第二出气口(10)，所述底座(8)的径向设有第三出气口(11)，且所述第二出气口(10)和第三出气口(11)相通，所述头盖(7)上设有孔(12)，所述孔(12)内设有底座(8)上设有的针尖(13)。3.根据权利要求1所述的一种等离子高效刻蚀机，其特征在于:所述气流调节装置(6)包括稳流体(14)、进气口(15)、蜂窝片(16)、气体调整器(17)、出气口(18)和过滤片(19)，所述稳流体(14)的一端设有进气口(20)，所述稳流体(14)的另一端设有出气口( 18)，所述稳流体(14)的内部设有蜂窝片(16)、气体调整器(17)，所述蜂窝片(16)位于进气口(15)的一端，所述蜂窝片(16)连接气体调整器(17)，所述气体调整器(17)的出口通过过滤片(19)连接出气口( 18)，所述气体调整器(17)内包括多个气流调节格栅(20)，且所述气流调节格栅(20)呈锥形。4.根据权利要求1所述的一种等离子高效刻蚀机，其特征在于:所述气流调节装置(6)设置4-8个，且所述静电吸附盘(4)的上下端的气流调节装置(6)数量一致。5.根据权利要求1所述的一种等离子高效刻蚀机，其特征在于:其使用方法包括以下步骤: A、将待刻蚀的硅片放置在静电吸附盘(4)的上表面，之后分别打开多个高压气体喷嘴(3)； B、高压气体进入反应腔体(I)内通过静电吸附盘(4)上方多个气流调节装置(6)调节稳流，使稳流后的气体均勾轰击被刻蚀材料的表面分子； C、高压气体通过静电吸附盘(4)下方多个气流调节装置(6)再次调节稳流，使整个反应腔体(I)内的气体呈稳流状态； D、反应后的易挥发气体通过分子栗(2)抽出反应腔体(I)外。
【文档编号】H01J37/32GK105845536SQ201610315819
【公开日】2016年8月10日
【申请日】2016年5月12日
【发明人】陈德榜
【申请人】温州海旭科技有限公司